據(jù)韓國媒體報道,三星電子正面臨其第六代1cnm DRAM的良品率挑戰(zhàn),為確保HBM4內(nèi)存的順利量產(chǎn),公司決定對設(shè)計進行重大調(diào)整。
自三星1cnm DRAM開發(fā)以來,良品率問題一直困擾著公司。盡管在2024年末進行了試產(chǎn),但結(jié)果并未達到預期效果,大規(guī)模生產(chǎn)準備階段的良品率僅在60%至70%左右,遠低于行業(yè)理想標準。
為了克服這一難題,三星決定對其1cnm DRAM的設(shè)計進行重新調(diào)整。據(jù)悉,此次調(diào)整的核心在于保持核心電路線寬不變,同時適當放松外圍電路線寬的要求。這一策略旨在通過優(yōu)化設(shè)計,降低生產(chǎn)難度,從而顯著提升良品率。
三星方面表示,通過此次設(shè)計調(diào)整,他們對提升1cnm DRAM的良品率充滿信心,并期待能夠確保HBM4內(nèi)存的穩(wěn)定量產(chǎn)。這一舉措不僅展現(xiàn)了三星在半導體技術(shù)領(lǐng)域的深厚底蘊,也體現(xiàn)了公司在面對挑戰(zhàn)時的靈活應變和堅定決心。
未來,隨著良品率的提升和HBM4內(nèi)存的量產(chǎn),三星有望在高端內(nèi)存市場占據(jù)更加有利的地位,為全球用戶提供更加優(yōu)質(zhì)、高效的內(nèi)存解決方案。
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