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美國將光刻技術納入出口限制清單

傳感器技術 ? 來源:EET電子工程專輯 ? 作者:EET電子工程專輯 ? 2020-11-12 14:41 ? 次閱讀
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日前,美國商務部工業(yè)安全局(BIS)在其官方網站發(fā)文表示,將六項新興技術添加到《出口管理條例》(EAR)的商務管部管制清單(CCL)中。美國商務部在官網發(fā)文表示,此舉是為了支持關鍵及新興技術這一國家戰(zhàn)略。

目前受到出口管制的新興技術總數已經達到了 37 項。

商務部長威爾伯·羅斯(Wilbur Ross)宣稱:“關鍵技術和新興技術國家戰(zhàn)略是保護美國國家安全,確保美國在軍事、情報和經濟事務中保持技術領先地位的重要戰(zhàn)略部署?!薄懊绹虅詹恳呀泴?30 多種新興技術的出口實施了管控,我們將繼續(xù)評估和確定未來還有哪些技術需要管控?!?/p>

徹底封鎖芯片先進制造工藝

最新的商業(yè)管制是依據 2019 年 12 月全體大會上達成的協議——《常規(guī)軍備和兩用物品及技術出口管制瓦森納協議》實施的。制定和實施對新興技術的多邊控制符合《2018 年出口控制改革法案》(ECRA)的要求,這樣能夠確定哪些新興和基礎性技術對美國國家安全起到至關重要的作用。

本次新上榜商業(yè)管制清單的六項新興技術為:

混合增材制造/計算機數控工具;

特定的計算光刻軟件;

用于為5nm生產精加工晶圓的某些技術;

有限的數字取證分析工具;

用于監(jiān)測電信服務通信的某些軟件

亞軌道航天器

美國實施出口管制的六大技術,都與芯片制造中最重要的設備光刻機息息相關,尤其是當下5nm芯片已成為高端芯片時代的主流產品,EUV光刻機的重要性可想而知。

“用于制造極紫外線掩模的計算光刻技術軟件”涵蓋EUV光刻所需的特定軟件,包括與三維(3D)效應、掩模陰影效應、光照方向效應、遠距離眩光效應、鄰近效應、抗蝕劑中的隨機性效應以及源掩模優(yōu)化有關的軟件,這類軟件是在晶圓上做出經過優(yōu)化的光刻膠圖案必需的軟件;

而“用于為 5nm 生產精加工芯片的技術”旨在應用于面向5nm生產的晶圓,包括對直徑300 mm的硅晶圓進行切片、打磨和拋光以達到某些標準所需要的技術,以及盡量減小平坦度(或SFQR)和表面缺陷的技術以及局部光散射體(LLS)。以上兩類技術都受到國家安全和反恐管制的約束。

目前全世界唯一能生產EUV光刻機的企業(yè)只有荷蘭ASML公司,而ASML最大的兩大股東資本國際集團(MSCI)和貝萊德集團(BlackRock, Inc.)都是美國公司,其用于打造EUV光刻機的高精技術也有不少為美國所持有。

美國商務部此舉相當于直接封鎖了高端芯片的制造技術,針對的是誰不用多說。從目前來看,中國作為美國芯片產品最大的采購國之一,受出口管制影響是巨大的。

這是 BIS 自 2018 年通過 ECRA 法令以來實施的第四套新興技術管控措施。BIS 在此之前曾公布了三份聯邦文件通知,對航空航天、生物技術、化學、電子、加密、地理空間圖像和海洋領域的 31 項新興技術實施了管制,其中大多數是在多邊支持下實施的。其中包括因化學 / 生物和反恐理由而受管制的 24 種化學武器前體,以及:

1、離散微波晶體管

2、操作軟件的連續(xù)性

3、Post-quantum 密碼學

4、用作水中聽音器的水下傳感器

5、空中發(fā)射平臺

6、地理空間圖像軟件(單側)

