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標(biāo)簽 > 電子束
電子在電場中會受力而得到加速、提高能量，產(chǎn)生電子束。一臺電子加速器，注入的電子能量為20GeV（1GeV=109 eV，也就是10億電子伏特），相應(yīng)的電子速度為0.99999999979倍光速。電子經(jīng)加速器加速后，能量可達(dá)到100GeV，電子速度達(dá)到0.999999999987倍的光速。這說明，電子在這臺加速器里速度幾乎沒有增加，而能量增加了4倍。
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引言 示波器是一種廣泛應(yīng)用于電子測量領(lǐng)域的儀器，它能夠?qū)㈦娦盘柕牟ㄐ我詧D形的方式顯示出來，便于工程師對信號進(jìn)行分析和測量。示波器主要分為兩大類：電子示波...
2024-07-17 標(biāo)簽：模擬技術(shù)數(shù)字示波器電子束 1017 0
半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)
光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增...
2025-03-18 標(biāo)簽：半導(dǎo)體材料電子束光刻膠 951 0
再見鏡頭，你好超表面。所謂的超表面可以幫助使光學(xué)系統(tǒng)在未來變得更薄，同時增加其功能。 到目前為止，傳統(tǒng)的制造工藝通常只能實(shí)現(xiàn)小的超表面，通常小于一平方毫...
電子束光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)對納米結(jié)構(gòu)特征的精細(xì)控制
電子束光刻技術(shù)使得對構(gòu)成多種納米技術(shù)基礎(chǔ)的納米結(jié)構(gòu)特征實(shí)現(xiàn)精細(xì)控制成為可能。納米結(jié)構(gòu)制造與測量的研究人員致力于提升納米尺度下的光刻精度，并開發(fā)了涵蓋從光...
聚焦離子束一電子束(FIB-SEM)雙束系統(tǒng)原理
納米科技是當(dāng)前科學(xué)研究的前沿領(lǐng)域，納米測量學(xué)和納米加工技術(shù)在其中扮演著至關(guān)重要的角色。電子束和離子束等工藝是實(shí)現(xiàn)納米尺度加工的關(guān)鍵手段。特別是聚焦離子束...
包括。模擬示波器是一種用于測量和觀察電信號波形的儀器，它廣泛應(yīng)用于電子、通信、電力等領(lǐng)域。電子槍是模擬示波器中的一個重要組成部分，它負(fù)責(zé)產(chǎn)生高速電子束，...
簡單介紹FIB機(jī)臺的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。?? 首先，讓我們看一下FIB機(jī)臺的外觀圖 接下來，我們將FIB從中線剖開，是下圖這個樣子： 什么是雙束聚焦離子束顯微鏡？...
直接蝕刻和剝離是兩種比較流行的圖案轉(zhuǎn)移工藝。在直接蝕刻工藝中，首先使用光刻技術(shù)對聚合物抗蝕劑進(jìn)行構(gòu)圖，然后通過干法蝕刻技術(shù)用抗蝕劑作為掩模將圖案轉(zhuǎn)移到襯...
泊蘇 Type C 系列防震基座在半導(dǎo)體光刻加工電子束光刻設(shè)備的應(yīng)用案例
某大型半導(dǎo)體制造企業(yè)專注于高端芯片的研發(fā)與生產(chǎn)，其電子束光刻設(shè)備在芯片制造的光刻工藝中起著關(guān)鍵作用。然而，企業(yè)所在園區(qū)周邊存在眾多工廠，日常生產(chǎn)活動產(chǎn)生...
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，晶圓堪稱核心基石，其表面質(zhì)量直接關(guān)乎芯片的性能、可靠性與良品率。
EBSD技術(shù)在磁性材料研究中的應(yīng)用進(jìn)展
EBSD技術(shù)：磁性材料研究的新視角在材料科學(xué)研究中，對磁性材料的微觀結(jié)構(gòu)和晶體學(xué)特性的深入理解至關(guān)重要。電子背散射衍射（EBSD）技術(shù)，作為一種先進(jìn)的顯...
電子背散射衍射(EBSD)技術(shù)在孿晶結(jié)構(gòu)分析中的應(yīng)用研究
電子背散射衍射（EBSD）技術(shù)作為一種先進(jìn)的材料表征手段，其在孿晶分析中的應(yīng)用日益廣泛。EBSD技術(shù)通過分析掃描電鏡中電子束與樣品表面相互作用產(chǎn)生的衍射...
FIB系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)及其實(shí)際應(yīng)用
雙束技術(shù)：FIB與SEM的協(xié)同工作雙束聚焦離子束顯微鏡的關(guān)鍵在于其雙束技術(shù)，離子束（FIB）用于樣品的精確切割和蝕刻，而電子束（SEM）則捕捉樣品的高分...
SEM是掃描電鏡，英文全稱為ScanningElectronMicroscope。以下是關(guān)于掃描電鏡的一些基本信息：1、工作原理：掃描電鏡是一種利用電子...
桌面式掃描電鏡是掃描電子顯微鏡的一種類型，它在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、功能特點(diǎn)等方面都有自身獨(dú)特之處，以下從其定義、原理、特點(diǎn)、應(yīng)用場景等方面進(jìn)行具體介紹：1、定義與...
材料的物理和化學(xué)等諸多性質(zhì)都會影響掃描電鏡下的成像效果，以下是具體介紹：1、物理性質(zhì)（1）導(dǎo)電性：-對于導(dǎo)電性良好的材料，如金屬，電子束轟擊材料表面產(chǎn)生...
全面解析電子背散射衍射技術(shù)：原理、應(yīng)用與未來趨勢
EBSD技術(shù)概述電子背散射衍射（EBSD）是一種尖端的材料分析技術(shù)，它依托于高能電子與材料表面晶體結(jié)構(gòu)的交互作用，通過捕捉和解析由此產(chǎn)生的背散射電子的衍...
一種孔徑小于10納米的固態(tài)納米孔制備新技術(shù)
高質(zhì)量固態(tài)納米孔的制備是DNA測序、納流器件以及納濾膜等應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)。當(dāng)前，在無機(jī)薄膜材料中制備固態(tài)納米孔的主流方法是聚焦離子/電子束刻蝕。
獲得良好的衍射圖譜的前提是制備出優(yōu)質(zhì)的EBSD樣品
電子背散射衍射技術(shù)（EBSD）在材料科學(xué)領(lǐng)域，電子背散射衍射技術(shù)（EBSD）自20世紀(jì)90年代末期以來，已經(jīng)成為一種創(chuàng)新且不可或缺的分析工具。EBSD技...
在當(dāng)今時代，納米科學(xué)因其在眾多行業(yè)中引發(fā)的變革性應(yīng)用，已然成為促進(jìn)人類文明向前發(fā)展的重要驅(qū)動力。無論是在生物醫(yī)學(xué)、能源存儲還是航空宇宙領(lǐng)域，納米技術(shù)都展...
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