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標(biāo)簽 > DUV
duv就是深紫外光,主要是指波長(zhǎng)小于i-line365nm的紫外光,一般工業(yè)上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化學(xué)增幅型的光刻膠。
duv就是深紫外光,主要是指波長(zhǎng)小于i-line365nm的紫外光,一般工業(yè)上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化學(xué)增幅型的光刻膠。
duv主要利用光的折射原理。其中,浸沒(méi)式光刻機(jī)會(huì)在投影透鏡與晶圓之間,填入去離子水,使得193nm的光波等效至134nm。
在曝光過(guò)程中,掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1,分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離,隨著曝光次數(shù)...
光刻掩膜版保護(hù)膜常見(jiàn)的類(lèi)型有哪些?
掩膜版保護(hù)膜,mask pellicle,是一種透明的薄膜,在生產(chǎn)中覆蓋在掩膜版的表面。顧名思義,主要對(duì)掩膜版起物理與化學(xué)保護(hù)作用。
光照條件的設(shè)置、掩模版設(shè)計(jì)以及光刻膠工藝等因素對(duì)分辨率的影響都反映在k?因子中,k?因子也常被用于評(píng)估光刻工藝的難度,ASML認(rèn)為其物理極限在0.25,...
EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光,涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會(huì)將圖案打印到晶圓上,用于微芯片設(shè)計(jì)過(guò)程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 標(biāo)簽:芯片設(shè)計(jì)光刻EUV 3802 0
廈門(mén)大學(xué)康俊勇教授、尹君副教授課題組根據(jù)致病菌中遺傳物質(zhì)、蛋白質(zhì)的紫外光吸收特性,開(kāi)發(fā)了一種由275-nm氮化物L(fēng)ED組成的大功率(3.2 W)且輻照均...
SSMB就產(chǎn)生了和FEL類(lèi)似的“微聚束”,但是關(guān)鍵還加上了“穩(wěn)態(tài)”。FEL不是穩(wěn)態(tài),電子團(tuán)在波蕩器里自由互相作用,最后發(fā)出強(qiáng)光完事。SSMB是讓電子束在...
芯片制造和傳統(tǒng)IC封裝的生產(chǎn)有何不一樣
DUV是深紫外線,EUV是極深紫外線。從制程工藝來(lái)看,DUV只能用于生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造,并且還可以向5nm、3n...
國(guó)產(chǎn)***EUV與DUV的分類(lèi)
DUV是深紫外線(Deep Ultraviolet Lithography),EUV是極深紫外線(Extreme Ultraviolet Lithogr...
用于集成電路制造的光刻機(jī)有兩種:半導(dǎo)體光刻機(jī)和光學(xué)(光刻)光刻機(jī)。下面將分別介紹這兩種光刻機(jī)的相關(guān)知識(shí)。半導(dǎo)體光刻機(jī)是根據(jù)芯片制造的工藝和設(shè)備來(lái)劃分的,...
日本國(guó)立材料所成功研發(fā)金剛石DUV探測(cè)器
在超寬帶隙半導(dǎo)體領(lǐng)域,研究者們正致力于開(kāi)發(fā)具有超高增益的深紫外(DUV)光電探測(cè)器,以期達(dá)到與光電倍增管(PMT)相媲美的性能。這些探測(cè)器對(duì)于200-2...
2025-02-11 標(biāo)簽:探測(cè)器碳基半導(dǎo)體DUV 414 0
2023年全球五大晶圓廠設(shè)備制造商收入下滑1%,ASML躋身首位
其中,ASML及應(yīng)用材料兩家企業(yè)收入呈現(xiàn)正向增長(zhǎng),而泛林集團(tuán)(Lam Research)、東京電子(TEL)和科磊(KLA)則分別下滑25%、22%和8...
荷蘭政府撤銷(xiāo)ASML光刻機(jī)出口許可 中方回應(yīng)美停止對(duì)華供光刻機(jī)
在10-11月份中國(guó)進(jìn)口ASML的光刻機(jī)激增10多倍后,美國(guó)官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示,出口許可證是根據(jù)荷蘭國(guó)家安全逐案評(píng)估的。
用于日盲光通信的高效DUV微型LED和新型光電探測(cè)器的開(kāi)發(fā)
三五族氮化物半導(dǎo)體材料,包括氮化鎵,氮化鋁,氮化銦及其它們的合金,以其獨(dú)特的直接帶隙半導(dǎo)體特性和從0.6eV到6.2eV連續(xù)可調(diào)禁帶寬度特點(diǎn),非常適用于...
ASML監(jiān)事會(huì)擬任命Christophe Fouquet為總裁兼首席執(zhí)行官
asml首席執(zhí)行官Peter Wennink表示:“很高興能獲得到明年4月為止領(lǐng)導(dǎo)asml的強(qiáng)有力的接班人。christophe在asml工作了15年,...
2023-12-01 標(biāo)簽:半導(dǎo)體市場(chǎng)ASMLDUV 1130 0
阿斯麥的主要收入來(lái)源仍然是系統(tǒng)銷(xiāo)售,占據(jù)了公司收入的80%。收入同比增長(zhǎng),主要得益于下游客戶對(duì)ArF產(chǎn)品需求的增加,近兩個(gè)季度ArFi產(chǎn)品的收入占比已經(jīng)...
2023-10-20 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造ASMLDUV 1052 0
美國(guó)要求荷蘭ASML進(jìn)一步限制DUV***出口到中國(guó)
奮斗不息! ? 美國(guó)芯片法案-2022 1 對(duì)華限制 關(guān)注半導(dǎo)體行業(yè)的小伙伴們都知道,前不久美國(guó)商務(wù)部工業(yè)安全局(BIS)對(duì)中國(guó)實(shí)施了芯片出口管制措施,...
當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)到5nm時(shí),DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了,EUV光刻機(jī)就成為前道工序的必需品了,沒(méi)有它,很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯...
根據(jù)ASML官網(wǎng)信息顯示,該公司目前在售的主流浸沒(méi)式DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款,分別是TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2...
該公司必須根據(jù) 6 月份與美國(guó)達(dá)成的一項(xiàng)協(xié)議引入的許可制度,尋求批準(zhǔn)出口一些最先進(jìn)的技術(shù)——美國(guó)以安全問(wèn)題為由,試圖通過(guò)這種方式阻礙北京制造自己的芯片的能力。
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