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臺積電將持續(xù)提供業(yè)界領(lǐng)先的CMOS logic技術(shù)

lhl545545 ? 來源:DOIT ? 作者:張 妮娜 ? 2020-09-10 13:48 ? 次閱讀
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“臺積電5nm產(chǎn)品已投入批量生產(chǎn),明年量產(chǎn)4nm產(chǎn)品,計劃2022年實現(xiàn)3nm量產(chǎn),所有的IC都需要半導(dǎo)體先進(jìn)的封裝技術(shù),而綠色制造、打造綠色企業(yè)是我們的永久使命,” 臺積電(南京)有限公司總經(jīng)理羅鎮(zhèn)球在2020世界半導(dǎo)體大會上介紹了臺積電先進(jìn)工藝的演進(jìn)之路,并表達(dá)了企業(yè)愿景。

從10年前的28nm到如今的7nm,臺積電的技術(shù)在不斷突破,采取小步快走的研發(fā)模式。今年是其7nm量產(chǎn)的第三年,同時,已有140+產(chǎn)品在做批量生產(chǎn),預(yù)計這個數(shù)字到今年年底將超過200。臺積電已經(jīng)為全球提供了超過10億顆芯片,服務(wù)各種各樣的應(yīng)用,應(yīng)用的領(lǐng)域包含通訊、網(wǎng)絡(luò)、CPUGPU以及AI等,這是最需要前沿工藝的幾個特殊的應(yīng)用。

摩爾定律是不是能夠繼續(xù)往下走?

羅鎮(zhèn)球表示,就目前來看,臺積電實現(xiàn)3nm、2nm、1nm都沒有什么太大的問題,這是臺積電在3nm開出的規(guī)格。而3nm相對于5nm來講,在性能上再提升10-15%。功耗上可以再降低25%-30%,面積會是原來的1.1/7。

N3工藝將沿用FinFET晶體管架構(gòu),量產(chǎn)計劃在 2022 年下半年。與此同時,臺積電正在研發(fā)新材料和架構(gòu)的優(yōu)化,并發(fā)布超低功耗工藝技術(shù)的N12e,并整合了3D IC平臺——推出“3D Fabric”。

芯片的出色的功能表現(xiàn),需要特殊工藝的不斷加持,臺積電在特殊工藝上不斷加大投入,這部分產(chǎn)能也在逐年提升,并形成了豐富的產(chǎn)品組合,包括 MEMS射頻、嵌入式內(nèi)存、功率IC等,與臺積電先進(jìn)的邏輯工藝融合,提供給應(yīng)用系統(tǒng)級的解決方案。

臺積電為什么要做這么多的工藝?

羅鎮(zhèn)球表示,臺積電通過先進(jìn)的封裝技術(shù),讓各種應(yīng)用在最短的時間以最快的速度,最小的人力消耗之下,集成出來,變成一個系統(tǒng)級的產(chǎn)品,這就是一個簡單的系統(tǒng)的組合。同時,臺積電在持續(xù)推進(jìn)綠色制造,綠色制造最重要的環(huán)節(jié),就是用的能源要最少,排放的廢氣量要最低,水資源消耗最少,排放出來的廢棄物的處理的數(shù)量要逐步降低,這都是臺積電持續(xù)不斷在努力的目標(biāo)。要讓整個供應(yīng)鏈,包含原材料、設(shè)備、廢棄物的處理的廠商,形成一個非常負(fù)責(zé)且完整的供應(yīng)鏈,同時始終加大在人才上的培養(yǎng)。

總之,做半導(dǎo)體,先進(jìn)工藝是要持續(xù)推進(jìn)的,不過特殊工藝也是非常重要,因為它是集成一個系統(tǒng),每一樣都需要的一個技術(shù)。臺積電在先進(jìn)工藝和特殊工藝都有非常好的發(fā)展,臺積電表示,將持續(xù)提供業(yè)界領(lǐng)先的CMOS logic技術(shù),努力為更廣泛的應(yīng)用提供特殊工藝,釋放芯片組和異構(gòu)集成的力量,并持續(xù)推進(jìn)創(chuàng)新與綠色制造。
責(zé)任編輯:pj

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