本文主要對接觸式三維測量和非接觸式三維測量進(jìn)行了介紹。著重介紹了光學(xué)三維測量技術(shù)的各種實現(xiàn)方法及原理。最后對目前光學(xué)三維測量的應(yīng)用進(jìn)行了簡單介紹。
2022-07-13 10:09:28
4794 壓印光刻是許多新興應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)，例如微光學(xué)、增強現(xiàn)實、MEMS和光電傳感器;但它是什么以及它是如何工作的?
2022-07-25 16:15:072070 
關(guān)于紅外雨量計（光學(xué)雨量傳感器）的紅外光學(xué)測量技術(shù) 紅外雨量計是一種常用的雨量測量設(shè)備，它通過紅外光學(xué)測量技術(shù)來測量雨量。紅外光學(xué)測量技術(shù)是指利用光學(xué)原理和儀器對物體的紅外輻射進(jìn)行測量、分析和處理
2023-08-11 14:50:301661 
雙光子光刻技術(shù)能夠精確制備三維結(jié)構(gòu)，并將其精準(zhǔn)集成在光電芯片上，能夠在光纖-芯片以及芯片-芯片之間，構(gòu)建大帶寬、低損耗的光信號鏈路，實現(xiàn)光信號的高效互連，降低封裝過程的對準(zhǔn)精度，給光學(xué)芯片的封裝過程帶來了全新的機(jī)遇。
2023-11-06 14:36:301813 
在關(guān)鍵尺寸的在線量測環(huán)節(jié)，所運用的設(shè)備主要涵蓋 CD-SEM 以及 OCD（optical critical dimention，光學(xué)關(guān)鍵尺寸）量測設(shè)備。
2025-03-06 16:42:103469 
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
300~500nmKrF：波長248.8nmArF：波長193nm衍射效應(yīng)對光刻圖案的影響左圖是理想的光強分布，由于光的衍射效應(yīng)，實際的光強分布如右圖所示。當(dāng)光的波長與mask的特征尺寸可比時，會產(chǎn)生明顯的衍射效應(yīng)。如上圖所示，透過mask的光相互疊加，使得不該受到光照的區(qū)域被曝光。
2014-09-26 10:35:02
光刻掩膜設(shè)計與加工制造服務(wù)，請問可以加工二元光學(xué)器件嗎？相位型光柵那種.
2024-04-22 06:24:37
?！ 槭裁葱枰狤UV光刻？ EUV的優(yōu)勢之一是減少了芯片處理步驟，而使用EUV代替?zhèn)鹘y(tǒng)的多重曝光技術(shù)將大大減少沉積、蝕刻和測量的步驟。目前EUV技術(shù)主要運用在邏輯工藝制程中，這導(dǎo)致了2019年訂單
2020-07-07 14:22:55
文章編號：1003-353X(2005)06-0032-051 引言作為微電子技術(shù)核心的集成電路制造技術(shù)是電子工業(yè)的基礎(chǔ)，其發(fā)展更新的速度是其他產(chǎn)業(yè)無法企及的。在集成電路制作過程中，光刻是其關(guān)鍵工藝[1
2018-08-23 11:56:31
光學(xué)3D表面輪廓儀是基于白光干涉技術(shù)，結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等快速、準(zhǔn)確測量物體表面的形狀和輪廓的檢測儀器。它利用光學(xué)投射原理，通過光學(xué)傳感器對物體表面進(jìn)行掃描，并根據(jù)反射光的信息來
2023-08-21 13:41:46
` 隨著傳感器技術(shù)、計算機(jī)應(yīng)用技術(shù)、超大規(guī)模集成電路技術(shù)和網(wǎng)絡(luò)通信技術(shù)的發(fā)展，光學(xué)測徑儀被廣泛的應(yīng)用于外徑檢測當(dāng)中，測徑儀隨著傳感器技術(shù)的愈加成熟，測量精度更高，測量更準(zhǔn)確，更適合現(xiàn)代化的生產(chǎn)工藝
2018-11-02 09:24:10
性化，可于不同倍率/不同光源下精密量測，知名度享譽世界及同業(yè)，且為美國第一大視覺量測制造廠。 2、光學(xué)影像檢測系統(tǒng)的作用 光學(xué)影像測量系統(tǒng)為現(xiàn)代制造機(jī)械的關(guān)鍵性設(shè)備，并廣泛應(yīng)用于機(jī)器視覺應(yīng)用領(lǐng)域，如
2012-08-07 22:14:19
成都力得納光科技有限公司本公司本著“誠信，創(chuàng)新”的原則，長期從事光學(xué)微結(jié)構(gòu)產(chǎn)品的研發(fā)、設(shè)計及生產(chǎn)制作 ，擁有專業(yè)的研發(fā)設(shè)計團(tuán)隊及良好的社會資源。公司承接業(yè)務(wù)范圍：光刻復(fù)制、激光直寫、微納結(jié)構(gòu)刻蝕傳遞
2016-06-23 16:14:13
光學(xué)測試技術(shù)光學(xué)測試技術(shù)
2012-11-20 16:47:57
現(xiàn)象在 1946 年由 Frank 和 Ginzburg 從理論上給予了預(yù)言[ 1] , 隨著測試技術(shù)的進(jìn)步、測量設(shè)備的更新和加速器研制的需要, 1975 年光學(xué)渡越輻射開始被用來測量和診斷電子束的束
2018-03-14 09:25:53
光學(xué)透過率測量儀（也稱為光透過率檢測儀）是一種專門用于測量材料透光率的儀器。以下是對其技術(shù)原理和應(yīng)用場景的詳細(xì)解析：技術(shù)原理光學(xué)透過率測量儀的技術(shù)原理主要基于光的透射原理。當(dāng)光線通過物質(zhì)時，會發(fā)
2024-10-16 14:38:31
CCD光學(xué)測量系統(tǒng)原理
