半導體設備行業(yè)跟蹤報告：ALD技術進行薄膜沉積工藝優(yōu)勢

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半導體器件(33951) 半導體器件(33951)
晶圓制造(25194) 晶圓制造(25194)

淺談薄膜沉積

薄膜沉積工藝技術介紹薄膜沉積是在半導體的主要襯底材料上鍍一層膜。這層膜可以有各種各樣的材料，比如絕緣化合物二氧化硅，半導體多晶硅、金屬銅等。從半導體芯片制作工藝流程來說，位于前道工藝中。隨著

2024-11-01 11:08:07

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質(zhì)量流量控制器在薄膜沉積工藝中的應用

聽上去很高大上的“薄膜沉積”到底是什么？簡單來說：薄膜沉積就是幫芯片“貼膜”的。薄膜沉積（Thin Film Deposition）是在半導體的主要襯底材料上鍍一層膜，再配合蝕刻和拋光等工藝

2025-04-16 14:25:09

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半導體工藝幾種工藝制程介紹

　　半導體發(fā)展至今，無論是從結構和加工技術多方面都發(fā)生了很多的改進，如同Gordon E. Moore老大哥預測的一樣，半導體器件的規(guī)格在不斷的縮小，芯片的集成度也在不斷提升，工藝制程從90nm

2020-12-10 06:55:40

半導體工藝講座

半導體工藝講座ObjectiveAfter taking this course, you will able to? Use common semiconductor terminology

2009-11-18 11:31:10

半導體工藝技術的發(fā)展趨勢

　　業(yè)界對哪種半導體工藝最適合某一給定應用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術能更好地服務一些應用，但其它工藝技術也有很大的應用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP

2019-07-05 08:13:58

半導體技術天地

請教下以前的[半導體技術天地]哪里去了

2020-08-04 17:03:41

半導體技術如何變革汽車設計產(chǎn)業(yè)的

半導體技術是如何變革汽車設計產(chǎn)業(yè)的？

2021-02-22 09:07:43

半導體技術如何改進電控天線SWaP-C

多個數(shù)據(jù)流，并以超低的成本，延長工作壽命。有些應用需要抵消輸入阻塞信號的作用，降低攔截概率。正在席卷整個行業(yè)的相控天線設計為這些挑戰(zhàn)提供了解決辦法。人們開始采用先進的半導體技術解決相控陣天線過去存在的缺點，以最終

2021-01-20 07:11:05

半導體薄膜厚度檢測設備設備出售

蘇州華林科納半導體設備技術有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導體、太陽能、FPD領域濕制程設備的設計、研發(fā)、生產(chǎn)及銷售；同時代理半導體、太陽能、FPD領域其它國外設備，負責

2015-04-02 17:21:04

半導體行業(yè)的趨勢

半導體行業(yè)的趨勢是什么？在當前科技日新月異、需求層出不窮的背景下，芯片廠商如何找準自己的定位以不被時代淘汰？近日，EEWORLD記者有幸借助在硅谷舉辦的euroasia PRESS 拜訪Altera

2019-06-25 06:31:51

半導體制程

的積體電路所組成，我們的晶圓要通過氧化層成長、微影技術、蝕刻、清洗、雜質(zhì)擴散、離子植入及薄膜沉積等技術，所須制程多達二百至三百個步驟。半導體制程的繁雜性是為了確保每一個元器件的電性參數(shù)和性能，那么他的原理又是

2018-11-08 11:10:34

半導體制造的難點匯總

以及降低成本。由于半導體制造的工藝性涉及多個行業(yè)，專門從事供應的行業(yè)發(fā)展起來以提供硅片制造需要的化學材料和設備。眾多高技術公司于20世紀60年代成立：1968年，成立英特爾公司。1969年，成立AMD。20

2020-09-02 18:02:47

半導體廠商在家電變頻技術競爭

作為通訊乃至軍事行業(yè)的技術支撐者，半導體廠商曾經(jīng)離家用電器行業(yè)很“遠”，而現(xiàn)在，隨著家電應用市場和功能的擴展，消費者對家電產(chǎn)品的質(zhì)量和技術的要求越來越高，半導體廠商轉身成為了家電變頻技術的競技者

