涂層技術EV Group提供由摩托羅拉開發(fā)的面罩涂層技術
EV集團提供由摩托羅拉開發(fā)的掩模涂層技術
PHOENIX - EV集團公司在此宣布，它將提供由摩托羅拉實驗室開發(fā)的用于提高接觸式印刷設備產量的掩模涂層技術。該公司表示，該涂層稱為超級清潔面膜，可防止光刻膠和任何污染物在接觸印刷過程中粘附在面罩上，從而延長了面罩的曝光壽命。 EVG正在為每個掩模對準器提供技術許可。
PHOENIX - EV集團公司在此宣布，它將提供由摩托羅拉實驗室開發(fā)的用于提高接觸式印刷設備產量的掩模涂層技術。該公司表示，該涂層稱為超級清潔面膜，可防止光刻膠和任何污染物在接觸印刷過程中粘附在面罩上，從而延長了面罩的曝光壽命。 EVG正在為每個掩模對準器提供技術許可。
據德國公司EVG稱，SCM掩模涂層大大延長了掩模清潔周期，但在使用過程中沒有明顯降低特征尺寸分辨率。被稱為電子視覺。這對于接觸印刷應用是至關重要的，例如微機電系統(tǒng)（MEMS），功率和微波晶體管，齊納二極管和肖特基二極管，太陽能電池和其他大型缺陷敏感功率和光子器件。
與EVG的楔形補償系統(tǒng)結合使用時，SCM涂層在掩模清潔周期之間產生了最大數(shù)量的質量曝光，該公司聲稱。它說，這可以改善掩模的使用壽命并大大降低掩模更換要求。
聯(lián)系打印機是在20世紀60年代早期為半導體加工開發(fā)的。隨著硅晶片變得越來越大 - 高達8英寸，現(xiàn)在為12英寸 - 使用大型石英掩模的接觸式打印機被步進技術取代。 EVG表示，最新的MEMS，化合物半導體，激光和其他使用3-，4-，6-和最近8英寸晶圓的電信產品已經引發(fā)了接觸式印刷的復蘇。
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