2019年10月9日消息，近日，半導體制造商臺積電公布了9月份營收報告，報告顯示，該公司2019年9月營收約為1021.7億元（約合237億元人民幣）同比增長7.6%。同時，臺積電宣布7納米制程技術（N7）超過一年時間的情況下，使用EUV技術的N7+良率與N7已相當接近；6納米制程技術（N6）也將于2020年第1季試產、年底前量產。 受到諸多利好消息影響，臺積電的股價節(jié)節(jié)攀升，總市值達到2482億美元超越英特爾，成為半導體行業(yè)第一。

據臺積電稱，采用EUV光刻技術的N7+（7nm+）工藝已經大批量的供應客戶，但官方沒有透露具體的合作廠商，目前唯一可完全確認的就是華為麒麟990 5G，AMD下一代Zen 3架構將使用7nm+工藝。

臺積電的EUV光刻技術技術是全行業(yè)首個商用EUV極紫外光刻技術的工藝，其EUV光刻機已經能穩(wěn)定輸出日常生產需求的250W功率，完全滿足現在及未來新工藝的需求。7nm+是臺積電史上最快量產的工藝之一，并且良品率已經達到了一年以前的7nm工藝的水平，N7+（7nm+）工藝將會給產品帶來15%-20%的晶體管密度提升，進一步降低芯片功耗。

目前，在半導體領域臺積電已經一馬當先走在的最前沿，其已經在計劃量產6納米制程工藝，而其最大的競爭對手三星，雖然此前在7nm工藝節(jié)點上引入EVU，但是產品的良品率始終困擾著三星，在進度方面明顯和臺積電拉開了差距。