2019-06-21 07:45:46

半導體發(fā)展的四個時代

等公司是這一歷史階段的先驅(qū)?，F(xiàn)在，ASIC 供應商向所有人提供了設計基礎設施、芯片實施和工藝技術。在這個階段，半導體行業(yè)開始出現(xiàn)分化。有了設計限制，出現(xiàn)了一個更廣泛的工程師社區(qū)，它們可以設計和構建定制

2024-03-13 16:52:37

半導體發(fā)展的四個時代

公司是這一歷史階段的先驅(qū)?，F(xiàn)在，ASIC 供應商向所有人提供了設計基礎設施、芯片實施和工藝技術。在這個階段，半導體行業(yè)開始出現(xiàn)分化。有了設計限制，出現(xiàn)了一個更廣泛的工程師社區(qū)，它們可以設計和構建定制

2024-03-27 16:17:34

半導體塑封設備

本人小白，最近公司想上半導體器件的塑封生產(chǎn)線，主要是小型貼片器件封裝，例如sot系列。設備也不需要面面俱到，能進行小規(guī)模正常生產(chǎn)就行。哪位大神能告知所需設備的信息，以及這些設備的國內(nèi)外生產(chǎn)廠家，在此先行感謝！

2022-01-22 12:26:47

半導體測試解決方案

作者： Robert GeeMaxim Integrated核心產(chǎn)品事業(yè)部執(zhí)行業(yè)務經(jīng)理在半導體測試領域，管理成本依然是最嚴峻的挑戰(zhàn)之一，因為自動化測試設備(ATE)是一項重大的資本支出。那么，有沒有能夠降低每片晶圓的成本，從而提升競爭優(yōu)勢的方法呢？有，答案就是提高吞吐率。

2019-07-29 08:11:12

半導體清洗設備

蘇州晶淼專業(yè)生產(chǎn)半導體、光伏、LED等行業(yè)清洗腐蝕設備，可根據(jù)要求定制濕法腐蝕設備。晶淼半導體為國內(nèi)專業(yè)微電子、半導體行業(yè)腐蝕清洗設備供應商，歡迎來電咨詢。電話：***，13771786452王經(jīng)理

2016-09-05 10:40:27

半導體濕法腐蝕設備

行業(yè)及高等院校、研究所等高科技領域的生產(chǎn)和研發(fā)。我們的每臺設備除標準化制作外，還可根據(jù)客戶的工藝需求和工作環(huán)境的具體要求，對設備進行人性化、個性化設計。歡迎來電咨詢。電話：***，13771786452王經(jīng)理

2016-09-06 13:53:08

半導體生產(chǎn)行業(yè)檢測儀器遠程在線式塵埃粒子計數(shù)器

的跨越，裝備產(chǎn)業(yè)將是重要環(huán)節(jié)，其中需要更多的創(chuàng)新，才能引領中國半導體設備的發(fā)展，并推動我國芯片工藝制程和技術跨越式提升。3DFlash存儲器、人工智能芯片、MEMS/sensor芯片、GaN/SiC功率

2020-12-08 10:18:29

半導體電阻率測試方案解析

　　電阻率是決定半導體材料電學特性的重要參數(shù)，為了表征工藝質(zhì)量以及材料的摻雜情況，需要測試材料的電阻率。半導體材料電阻率測試方法有很多種，其中四探針法具有設備簡單、操作方便、測量精度高以及對樣品形狀

2021-01-13 07:20:44

半導體芯片行業(yè)的運作模式有哪些

半導體芯片行業(yè)的運作模式

2020-12-29 07:46:38

SPC在半導體在半導體晶圓廠的實際應用

）輸人計算機的數(shù)據(jù)必須及時真實可靠，不得進行人為篩選；（3）在數(shù)據(jù)波動比較大時，注意分析原材料、設備和環(huán)境等因素，避免盲目改變工藝條件，以免出現(xiàn)浪費。本文摘自《半導體技術》

