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標(biāo)簽 > 晶圓

晶圓

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晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。

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晶圓技術(shù)

氮化鎵半導(dǎo)體設(shè)備

按晶圓尺寸計(jì)算,GaN半導(dǎo)體器件市場的6英寸及以上GaN晶圓部分預(yù)計(jì)在預(yù)測(cè)期內(nèi)將錄得更高的復(fù)合年增長率。此尺寸范圍的晶圓使制造商能夠提高生產(chǎn)力并在單個(gè)批...

2023-02-12 標(biāo)簽:晶圓GaN半導(dǎo)體器件 793 0

硅基氮化鎵什么意思

硅基氮化鎵(GaN-on-silicon)LED始終備受世人的關(guān)注。在最近十年的初期,當(dāng) Bridgelux(普瑞光電)公司宣布該技術(shù)可減低 LED 照...

2023-02-12 標(biāo)簽:led晶圓硅基氮化鎵 1.7k 0

8英寸晶圓級(jí)膠體量子點(diǎn)短波/中波紅外焦平面成像陣列制備技術(shù)

論文中提出了一種捕獲型紅外器件工作原理及設(shè)計(jì)方法(圖1)。通過液相配體交換的方法,實(shí)現(xiàn)對(duì)量子點(diǎn)摻雜類型及濃度的精準(zhǔn)調(diào)控。在近本征量子點(diǎn)薄膜頂層涂覆具有強(qiáng)...

2023-02-10 標(biāo)簽:探測(cè)器晶圓芯片技術(shù) 2.5k 0

射頻硅基氮化鎵:兩個(gè)世界的最佳選擇

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在這種情況下,氮化鎵因其卓越的射頻性能而成為5G mMIMO無線電的領(lǐng)先大功率射頻功率放大器技術(shù)。然而,目前的實(shí)現(xiàn)方式成本過高。與硅基技術(shù)相比,氮化鎵生...

2023-02-10 標(biāo)簽:功率放大器晶圓氮化鎵 1.7k 0

LFPAK系列全新8*8封裝提升功率效率

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為了適應(yīng)業(yè)界對(duì)節(jié)省空間、提高功率密度和電流處理能力的需要,Nexperia大大改進(jìn)了最新的銅夾封裝。 LFPAK88結(jié)合了低RDSon和高ID,將功率密...

2023-02-10 標(biāo)簽:MOSFET晶圓封裝 3.1k 0

半導(dǎo)體行業(yè)之刻蝕工藝

等離子體圖形化刻蝕過程中,刻蝕圖形將影響刻蝕速率和刻蝕輪廓,稱為負(fù)載效應(yīng)。負(fù)載效應(yīng)有兩種:宏觀負(fù)載效應(yīng)和微觀負(fù)載效應(yīng)。

2023-02-08 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓刻蝕 5.2k 0

半導(dǎo)體制造工藝中的主要設(shè)備及材料【三】

設(shè)備功能:將兩片晶圓互相結(jié)合,并使表面原子互相反應(yīng),產(chǎn)生共價(jià)鍵合,合二為一,是實(shí)現(xiàn)3D晶圓堆疊的重要設(shè)備。

2023-02-07 標(biāo)簽:晶圓半導(dǎo)體制造 4.4k 0

刻蝕工藝基礎(chǔ)知識(shí)簡析

刻蝕速率是測(cè)量刻蝕物質(zhì)被移除的速率。由于刻蝕速率直接影響刻蝕的產(chǎn)量,因此刻蝕速率是一個(gè)重要參數(shù)。

2023-02-06 標(biāo)簽:晶圓SEM電子顯微鏡 8.1k 0

氮化鎵GaN晶圓的制造流程及應(yīng)用領(lǐng)域

第三代半導(dǎo)體材料禁帶寬度大,具有擊穿電場高、熱導(dǎo)率高、電子飽和速率高、抗輻射能力強(qiáng)等優(yōu)勢(shì)。因此采用第三代半導(dǎo)體材料制備的半導(dǎo)體器件能在更高的溫度下穩(wěn)定運(yùn)...

2023-02-05 標(biāo)簽:晶圓氮化鎵半導(dǎo)體器件 6.2k 0

中科院物理研究所實(shí)現(xiàn)8英寸碳化硅生長的突破

從6寸把它發(fā)展到8寸,這樣在襯底上做出來的器件,就可以降低單個(gè)器件的襯底所占的成本,這是一個(gè)國際上發(fā)展的趨勢(shì)。

2023-02-03 標(biāo)簽:晶圓SiC碳化硅 1.9k 0

芯片內(nèi)部,如何互聯(lián)?

