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美光聲明:目前并無采用三星EUV計(jì)劃

中國半導(dǎo)體論壇 ? 來源:中國半導(dǎo)體論壇 ? 作者:中國半導(dǎo)體論壇 ? 2020-10-12 09:36 ? 次閱讀
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據(jù)中國臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道,三星(Samsung)明年可能導(dǎo)入極紫外光(EUV)技術(shù)生產(chǎn)內(nèi)存,美光(Micron)企業(yè)副總裁、中國臺(tái)灣美光董事長徐國晉表示,美光不打算跟進(jìn),目前并無采用 EUV 計(jì)劃。

市調(diào)機(jī)構(gòu)集邦科技預(yù)計(jì),明年動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)可能跨入 EUV 世代,將由三星搶先導(dǎo)入 EUV 技術(shù),以提升成本結(jié)構(gòu)與生產(chǎn)效率。

據(jù)臺(tái)媒指出,徐國晉 7 日接受采訪時(shí)表示,美光目前采用浸潤式設(shè)備,配合其他制程可以達(dá)到一樣的效果,并無采用 EUV 計(jì)劃。

原文標(biāo)題:三星擬采用 EUV 技術(shù)生產(chǎn)內(nèi)存,美光:不打算跟進(jìn)

文章出處:【微信公眾號(hào):中國半導(dǎo)體論壇】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

責(zé)任編輯:haq

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原文標(biāo)題:三星擬采用 EUV 技術(shù)生產(chǎn)內(nèi)存,美光:不打算跟進(jìn)

文章出處:【微信號(hào):CSF211ic,微信公眾號(hào):中國半導(dǎo)體論壇】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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