2018-08-29 10:28:14

[轉帖]半導體技術

  ***********EMD代理美國SCI高精準薄膜度量系統(tǒng) 與軟件分析產(chǎn)品，美國SCI為世界薄膜度量系統(tǒng)和分析軟件行業(yè)的領軍者，其產(chǎn)品廣泛應用于半導體，OLED/LCD

2008-12-30 18:47:30

《炬豐科技-半導體工藝》半導體行業(yè)的濕化學分析——總覽

書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：半導體行業(yè)的濕化學分析——總覽編號：JFSJ-21-075作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html對液體和溶液進行

2021-07-09 11:30:18

《炬豐科技-半導體工藝》IC制造工藝

`書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：IC制造工藝編號：JFSJ-21-046作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要：集成電路的制造主要包括以下工藝

2021-07-08 13:13:06

《炬豐科技-半導體工藝》III-V/SOI 波導電路的化學機械拋光工藝開發(fā)

書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：III-V/SOI 波導電路的化學機械拋光工藝開發(fā)編號：JFSJ-21-064作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com

2021-07-08 13:14:11

《炬豐科技-半導體工藝》硅納米柱與金屬輔助化學蝕刻的比較

下方的蝕刻速率遠高于沒有金屬時的蝕刻速率，因此當半導體正被蝕刻在下方時，金屬層會下降到半導體中。4 本報告描述了使用 MacEtch 工藝制造 100 到 1000 nm 的納米柱。電子束光刻：硅晶片用

2021-07-06 09:33:58

《炬豐科技-半導體工藝》超大規(guī)模集成電路制造技術簡介

`書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：超大規(guī)模集成電路制造技術簡介編號：JFSJ-21-076作者：炬豐科技概括VLSI制造中使用的材料材料根據(jù)其導電特性可分為三大類：絕緣體導體半導體

2021-07-09 10:26:01

【維信諾集團】號外！號外！AMOLED熱門職位全面開放~~~

及以上學歷，物理、材料、化學、或半導體專業(yè)，至少1年工作經(jīng)驗，CET-4以上；1.熟悉薄膜制備的方法和表征手段，具有PECVD、ALD、噴墨打印或閃蒸發(fā)等相關薄膜沉積工作經(jīng)驗；2.熟悉真空設備相關

2017-02-08 17:23:27

為什么說移動終端發(fā)展引領了半導體工藝新方向？

哪種半導體工藝最適合某一指定應用？對此，業(yè)界存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術能更好地服務一些應用，但其它工藝技術也有很大的應用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP

2019-08-02 08:23:59

低阻抗功率半導體開關有哪些關鍵特性和應用優(yōu)勢？

什么是堆疊式共源共柵？低阻抗功率半導體開關有哪些關鍵特性？低阻抗功率半導體開關有哪些應用優(yōu)勢？

2021-06-26 06:14:32

單片機晶圓制造工藝及設備詳解

今日分享晶圓制造過程中的工藝及運用到的半導體設備。晶圓制造過程中有幾大重要的步驟：氧化、沉積、光刻、刻蝕、離子注入/擴散等。這幾個主要步驟都需要若干種半導體設備，滿足不同的需要。設備中應用較為廣泛

2018-10-15 15:11:22

國產(chǎn)設備如何立足半導體市場

。從產(chǎn)業(yè)政策方面講，國家對設備制造業(yè)的支持力度也不夠大，研發(fā)投入少得可憐。而且，國內(nèi)設備制造業(yè)與工藝生產(chǎn)相脫節(jié)，缺乏工藝方面的支撐，其研發(fā)周期相對較長。更為重要的是，長期以來，我國半導體設備行業(yè)落后

2008-08-16 23:05:04

提供半導體二手及翻新設備（前道和后道）

的設備。可供應翻新半導體工藝設備包括：光刻機步進光刻機涂膠顯影化學濕臺沉積設備劃片及磨片設備電子束蒸發(fā) CVD沉積設備刻蝕設備離子注入機顯微鏡探針臺薄膜測厚儀表面檢測設備鍵合機