隨著摩爾定律的放緩,芯粒(Chiplet)和異構(gòu)集成 (HI:heterogenous integration) 提供了一種令人信服的方式來繼續(xù)改進(jìn)性能...

2023-02-02 標(biāo)簽:芯片cpu晶圓 3.6k 0

什么是硅片?為什么硅片表面如此光滑?

拋光液必須現(xiàn)場調(diào)配,立即使用。通過測(cè)量容積或液位實(shí)時(shí)確保各種成分的配比,實(shí)現(xiàn)現(xiàn)配現(xiàn)磨。先進(jìn)的芯片制程采用非接觸式的稱重計(jì)量法來做配比,采用自動(dòng)化的高精密...

2023-02-02 標(biāo)簽:晶圓CMP硅片 8.8k 0

差動(dòng)放大器支持低功耗、高性能絕對(duì)值電路

差動(dòng)放大器支持低功耗、高性能絕對(duì)值電路

本文介紹如何配置雙通道差動(dòng)放大器(無需外部元件),以提供精密絕對(duì)值輸出。與傳統(tǒng)方法相比,這種創(chuàng)新方法可以實(shí)現(xiàn)更好的精度、更低的成本和更低的功耗。

2023-02-01 標(biāo)簽:整流器運(yùn)算放大器晶圓 5.8k 0

半導(dǎo)體制造工藝超薄晶圓磨削減薄技術(shù)解析

在后道制程階段,晶圓(正面已布好電路的硅片)在后續(xù)劃片、壓焊和封裝之前需要進(jìn)行背面減?。╞ackthinning)加工以降低封裝貼裝高度,減小芯片封裝體...

2023-01-29 標(biāo)簽:晶圓半導(dǎo)體制造 8.4k 0

晶圓級(jí)封裝Bump制造工藝關(guān)鍵點(diǎn)解析

射頻前端(RFFE,RadioFrequency Front-End)模組國內(nèi)外手機(jī)終端中廣泛應(yīng)用。它將功率放大器(PA,Power Amplifier...

2023-01-13 標(biāo)簽:晶圓封裝制造工藝 5.4k 0

半導(dǎo)體集成電路和晶圓有何關(guān)系?半導(dǎo)體晶圓制造工藝介紹

半導(dǎo)體集成電路是將許多元件集成到一個(gè)芯片中以處理和存儲(chǔ)各種功能的電子組件。由于半導(dǎo)體集成電路是通過在晶圓的薄基板上制造多個(gè)相同電路而產(chǎn)生的,因此晶圓是半...

2023-01-11 標(biāo)簽:集成電路晶圓晶圓制造 6.7k 0

臺(tái)積電3nm工藝技術(shù)細(xì)節(jié)解讀

最小 Lg 是溝道柵極控制的函數(shù),例如從具有不受約束的溝道厚度的單柵極平面器件轉(zhuǎn)移到具有 3 個(gè)柵極圍繞薄溝道的 FinFET,從而實(shí)現(xiàn)更短的 Lg。

2023-01-10 標(biāo)簽:臺(tái)積電晶圓3nm 5.9k 0

晶圓是什么?晶圓拋光機(jī)的定義及應(yīng)用

晶圓拋光機(jī)作為半導(dǎo)體晶圓拋光配備,主要優(yōu)點(diǎn)有新型實(shí)用、經(jīng)濟(jì)成本低、容易實(shí)現(xiàn)。

2023-01-06 標(biāo)簽:晶圓拋光機(jī) 3k 0

從PIC芯片至800G/1.6T系統(tǒng)測(cè)試解決方案

強(qiáng)大的自動(dòng)化水平:用于自動(dòng)化測(cè)試流程和數(shù)據(jù)管理的完整軟件套件;執(zhí)行復(fù)雜邏輯,如搜索、優(yōu)化和并行執(zhí)行;先進(jìn)的導(dǎo)航工具、可移植序列和邏輯學(xué)

2023-01-05 標(biāo)簽:晶圓測(cè)試系統(tǒng) 1.8k 0

半導(dǎo)體制造之等離子工藝詳解

與濕式刻蝕比較,等離子體刻蝕較少使用化學(xué)試劑,因此也減少了化學(xué)藥品的成本和處理費(fèi)用。

2022-12-29 標(biāo)簽:晶圓工藝等離子 4.3k 0

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