除了臺積電，三星如今在工藝方面也是十分激進：7nm 7LPP去年十月投產之后，按照官方最新給出的時間表，6nm 6LPP將在今年下半年如期投入量產，5nm 5LPE今年內完成流片、明年上半年量產，4nm 4LPE也會在年內設計完畢。

不同于以往間隔多年推出一代全新工藝，臺積電和三星如今都改變打法，一項重大工藝進行部分優(yōu)化升級之后，就會以更小的數(shù)字命名。

按照三星給出的技術路線圖，6LPP、5LPE、4LPE其實都是在7LPP工藝基礎上演化而來的，要一直到3nm（3GAE/3GAP）才會是全新的設計，預計會使用全新的結構和材料。

7nm也是三星第一次使用EUV極紫外光刻，6/5/4nm上勢必會進一步加強。6LPP相比7LPP會將晶體管密度提升約10％，同時功耗更低，但會沿用7LPP上最初設計的IP。

5LPE會在性能、功耗、核心面積上進一步提升，不過核心IP還是7LPP的那一套，不過由于EUV應用更深入，三星預計6LPP、5LPE工藝的應用范圍也會更廣，而且5nm明年迅速就會成為主流。

4LPE將會是7LPP的終極進化版本，預計2020年首次流片，2021年的某個時候量產。