2009-10-14 11:05:53

摩爾定律推動了整個半導體行業(yè)的變革

行業(yè)的“傳奇定律”——摩爾定律就此誕生，它不僅揭示了信息技術進步的速度，更在接下來的半個實際中，猶如一只無形大手般推動了整個半導體行業(yè)的變革。

2019-07-01 07:57:50

最全最詳盡的半導體制造技術資料，涵蓋晶圓工藝到后端封測

——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜，再到測試封裝，一目了然。全書共分20章，根據(jù)應用于半導體制造的主要技術分類來安排章節(jié)，包括與半導體制造相關的基礎技術信息；總體流程圖

2025-04-15 13:52:11

有關半導體工藝的問題

circuit technique ）（百度百科）電子集成技術按工藝方法分為以硅平面工藝為基礎的單片集成電路、以薄膜技術為基礎的薄膜集成電路和以絲網(wǎng)印刷技術為基礎的厚膜集成電路。 半導體工藝是集成電路工藝

2009-09-16 11:51:34

標題:群“芯”閃耀的半導體行業(yè)

的產(chǎn)品附加值保證了產(chǎn)業(yè)利潤仍大幅提升，盈利能力也大大增強。另外，我國半導體產(chǎn)業(yè)集中度很低，上市公司大多是各個細分行業(yè)的龍頭，但行業(yè)代表性并不高。由于在技術和規(guī)模上的優(yōu)勢，其利潤率水平也要高于行業(yè)平均水平

2008-09-23 15:43:09

淺析化合物半導體技術

美元增長到2022年25億美元1。此外，隨著通信行業(yè)對器件性能的要求逐漸提高，GaN、GaAs等化合物半導體器件的優(yōu)勢逐漸顯現(xiàn)，傳統(tǒng)硅工藝器件逐漸被取代，預計到2025年，化合物半導體將占據(jù)射頻器件市場份額的80%以上。

2019-06-13 04:20:24

蘇州華林科納半導體設備技術有限公司招賢納士

刻蝕工藝以滿足工藝集成要求; 3、與其他工程師緊密配合，進行半導體工藝流程分析任職要求： 1、大學本科學歷（含）以上 2、掌握半導體基礎理論，制品及器件技術，熟悉設備、工藝、制造等相關內(nèi)容

2016-10-26 17:05:04

請問一下8寸原子層沉積設備ALD，單晶片。國內(nèi)設備大約在什么價位?。?/a>

請問一下8寸原子層沉積設備ALD，單晶片。國內(nèi)設備大約在什么價位??？

2023-06-16 11:12:27

半導體設備治具清洗爐-新工藝

半導體設備用治具的清洗爐（Vacuum Bake Cleaner）●該設備用于去除附著在 MOCVD 托盤和零部件上的沉積物（GaN、AlN 等）。采用潔凈氣體的干式清洗法，因此不需要濕法后道處

2022-01-14 14:21:00

沉積薄膜高度臺階儀

中圖儀器NS系列沉積薄膜高度臺階儀能夠測量納米到330μm或1050μm的臺階高度，可以準確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。NS系列沉積薄膜高度臺階儀主要

2024-10-09 15:59:48

半導體制程之薄膜沉積

半導體制程之薄膜沉積在半導體組件工業(yè)中，為了對所使用的材料賦與某種特性，在材料表面上常以各種方法形成被膜而加以使用，假如

2009-03-06 17:14:58

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半導體藥液單元

半導體藥液單元（Chemical Delivery Unit, CDU）是半導體前道工藝（FEOL）中的關鍵設備，用于精準分配、混合和回收高純化學試劑（如蝕刻液、清洗液、顯影液等），覆蓋光刻、蝕刻

2025-06-17 11:38:08

ALD技術半導體工藝領域發(fā)展及應用

由于低溫沉積、薄膜純度以及絕佳覆蓋率等固有優(yōu)點，ALD（原子層淀積）技術早從21世紀初即開始應用于半導體加工制造。DRAM電容的高k介電質(zhì)沉積率先采用此技術，但近來ALD在其它半導體工藝領域也已發(fā)展

