韓國三星電子于25日宣布,已經(jīng)成功出貨100 萬個極紫外光刻技術(shù)(EUV)生產(chǎn)的業(yè)界首款10nm級DDR4 DRAM 模組,將為高端PC、移動設(shè)備、企業(yè)服務(wù)器和數(shù)據(jù)中心應(yīng)用等提供更先進(jìn)EUV制程技術(shù)產(chǎn)品,開啟新里程碑。

據(jù)韓國消息報道,三星電子DRAM產(chǎn)品與技術(shù)執(zhí)行副總裁Lee Jung-bae 指出,隨著以EUV技術(shù)所生產(chǎn)的新型DRAM量產(chǎn),展示三星對提供革命性的DRAM解決方案以支援全球IT客戶需求的承諾。另外,這項(xiàng)重大進(jìn)展也說明三星將如何透過即時開發(fā)先進(jìn)制程技術(shù)來生產(chǎn)高端存儲器市場的下一代產(chǎn)品,繼續(xù)為全球IT創(chuàng)新貢獻(xiàn)心力。

報道表示,三星是首家在DRAM生產(chǎn)采用EUV技術(shù)的存儲器供應(yīng)商,用以克服DRAM發(fā)展上的挑戰(zhàn)。而因?yàn)镋UV技術(shù)的采用,減少了多重影像制作中的重復(fù)步驟,因此進(jìn)一步提高了影像制作的準(zhǔn)確性,也增加了產(chǎn)品的性能與產(chǎn)量,也使得生產(chǎn)時間縮短。

目前,三星的EUV技術(shù)將從其第4代10nm級的DRAM生產(chǎn)中開始全面部署。而三星也預(yù)計自2021年開始量產(chǎn)第4代10 nm級的DDR5 和LPDDR5。而在這樣的制程下,將使12寸晶圓的生產(chǎn)效率提升1倍。

而且隨著2021年DDR5和LPDDR5市場的擴(kuò)展,三星也將進(jìn)一步加強(qiáng)與IT客戶及半導(dǎo)體供應(yīng)商優(yōu)化標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格合作,加速整個存儲器市場開始向DDR5 和LPDDR 等規(guī)格產(chǎn)品發(fā)展。

另外,為了滿足對新一代DRAM市場不斷增長的需求,三星也將在2020下半年開始在韓國平澤工業(yè)區(qū)內(nèi)建立第二條存儲器產(chǎn)線。

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