2012-07-20 22:57:56
在DDRx里面經(jīng)常會被一些縮寫誤擾，如OCD、OCT和ODT，我想有同樣困擾的大有人在，今天還是繼續(xù)上一篇的關(guān)鍵技術(shù)來介紹一下大家的這些困擾吧。片外驅(qū)動調(diào)校OCD（Off-Chip Driver
2016-08-31 11:36:41
利用CCD進(jìn)行光學(xué)測量，想知道ccd拍攝圖像的灰度值與相面上的照度和曝光時間有什么關(guān)系？知道了想灰度值、曝光時間等參數(shù)怎樣求得相面上的照度
2013-07-08 19:54:50
三種常見的光刻技術(shù)方法根據(jù)暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術(shù)?！ 敉队笆奖┕馐抢猛哥R或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
測物體通過物鏡成像在CCD目標(biāo)表面上，而信號則由物鏡輸出，適當(dāng)?shù)靥幚鞢CD，提取測量對象的幾何信息，結(jié)合光學(xué)系統(tǒng)的變換特性，最后計算出測量尺寸。與普通的測量方法相比，使用CCD視覺檢測技術(shù)進(jìn)行測量
2021-04-10 11:38:28
什么是光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器？光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的主要技術(shù)指標(biāo)光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的研究進(jìn)展光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的應(yīng)用
2021-04-20 06:52:52
什么是RF MEMS？有哪些關(guān)鍵技術(shù)與器件？微電子機(jī)械系統(tǒng)(MicroElectroMechanicalSystem)，簡稱MEMS，是以微電子技術(shù)為基礎(chǔ)而興起發(fā)展的，以硅、砷化鎵、藍(lán)寶石等為襯底
2019-08-01 06:17:43
中國科學(xué)院大學(xué)（以下簡稱國科大）微電子學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院，國科大微電子學(xué)院開設(shè)的《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計優(yōu)化》課程是國內(nèi)少有的研究討論光刻技術(shù)的研究生課程，而開設(shè)課程
2021-10-14 09:58:07
優(yōu)勢在于測量大批量小型精密零部件，這對于質(zhì)量控制和生產(chǎn)流程的優(yōu)化至關(guān)重要。
圖像尺寸測量儀適用于哪些零部件？
1、圖像尺寸測量儀適用于各類機(jī)械零部件。
采用機(jī)器視覺技術(shù)，結(jié)合高精度圖像分析算法，并融入
2023-09-11 16:44:36
微型光學(xué)***模組，集感應(yīng)測量光路、微型機(jī)械構(gòu)造和數(shù)字/模擬微電子集成電路于一體，是高度微型化的機(jī)電一體化人機(jī)輸入模塊，其核心技術(shù)是光學(xué)***OFN（Optical Finger
2020-03-10 07:49:47
求一款大尺寸LCD光學(xué)量測系統(tǒng)的應(yīng)用方案
2021-06-01 07:14:32
【作者】：王艷茹;李斌成;劉明強;【來源】：《強激光與粒子束》2010年02期【摘要】：采用格林函數(shù)法,考慮徑向邊界條件和對流熱損失,理論上求解了有限尺寸高反射光學(xué)元件在激光作用下的熱傳導(dǎo)方程
2010-04-22 11:40:34
耳塞式光學(xué)心率測量
2021-01-21 06:56:41
我想使用 L6474 STATUS 寄存器的 OCD 標(biāo)志來檢測步進(jìn)電機(jī)受阻時機(jī)構(gòu)運動的結(jié)束。但是我們在這樣做時遇到了一些麻煩。如果 OCD_TH 中的電流小于 TVAL 中的電流，則在運動開始時
2022-12-07 07:54:35
期間內(nèi)外良好的光學(xué)對準(zhǔn)性?！ 」庾V-物理獨特的腔外倍頻技術(shù)是全固體Q激光里面的最高品質(zhì)。另外激光器關(guān)鍵器件諸如泵浦二極管、光纖、shutter、輸出窗口等是可以簡單的現(xiàn)場維修更換的，這就使得光譜-物理
2011-12-01 11:48:46
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
投影儀、影像測量儀等在效率上難以滿足用戶的測量需求。 全自動尺寸測量儀器將高精度遠(yuǎn)心光學(xué)鏡頭與智能化圖像處理技術(shù)相結(jié)合，并融入一鍵閃測原理，精度達(dá)到微米級
2022-06-14 15:26:37
中圖儀器基于3D光學(xué)成像測量非接觸、操作簡單、速度快等優(yōu)點，以光學(xué)測量技術(shù)創(chuàng)新為發(fā)展基礎(chǔ)，研發(fā)出了常規(guī)尺寸光學(xué)3D測量儀、微觀尺寸光學(xué)3D測量儀、大尺寸光學(xué)3D測量儀等，能提供從納米到百米的精密測量
2023-04-21 11:32:11
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
提要：本文討論了光學(xué)光刻中的離軸照明技術(shù)。主要從改善光刻分辨率、增大焦深、提高空間像對比度等方面對離軸照明與傳統(tǒng)照明作了比較，并用 仿真軟件進(jìn)行了模擬分析。研