2018-02-13 03:16:00

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泛林集團宣布推出一種用于沉積低氟填充鎢薄膜的新型原子層沉積（ALD）工藝

泛林集團宣布推出一種用于沉積低氟填充鎢薄膜的新型原子層沉積（ALD）工藝，標志著其業(yè)界領先的 ALTUS? 產(chǎn)品系列又添新成員。通過業(yè)內(nèi)首創(chuàng)的低氟鎢（LFW） ALD 工藝，ALTUS Max

2018-05-24 17:19:00

3486

全球薄膜沉積設備市場規(guī)模至2025年有望達到340億美元

沉積是半導體制造工藝中的一個非常重要的技術，其是一連串涉及原子的吸附、吸附原子在表面擴散及在適當?shù)奈恢孟戮劢Y，以漸漸形成薄膜并成長的過程。在一個新晶圓投資建設中，晶圓廠80%的投資用于購買設備。其中，薄膜沉積設備是晶圓制造的核心步驟之一，占據(jù)著約25%的比重。

2020-09-07 15:50:10

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淺談ALD在半導體先進制程的應用

說明：若有考慮不周，歡迎留言指正。原子層沉積在半導體先進制程的應用隨著集成電路工藝技術的不斷提高，晶體管的特征尺寸及刻蝕溝槽不斷減小，溝槽及其側壁的鍍膜技術面臨嚴峻的挑戰(zhàn)，物理氣相沉積（PVD

2021-04-17 09:43:21

23544

第三代半導體熱潮“帶貨”沉積設備需求，供應鏈與服務本地化成關鍵考量

業(yè)界主流的薄膜沉積工藝主要有原子層沉積（ALD）、物理式真空鍍膜（PVD）和化學式真空鍍膜（CVD）等，其中ALD屬于CVD的一種，屬于當下最先進的薄膜沉積技術。

2021-09-03 11:12:42

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原子層沉積（ALD）工藝助力實現(xiàn)PowderMEMS技術平臺

Fraunhofer ISIT的PowderMEMS是一項新研發(fā)的創(chuàng)新技術，用于在晶圓級上從多種材料中創(chuàng)建三維微結構。該技術基于通過原子層沉積（ALD）工藝在空腔中將微米級粉末顆粒粘合在一起。

2022-03-17 09:46:23

3303

如何解決主要的 ALD 和 ALE 半導體工藝挑戰(zhàn)

在高精密的半導體制造領域，一些重要的流體系統(tǒng)組件質(zhì)量是成本門檻。例如，在原子層沉積 (ALD) 和原子層蝕刻 (ALE) 工藝中，—隨著工藝節(jié)點變得越來越小而日益難以維持—，系統(tǒng)中使用的任何組件均應

2022-09-02 13:19:01

3988

「芯品動態(tài)」盛美新型熱ALD立式爐設備滿足高端半導體生產(chǎn)需求

盛美半導體設備（上海）股份有限公司對其300mm Ultra Fn立式爐干法工藝平臺進行了功能擴展，研發(fā)出新型Ultra Fn A立式爐設備。該設備的熱原子層沉積（ALD）功能豐富了盛美上海立式爐系列設備的應用。首臺Ultra Fn A立式爐設備已于9月底運往中國一家先進的邏輯制造商。

2022-11-01 09:18:15

2626

原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD）

由于 ALD 技術逐層生長薄膜的特點，所以 ALD 薄膜具有極佳的合階覆蓋能力，以及極高的沉積均勻性和一致性，同時可以較好她控制其制備薄膜的厚度、成分和結構，因此被廣泛地應用在微電子領域。

2022-11-07 10:43:16

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Beneq和LZH合作開發(fā)空間ALD系統(tǒng)，可快速在復雜光學元件上鍍膜

