據韓媒Business Korea報道，USITC（美國國際貿易委員會）于日前公開了一份文件，內容涉及該委員會最近在LG Chem提起的商業(yè)秘密侵權訴訟中，對SK Innovation做出的缺席判決。

在這份長達135頁的文件中，USITC稱通過調查發(fā)現SK Innovation有意通過面試和雇用LG Chem人員的方式獲取LG Chem的商業(yè)機密，以便篡改證據。USITC指出，SK Innovation銷毀證據不僅損害了LG Chem的訴訟程序，還妨礙了法官進行公正、高效的審判。此外，USITC強調，這一判決不僅是對SK Innovation的懲罰，也是為了防止在其他案件中可能發(fā)生的類似違規(guī)行為。

在該文件發(fā)布后，LG Chem的一名官員表示，公司將尋求SK Innovation的賠償，但他拒絕透露細節(jié)。

據悉，LG Chem與SK Innovation之間的恩怨由來已久。去年4月，LG Chem以SK Innovation侵犯電池模塊、封裝制程相關的商業(yè)機密為由，向美國地方法院提起訴訟。今年2月USITC做出了對SK Innovation的違約判決，如果該決定不變，SK Innovation將被禁止向美國出口電池、模塊、包裝以及相關零部件和材料。