chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

我國研發(fā)出新型垂直納米環(huán)柵晶體管 國產2nm芯片有望

半導體動態(tài) ? 來源:IT168 ? 作者:鄧璐良 ? 2020-01-15 09:40 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

近日,中科院對外宣布,中國科學家研發(fā)出了新型垂直納米環(huán)柵晶體管,這種新型晶體管被視為2nm及一下工藝的主要技術候選。這意味著此項技術成熟后,國產2nm芯片有望成功“破冰”,意義重大。

目前最為先進的芯片制造技術為7nm+Euv工藝制程,比較出名的就是華為的麒麟990 5G芯片,內置了超過100億個晶體管。麒麟990首次將將5G Modem集成到SoC上,也是全球首款集成5G Soc,技術上的確實現(xiàn)了巨大突破,也是國產芯片里程碑式的意義。

而繼華為之后,中科院研發(fā)出了2nm及以下工藝所需要的新型晶體管——疊層垂直納米環(huán)柵晶體管。據(jù)悉,早在2016年官方就開始針對此類技術開展相關研究,歷經重重困難,中科院斬獲全球第一,研發(fā)出世界上首個具有自對準柵極的疊層垂直納米環(huán)柵晶體管。

同時這一專利還獲得了多項發(fā)明專利授權,中科院的這項研究成果意義很大,這種新型垂直納米環(huán)柵晶體管被視為2nm及以下工藝的主要技術候選,可能對國產芯片制造有巨大推動作用。如今在美國企業(yè)的逼迫下,國產企業(yè)推進自主可控已成為主流意識,市場空間將被進一步打開。相信在5年的時間內,在技術方面將實現(xiàn)全面突破。切斷對于華為的技術提供,這將是中國整體研發(fā)芯片的一個里程碑式轉折,中國將不再過于依賴美國所提供的相關芯片及其技術。

責任編輯:wv

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片
    +關注

    關注

    462

    文章

    53239

    瀏覽量

    455039
  • 晶體管
    +關注

    關注

    78

    文章

    10101

    瀏覽量

    145071
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    晶體管架構的演變過程

    芯片制程從微米級進入2納米時代,晶體管架構經歷了從 Planar FET 到 MBCFET的四次關鍵演變。這不僅僅是形狀的變化,更是一次次對物理極限的挑戰(zhàn)。從平面
    的頭像 發(fā)表于 07-08 16:28 ?1515次閱讀
    <b class='flag-5'>晶體管</b>架構的演變過程

    芯片制造中的暈環(huán)注入技術

    晶體管長縮至20納米以下,源漏極間可能形成隱秘的電流通道,導致晶體管無法關閉。而暈環(huán)注入(Halo Implant) 技術,正是工程師們
    的頭像 發(fā)表于 07-03 16:13 ?1162次閱讀
    <b class='flag-5'>芯片</b>制造中的暈<b class='flag-5'>環(huán)</b>注入技術

    下一代高速芯片晶體管解制造問題解決了!

    在半導體工藝演進到2nm,1nm甚至0.7nm等節(jié)點以后,晶體管結構該如何演進?2017年,imec推出了叉片晶體管(forksheet),
    發(fā)表于 06-20 10:40

    無結場效應晶體管詳解

    當代所有的集成電路芯片都是由PN結或肖特基勢壘結所構成:雙極結型晶體管(BJT)包含兩個背靠背的PN 結,MOSFET也是如此。結型場效應晶體管(JFET) 垂直于溝道方向有一個 PN
    的頭像 發(fā)表于 05-16 17:32 ?755次閱讀
    無結場效應<b class='flag-5'>晶體管</b>詳解

    手機芯片進入2nm時代,首發(fā)不是蘋果?