Hannover（簡稱：LZH）合作開發(fā)了一種新的空間ALD系統(tǒng)，該系統(tǒng)實現(xiàn)“以前所未有的速度在復雜形狀的光學元件上涂覆薄膜層”。 Beneq的ALD系統(tǒng)（稱為C2R）可實現(xiàn)高達200 rpm的速度，沉積速率高達1 μm/h。LZH指出，ALD是一種自限性和各向同性工藝，每個周期產(chǎn)生大約1埃的層厚度。這

2022-12-22 16:30:24

5590

晶圓制造的三大核心之薄膜沉積的原子層沉積（ALD）技術

ALD技術是一種將物質(zhì)以單原子膜的形式逐層鍍在基底表面的方法，能夠?qū)崿F(xiàn)納米量級超薄膜的沉積。

2023-04-25 16:01:05

6836

中微公司推出12英寸薄膜沉積設備Preforma Uniflex? CW

近日，中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”，上交所股票代碼：688012）推出自主研發(fā)的12英寸低壓化學氣相沉積（LPCVD）設備Preforma Uniflex CW。這是中微公司深耕高端微觀加工設備多年、在半導體薄膜沉積領域取得的新突破，也是實現(xiàn)公司業(yè)務多元化增長的新動能。

2023-05-17 17:08:41

1677

基于PVD 薄膜沉積工藝

。 PVD 沉積工藝在半導體制造中用于為各種邏輯器件和存儲器件制作超薄、超純金屬和過渡金屬氮化物薄膜。最常見的 PVD 應用是鋁板和焊盤金屬化、鈦和氮化鈦襯墊層、阻擋層沉積和用于互連金屬化的銅阻擋層種子沉積。 PVD 薄膜沉積工藝需要一個高真空的平臺，在

2023-05-26 16:36:51

6033

薄膜電容的原理工藝薄膜電容和電解電容的區(qū)別

薄膜電容是指將金屬膜或半導體薄膜沉積在絕緣基板上，然后制成電容器。這種電容器具有結構簡單、體積小、重量輕、可靠性高等特點，被廣泛應用于電子設備領域。本文將從薄膜電容的基本原理、制備工藝、應用領域等方面進行介紹。

2023-05-31 14:24:55

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原子層ALD沉積介紹

原子層沉積（Atomic layer deposition，ALD）是一種可以沉積單分子層薄膜的特殊的化學氣相沉積技術。

2023-06-15 16:19:21

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韞茂科技獲數(shù)億元融資，加快薄膜沉積設備量產(chǎn)

韞茂科技成立于2018年，致力于成為平臺形態(tài)的納米級薄膜沉積設備制造企業(yè)。目前擁有ald原子層沉積系統(tǒng)、pvd物理氣體沉積系統(tǒng)、cvd化學氣體沉積系統(tǒng)、uhv超高真空涂層設備等12種產(chǎn)品。

2023-06-28 10:41:03

1598

半導體行業(yè)關鍵技術ALD：這家公司是龍頭！

在半導體制造過程中，每個半導體元件的產(chǎn)品都需要經(jīng)過數(shù)百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝，前道工藝是整個制造過程中最為重要的部分，它關系到半導體芯片的基本結構和特性的形成，涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟，技術難點多，操作復雜。

2023-06-28 16:54:06

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半導體前端工藝：沉積——“更小、更多”，微細化的關鍵（上）

在半導體制程中，移除殘余材料的“減法工藝”不止“刻蝕”一種，引入其他材料的“加法工藝”也非“沉積”一種。比如，光刻工藝中的光刻膠涂敷，其實也是在基底上形成各種薄膜；又如氧化工藝中晶圓（硅）氧化，也需要在基底表面添加各種新材料。那為什么唯獨要強調(diào)“沉積”工藝呢？

2023-06-29 16:58:37

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半導體前端工藝之沉積工藝

在前幾篇文章（點擊查看），我們一直在借用餅干烘焙過程來形象地說明半導體制程。在上一篇我們說到，為制作巧克力夾心，需通過“刻蝕工藝”挖出餅干的中間部分，然后倒入巧克力糖漿，再蓋上一層餅干層。“倒入巧克力糖漿”和“蓋上餅干層”的過程在半導體制程中就相當于“沉積工藝”。

