作為內(nèi)地規(guī)模最大的晶圓代工廠，中芯國際的一舉一動都牽動人心。

近日有報道稱，在大規(guī)模量產(chǎn)14nm工藝后，中芯國際的N+1代工藝已經(jīng)進入客戶導入階段，可望于2021年進入量產(chǎn)。

對此，中芯國際回應稱，該公司的第一代FinFET 14nm工藝已于2019年第四季度量產(chǎn)，第二代FinFET N+1工藝已經(jīng)進入客戶導入階段，可望于2020年底小批量試產(chǎn)。

按照這樣的時間表推測，中芯國際N+1代工藝確實會在2021年規(guī)模量產(chǎn)。

N+1是中芯國際對其第二代先進工藝的代號，但從未明確具體數(shù)字節(jié)點，只是說相比于14nm性能提升20％、功耗降低57％、邏輯面積縮小63％、SoC面積縮小55％，之后的N+2工藝性能和成本都更高一些。

今年8月底的時候，中芯國際曾表示，N+1工藝進展順利，已經(jīng)進入客戶產(chǎn)品驗證階段。（來源：快科技）

原文標題：恭喜！中芯國際神秘的N+1工藝終于要來了！

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