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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。
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中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術(shù)的理解,本學期集成電路學院開設(shè)了《集成電路先進光刻技術(shù)與版圖設(shè)...
在PCB的制造和設(shè)計過程中,可能會出現(xiàn)一種叫做"死銅"的問題。本文將解析死銅在PCB上的含義、成因、對電路性能的影響以及解決方法。
2023-06-05 標簽:電路pcbPCB設(shè)計 1.8k 0
中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術(shù)的理解,本學期集成電路學院開設(shè)了《集成電路先進光刻技術(shù)與版圖設(shè)...
光刻技術(shù):光學關(guān)鍵尺寸測量(OCD)原理
集成電路芯片持續(xù)朝著密度不斷增加和器件尺寸不斷微縮的方向發(fā)展,其中最為關(guān)鍵的一個參數(shù)就是柵極線條寬度。任何經(jīng)過光刻后的光刻膠線條寬度或刻蝕后柵極線條...
EUV光刻技術(shù)仍被認為是實現(xiàn)半導體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟,預計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進步。
根據(jù)維基百科的定義,光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所...
昂圖科技的極大尺寸照射場高分辨率光刻系統(tǒng)克服了FOPLP圖形形變挑戰(zhàn)
異構(gòu)集成技術(shù)集成了多個來自不同制程與功能各異的芯片來達到更優(yōu)越的效能。在大尺寸的面板級封裝中,現(xiàn)存的步進式曝光機有著最大單一照射場(Exposure F...
光刻膠層透過掩模被曝光在紫外線之下,變得可溶,掩模上印著預先設(shè)計好得電路圖案,紫外線透過它照在光刻膠層上,就會形成每一層電路圖形。這個原理和老式膠片曝光類似。
設(shè)備由MEMS領(lǐng)域應用轉(zhuǎn)化到3D集成技術(shù)領(lǐng)域,表現(xiàn)出高對準精度特點。大多數(shù)對準、鍵合工藝都源于微機電系統(tǒng)(MEMS)制造技術(shù),但應用于3D集成的對準精度...
超快光譜學和半導體光刻領(lǐng)域皆依賴于非常短的波長,往往在極紫外extreme ultraviolet,EUV波段。然而,大多數(shù)光學材料強烈地吸收該波長范圍...
其全流程涉及了從 EUV 光源到反射鏡系統(tǒng),再到光掩模,再到對準系統(tǒng),再到晶圓載物臺,再到光刻膠化學成分,再到鍍膜機和顯影劑,再到計量學,再到單個晶圓。
加工技術(shù):IGBT芯片的加工技術(shù)包括晶圓制備、摻雜、光刻、腐蝕、沉積等方面。加工技術(shù)的發(fā)展可以提高芯片的制造精度和一致性。例如,采用新型的晶圓制備技術(shù),...
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