2023-06-29 16:56:17

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詳解半導體前端工藝之沉積工藝

和在刻蝕工藝中一樣，半導體制造商在沉積過程中也會通過控制溫度、壓力等不同條件來把控膜層沉積的質(zhì)量。例如，降低壓強，沉積速率就會放慢，但可以提高垂直方向的沉積質(zhì)量。因為，壓強低表明設備內(nèi)反應氣體粒子

2023-07-02 11:36:40

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ALD是什么？半導體制造的基本流程

2023-07-11 11:25:55

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技術前沿：原子層沉積ALD介紹

薄膜沉積是指在基底上沉積特定材料形成薄膜，使之具有光學、電學等方面的特殊性能。

2023-07-13 09:10:48

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半導體前端工藝：沉積——“更小、更多”，微細化的關鍵

2023-08-17 15:33:27

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傳日本更可能實施對光刻/薄膜沉積設備的出口管制；商湯科技多部門啟動裁員最高幅度達15%，賠償N+2

熱點新聞 1、傳日本更可能實施對光刻/薄膜沉積設備的出口管制據(jù)報道，隨著日本對華半導體設備出口禁令于7月23日正式生效，業(yè)內(nèi)普遍想知道這將對中國半導體行業(yè)產(chǎn)生的影響。此次出口管制共計23品類半導體

2023-08-28 16:45:01

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ALD技術工藝原理、優(yōu)勢及應用

面對真空鍍膜多元的應用市場，鍍膜技術的發(fā)展也從傳統(tǒng)的蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)技術，相繼發(fā)展出PECVD、ALD原子層沉積技術、磁控濺射技術等等，技術地位日益凸顯。本報告嘉賓來自國內(nèi)半導體設備龍頭企業(yè)無錫邑

2023-10-18 11:33:44

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半導體檢測設備行業(yè)專題報告.zip

半導體檢測設備行業(yè)專題報告

2023-01-13 09:06:48

半導體硅片行業(yè)深度報告.zip

半導體硅片行業(yè)深度報告

2023-01-13 09:06:49

半導體行業(yè)深度報告.zip

半導體行業(yè)深度報告

2023-01-13 09:06:51

半導體設備系列研究-薄膜沉積設備.zip

半導體設備系列研究-薄膜沉積設備

2023-01-13 09:06:52

行業(yè)專題報告_半導體檢測設備行業(yè)專題報告.zip

行業(yè)專題報告_半導體檢測設備行業(yè)專題報告

2023-01-13 09:07:46

半導體前端工藝（第五篇）：沉積——“更小、更多”，微細化的關鍵

半導體前端工藝（第五篇）：沉積——“更小、更多”，微細化的關鍵

2023-11-27 16:48:42

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半導體制造之薄膜工藝講解

薄膜沉積技術主要分為CVD和PVD兩個方向。 PVD主要用來沉積金屬及金屬化合物薄膜,分為蒸鍍和濺射兩大類，目前的主流工藝為濺射。CVD主要用于介質(zhì)/半導體薄膜，廣泛用于層間介質(zhì)層、柵氧化層、鈍化層等工藝。

2023-12-05 10:25:18

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薄膜電容的工藝與結構介紹

薄膜電容是一種常見的電子元件，其具有體積小、重量輕、容量大、可靠性高等優(yōu)點，廣泛應用于各種電子設備中。薄膜電容的工藝與結構對其性能和可靠性有著重要的影響。本文將對薄膜電容的工藝與結構進行詳細的介紹

2024-01-10 15:41:54

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流量控制器在半導體加工工藝化學氣相沉積（CVD）的應用

薄膜沉積是在半導體的主要襯底材料上鍍一層膜。這層膜可以有各種各樣的材料，比如絕緣化合物二氧化硅，半導體多晶硅、金屬銅等。用來鍍膜的這個設備就叫薄膜沉積設備。薄膜制備工藝按照其成膜方法可分為兩大類