    電子發(fā)燒友網綜合報道,2nm工藝制程的手機處理器已有多家手機處理器廠商密切規(guī)劃中,無論是臺積電還是三星都在積極布局,或將有數(shù)款芯片成為2nm工藝制程的首發(fā)產品。 ? 蘋果A19 或A20 芯片
    發(fā)表于 03-14 00:14 ?2102次閱讀

    日本開發(fā)出用于垂直晶體管的8英寸氮化鎵單晶晶圓

    1月8日消息,日本豐田合成株式會社(Toyoda Gosei Co., Ltd.)宣布,成功開發(fā)出了用于垂直晶體管的 200mm(8英寸)氮化鎵 (GaN)單晶晶圓。 據(jù)介紹,與使用采用硅基GaN
    的頭像 發(fā)表于 01-09 18:18 ?1171次閱讀

    臺積電分享 2nm 工藝深入細節(jié):功耗降低 35% 或性能提升15%!

    下),同時其晶體管密度是上一代3nm制程的1.15倍。這些顯著優(yōu)勢主要得益于臺積電的全柵極(Gate-All-Around, GAA)納米晶體管、N
    的頭像 發(fā)表于 12-16 09:57 ?1640次閱讀
    臺積電分享 <b class='flag-5'>2nm</b> 工藝深入細節(jié):功耗降低 35% 或性能提升15%!

    IBM與Rapidus在多閾值電壓GAA晶體管技術的新突破

    Rapidus 的 2nm 制程生產流程之中。 IBM 宣稱,當制程推進到 2nm 階段時,晶體管的結構會從長久以來所采用的 FinFET(鰭式場效應晶體管)轉換為 GAAFET(全
    的頭像 發(fā)表于 12-12 15:01 ?868次閱讀

    臺積電2nm芯片試產良率達60%以上,有望明年量產

    近日,全球領先的半導體制造商臺積電在新竹工廠成功試產2納米(nm)芯片,并取得了令人矚目的成果。試產結果顯示,該批2nm
    的頭像 發(fā)表于 12-09 14:54 ?1365次閱讀

    晶體管的組成結構以及原理

    晶體管主要是應用于于非易失性存儲器之中,比如nand flash中的基本單元,本文介紹了浮晶體管的組成結構以及原理。 ? ? 上圖就是浮
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:37 ?3671次閱讀
    浮<b class='flag-5'>柵</b><b class='flag-5'>晶體管</b>的組成結構以及原理

    最新研發(fā)電壓型多值晶體管的結構

    電子發(fā)燒友網站提供《最新研發(fā)電壓型多值晶體管的結構.pdf》資料免費下載
    發(fā)表于 11-21 16:27 ?1次下載

    聯(lián)發(fā)科攜手臺積電、新思科技邁向2nm芯片時代

    近日,聯(lián)發(fā)科在AI相關領域的持續(xù)發(fā)力引起了業(yè)界的廣泛關注。據(jù)悉,聯(lián)發(fā)科正采用新思科技以AI驅動的電子設計自動化(EDA)流程,用于2nm制程上的先進芯片設計,這一舉措標志著聯(lián)發(fā)科正朝著2nm
    的頭像 發(fā)表于 11-11 15:52 ?2021次閱讀

    麻省理工學院研發(fā)全新納米級3D晶體管,突破性能極限

    11月7日,有報道稱,美國麻省理工學院的研究團隊利用超薄半導體材料,成功開發(fā)出一種前所未有的納米級3D晶體管。這款晶體管被譽為迄今為止最小的3D晶體
    的頭像 發(fā)表于 11-07 13:43 ?1382次閱讀

    3D-NAND浮晶體管的結構解析

    傳統(tǒng)平面NAND閃存技術的擴展性已達到極限。為了解決這一問題,3D-NAND閃存技術應運而生,通過在垂直方向上堆疊存儲單元,大幅提升了存儲密度。本文將簡要介紹3D-NAND浮晶體管。
    的頭像 發(fā)表于 11-06 18:09 ?3503次閱讀
    3D-NAND浮<b class='flag-5'>柵</b><b class='flag-5'>晶體管</b>的結構解析

    世芯電子成功流片2nm測試芯片

    近日,高性能ASIC設計服務領域的領先企業(yè)世芯電子(Alchip)宣布了一項重大技術突破——成功流片了一款2nm測試芯片。這一里程碑式的成就,使世芯電子成為首批成功采用革命性納米片(或全能門GAA)
    的頭像 發(fā)表于 11-01 17:21 ?1701次閱讀