2010-11-11 15:45:02
0 LED光學(xué)參數(shù)的測量技術(shù)和國家光度標(biāo)準(zhǔn)
2010-12-27 17:14:47115 納米級測量的檢測儀器。SuperViewW一鍵三維形貌光學(xué)檢測輪廓儀能以3D非接觸方式，測量分析樣品表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸，典型結(jié)果包括：表面形貌（粗糙度，平面度
2024-07-17 14:16:41
中圖儀器SuperViewW微觀形貌幾何尺寸光學(xué)輪廓測量儀以白光干涉技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等，以3D非接觸方式，測量分析樣品表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸?？蓽y各類從超光滑到粗糙
2024-07-26 16:15:05
OCD TMS570 CortexR4
2017-10-26 09:14:0317 光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-04-17 16:07:4135720 光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:004076 和汞燈作為曝光光源，其特征尺寸在微米級以上。90年代以來，為了適應(yīng)IC集成度逐步提高的要求，相繼出現(xiàn)了g譜線、h譜線、I譜線光源以及KrF、ArF等準(zhǔn)分子激光光源。目前光學(xué)光刻技術(shù)的發(fā)展方向主要表現(xiàn)
2018-06-27 15:43:5013171 Ｘ射線投影光刻的無污染激光等離子體光源、高分辨率大視場投影光學(xué)系統(tǒng)、無應(yīng)力光學(xué)裝調(diào)工藝、深亞納米級鏡面加工和多層膜制備、低缺陷反射式掩膜、表面成像光刻膠、精密掃描機(jī)構(gòu)等關(guān)鍵技術(shù)均取得了突破
2019-01-02 16:32:2329613 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計算機(jī)的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:536886 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計算機(jī)的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-12-21 09:58:4023322 海洋光學(xué)的光學(xué)測量系統(tǒng)，可用于LED、燈、平板顯示器、其它輻射源及太陽輻射的光譜輻射分析。新型的Jaz-ULM-200尺寸小巧，擁有強大的微處理器和低功耗顯示面板。它使用方便，用途廣泛，可以替代標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)計量儀和輻射計量儀。
2020-08-20 14:09:291099 作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機(jī)一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機(jī) 光刻機(jī)（Mask
2020-08-28 14:39:0415066 
光刻機(jī)被業(yè)界譽為集成電路產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，其研發(fā)的技術(shù)門檻和資金門檻非常高，全球光刻機(jī)主要制造廠商主要包括荷蘭的 ASML、日本的 Nikon、日本的 Cannon、美國的 Ultratech 以及
2020-09-02 17:41:006641 
導(dǎo)讀：光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。 光刻機(jī)的工作原理： 利用光刻
2022-12-23 13:34:5410099 近兩年來，芯片制造成為了半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的焦點。芯片制造離不開光刻機(jī)，而光刻技術(shù)則是光刻機(jī)發(fā)展的重要推動力。在過去數(shù)十載的發(fā)展中，光刻技術(shù)也衍生了多個分支，除了光刻機(jī)外，還包括光源、光學(xué)元件、光刻膠等材料設(shè)備，也形成了極高的技術(shù)壁壘和錯綜復(fù)雜的產(chǎn)業(yè)版圖。
2020-11-27 16:03:3621975 光刻技術(shù)的進(jìn)步使得器件的特征尺寸不斷減小，芯片的集成度和性能不斷提高。在摩爾定律的引領(lǐng)下,光學(xué)光刻技術(shù)經(jīng)歷了接觸/接近、等倍投影、縮小步進(jìn)投影、步進(jìn)掃描投影等曝光方式的變革。
2020-12-14 15:06:448831 集成電路設(shè)計發(fā)展到超深亞微米，其特征尺寸越來越小，并趨近于曝光系統(tǒng)的理論極限，光刻后硅片表面的成像將產(chǎn)生嚴(yán)重的畸變，即產(chǎn)生光學(xué)鄰近效應(yīng)（Optical Proximity Effect）。隨著光刻
2021-04-19 14:21:0215185 
OCD ICE 修復(fù)說明
2022-06-26 09:46:280 已全部加載完成
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