2024-03-28 14:22:41

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周星工程研發(fā)ALD新技術，引領半導體工藝革新

在半導體技術日新月異的今天，韓國半導體廠商周星工程（Jusung Engineering）憑借其最新研發(fā)的原子層沉積（ALD）技術，再次在全球半導體行業(yè)中引起了廣泛關注。據(jù)韓媒報道，這項技術能夠在生產(chǎn)先進工藝芯片時顯著降低極紫外光刻（EUV）工藝步驟的需求，為半導體制造領域帶來了革命性的突破。

2024-07-17 10:25:08

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半導體靶材：推動半導體技術飛躍的核心力量

半導體靶材是半導體材料制備過程中的重要原料，它們在薄膜沉積、物理氣相沉積（PVD）、化學氣相沉積（CVD）等多種技術中發(fā)揮著關鍵作用。本文將詳細介紹半導體靶材的種類以及它們在半導體產(chǎn)業(yè)中的作用和意義。

2024-09-02 11:43:25

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SOLMATES：準分子激光器推進脈沖激光沉積

挑戰(zhàn) 薄膜沉積技術應用于多種市場，例如 MEMS、半導體、光伏、OLED 顯示屏和用于 5G 通信的射頻濾波器。新型復雜材料系統(tǒng)具有越來越重要的材料特性，這就要求對薄膜沉積技術進行不斷擴展和質(zhì)量

2024-09-19 06:22:28

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一文詳解半導體薄膜沉積工藝

半導體薄膜沉積工藝是現(xiàn)代微電子技術的重要組成部分。這些薄膜可以是金屬、絕緣體或半導體材料，它們在芯片的各個層次中發(fā)揮著不同的作用，如導電、絕緣、保護等。薄膜的質(zhì)量直接影響到芯片的性能、可靠性和成本。

2024-10-31 15:57:45

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半導體FAB中常見的五種CVD工藝

Hello,大家好，今天來分享下半導體FAB中常見的五種CVD工藝。化學氣相沉積（CVD）主要是通過利用氣體混合的化學反應在硅片表面沉積一層固體膜的工藝。在 CVD 工藝過程中，化合物會進行充分

2025-01-03 09:47:34

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原子層沉積（ALD, Atomic Layer Deposition）詳解

? 本文介紹了什么是原子層沉積（ALD, Atomic Layer Deposition）。 1.原理：基于分子層級的逐層沉積 ALD 是一種精確的薄膜沉積技術，其核心原理是利用化學反應的“自限性

2025-01-17 10:53:44

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半導體制造里的ALD工藝：比“精”更“精”！

在半導體制造這一高度精密且不斷進步的領域，每一項技術都承載著推動行業(yè)發(fā)展的關鍵使命。原子層沉積（Atomic Layer Deposition，簡稱ALD）工藝，作為一種先進的薄膜沉積技術，正逐漸成為半導體制造中不可或缺的一環(huán)。本文將深入探討半導體中為何會用到ALD工藝，并分析其獨特優(yōu)勢和應用場景。

2025-01-20 11:44:44

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ALD和ALE核心工藝技術對比

ALD 和 ALE 是微納制造領域的核心工藝技術，它們分別從沉積和刻蝕兩個維度解決了傳統(tǒng)工藝在精度、均勻性、選擇性等方面的挑戰(zhàn)。兩者既互補又相輔相成，未來在半導體、光子學、能源等領域的聯(lián)用將顯著加速

2025-01-23 09:59:54

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半導體薄膜沉積技術的優(yōu)勢和應用

在半導體制造業(yè)這一精密且日新月異的舞臺上，每一項技術都是推動行業(yè)躍進的關鍵舞者。其中，原子層沉積（ALD）技術，作為薄膜沉積領域的一顆璀璨明星，正逐步成為半導體工藝中不可或缺的核心要素。本文旨在深度剖析為何半導體制造對ALD技術情有獨鐘，并揭示其獨特魅力及廣泛應用。

2025-01-24 11:17:21

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