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GT ASF材料能夠?qū)崿F(xiàn)最高的LED晶圓產(chǎn)量

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鍵合技術是將兩片不同結(jié)構(gòu)/不同材質(zhì)的,通過一定的物理方式結(jié)合的技術。鍵合技術已經(jīng)大量應用于半導體器件封裝、材料及器件堆疊等多種半導體應用領域。
2023-10-24 12:43:242895

WD4000無圖幾何量測系統(tǒng)

檢測機,又稱為半導體芯片自動化檢測設備,是用于對半導體芯片的質(zhì)量進行檢驗和測試的專用設備。它可以用于硅片、硅、LED芯片等半導體材料的表面檢測,通過對的表面特征進行全面檢測,可以有效降低
2023-10-25 15:53:390

靜電對有哪些影響?怎么消除?

靜電對有哪些影響?怎么消除? 靜電是指由于物體帶電而產(chǎn)生的現(xiàn)象,它對產(chǎn)生的影響主要包括制備過程中的污染和設備故障。在制備過程中,靜電會吸附在表面的灰塵和雜質(zhì),導致質(zhì)量下降;而
2023-12-20 14:13:072131

不同材料級封裝中的作用

共讀好書 本篇文章將探討用于級封裝(WLP)的各項材料,從光刻膠中的樹脂,到承載系統(tǒng)(WSS)中的粘合劑,這些材料均在級封裝中發(fā)揮著重要作用。 光刻膠(Photoresists, PR
2024-02-18 18:16:312250

TC WAFER 測溫系統(tǒng) 儀表化溫度測量

“TC WAFER 測溫系統(tǒng)”似乎是一種用于測量(半導體制造中的基礎材料)溫度的系統(tǒng)。在半導體制造過程中,溫度的控制至關重要,因為它直接影響到制造出的芯片的質(zhì)量和性能。因此,準確的
2024-03-08 17:58:261956

印度首家能夠加工300mm的商業(yè)設施誕生!

美國半導體設備制造商應用材料公司在印度班加羅爾開設了一個驗證中心,標志著印度首家能夠加工300mm的商業(yè)設施誕生。
2024-03-12 10:03:031288

是什么東西 和芯片的區(qū)別

是半導體制造過程中使用的一種圓形硅片,它是制造集成電路(IC)或芯片的基礎材料。
2024-05-29 18:04:4516610

二維材料 ALD 的級集成變化

, ForLab PICT2DES)項目旨在實現(xiàn)級微電子和微系統(tǒng)技術的高級應用。二維(2D)材料(比如過渡金屬硫化物 (TMD))所具有的獨特光學、熱學和機械特性,在不斷發(fā)展的微技術領域(包括
2024-06-24 14:36:151063

友思特應用 硅片上的光影貼合:UV-LED曝光系統(tǒng)在邊緣曝光中的高效應用

邊緣曝光是幫助減少涂布過程中多余的光刻膠對電子器件影響的重要步驟。友思特 ALE/1 和 ALE/3 UV-LED 高性能點光源,作為唯一可用于寬帶邊緣曝光的 i、h 和 g 線的 LED 解決方案,可高效實現(xiàn)WEE系統(tǒng)設計和曝光需求。
2024-07-25 13:45:552050

碳化硅和硅的區(qū)別是什么

。而硅是傳統(tǒng)的半導體材料,具有成熟的制造工藝和廣泛的應用領域。 制造工藝: 碳化硅的制造工藝相對復雜,需要高溫、高壓和長時間的生長過程。而硅的制造工藝相對成熟,可以實現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。此外,碳化硅的生長速度
2024-08-08 10:13:174710

/晶粒/芯片之間的區(qū)別和聯(lián)系

本文主要介紹?????? (wafer)/晶粒 (die)/芯片 (chip)之間的區(qū)別和聯(lián)系。 ? (Wafer)——原材料和生產(chǎn)平臺?? 是半導體制造的基礎材料,通常由高純度的硅
2024-11-26 11:37:593270

背面涂敷工藝對的影響

工藝中常用的材料包括: 芯片粘結(jié)劑:作為漿料涂覆到背面,之后再烘干。采用這種方法,成本較低,同時可以控制鍵合層厚度并且提高單位時間產(chǎn)量。 WBC膠水:其成分
2024-12-19 09:54:10620

濕法刻蝕原理是什么意思

濕法刻蝕原理是指通過化學溶液將固體材料轉(zhuǎn)化為液體化合物的過程。這一過程主要利用化學反應來去除材料表面的特定部分,從而實現(xiàn)對半導體材料的精細加工和圖案轉(zhuǎn)移。 下面將詳細解釋濕法刻蝕的原理: 1
2024-12-23 14:02:261245

清洗機怎么做夾持

清洗機中的夾持是確保在清洗過程中保持穩(wěn)定、避免污染或損傷的關鍵環(huán)節(jié)。以下是夾持的設計原理、技術要點及實現(xiàn)方式: 1. 夾持方式分類 根據(jù)尺寸(如2英寸到12英寸)和工藝需求,夾持
2025-07-23 14:25:43931

制造中的退火工藝詳解

退火工藝是制造中的關鍵步驟,通過控制加熱和冷卻過程,退火能夠緩解應力、修復晶格缺陷、激活摻雜原子,并改善材料的電學和機械性質(zhì)。這些改進對于確保在后續(xù)加工和最終應用中的性能和可靠性至關重要。退火工藝在制造過程中扮演著至關重要的角色。
2025-08-01 09:35:232030

再生和普通的區(qū)別

再生與普通在半導體產(chǎn)業(yè)鏈中扮演著不同角色,二者的核心區(qū)別體現(xiàn)在來源、制造工藝、性能指標及應用場景等方面。以下是具體分析:定義與來源差異普通:指全新生產(chǎn)的硅基材料,由高純度多晶硅經(jīng)拉單晶
2025-09-23 11:14:55774

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