7、一次性生物栽培室

受新管制影響最大的幾個行業(yè)是航空航天、生物技術、化學、電子、加密、地理空間圖像和海洋行業(yè)。正如BIS所承諾的那樣,新興技術是加以嚴格定義的,幾乎都受到多邊管制的約束。

此外,根據 ECRA 規(guī)定,商務部工業(yè)安全局已于 2020 年 8 月 27 日就基礎技術鑒定征求公眾意見,公眾意見征詢期將持續(xù)到 2020 年 11 月 9 日,這也就意味著,未來或許還會有更多新興和關鍵技術被列入出口管制清單。

受管制新興技術具體解釋

如下所述,該規(guī)則將一個新的出口管制分類編號(ECCN)添加到CCL,并修訂了另外五個ECCN。

混合增材制造(AM)/計算機數控(CNC)工具受ECCN 2B001管制。該規(guī)則闡明,除車削、銑削或磨削能力外還擁有增材制造能力的機床適用于ECCN 2B001。因此,即使增材制造能力添加到設備中,歸類為ECCN 2B001的機床仍可能歸類為該ECCN。該規(guī)則不管制一般的增材制造設備。ECCN 2B001的產品受到國家安全、核不擴散和反恐管制的約束。

為制造極紫外(EUV)掩模而設計的計算光刻軟件添加到ECCN 3D003:ECCN 3D003已擴大范圍,涵蓋EUV光刻所需的特定軟件,包括與三維(3D)效應、掩模陰影效應、光照方向效應、遠距離眩光效應、鄰近效應、抗蝕劑中的隨機性效應以及源掩模優(yōu)化有關的軟件。這類軟件是晶圓上做出經過優(yōu)化的光刻膠圖案所需的,受到國家安全和反恐管制的約束。

用于為5nm生產精加工晶圓的技術受新的ECCN 3E004的管制:該規(guī)則為CCL添加了ECCN 3E004;ECCN 3E004管制用于生產高端集成電路基板的技術,它們旨在應用于面向5 nm生產的晶圓。受管制技術包括:對直徑300 mm的硅晶圓進行切片、打磨和拋光以達到某些標準所需要的技術,以及盡量減小平坦度(或SFQR)和表面缺陷的技術以及局部光散射體(LLS)。這些技術受到國家安全和反恐管制的約束。

可以規(guī)避計算機(或通信設備)方面的身份驗證或授權控制措施,并提取原始數據的數字取證分析工具添加到ECCN 5A004中:BIS擴大了ECCN 5A004的范圍,以管制可以迅速分析設備并恢復受保護信息的硬件,包括通過破解、操縱、利用及/或繞過制造商安裝在設備上的安全措施。這項新的ECCN即5A004.b并非旨在管制提取設備上不受保護的數據的產品、生產或測試設備、系統管理工具或用于零售用途(比如解鎖手機)的工具。相應的軟件管制已添加到5D002。這些產品受到國家安全和反恐管制的約束。

用于通過偵聽接口來監(jiān)測和分析從電信服務提供商處獲得的通信和元數據的軟件添加到ECCN 5D001:BIS添加了ECCN 5D001.e,這涵蓋專門經過設計或修改,供執(zhí)法部門用于分析從偵聽接口獲取的通信內容或元數據。該軟件必須提供以下兩種功能:1)基于硬選擇器,使用“偵聽接口”對從通信服務提供商獲取的通信內容或元數據執(zhí)行搜索;以及2)根據搜索通信內容或元數據的結果,映射關系網絡或跟蹤針對性個人的活動。這項新內容并不管制網絡管理工具或銀行軟件。軟件受到國家安全和反恐管制的約束。

亞軌道飛行器添加到ECCN 9A004.h:BIS已將亞軌道飛行器添加到了以前應用于CCL第9類中的太空發(fā)射器和“航天器”的管制。亞軌道飛行器旨在在平流層上方運行,不完成軌道就降落在地球上。因此,它并不符合“航天器”的定義,“航天器”僅限于衛(wèi)星和太空探測器。飛行器受到國家安全、區(qū)域穩(wěn)定和反恐管制的約束。

中國出臺出口管制法

中國方面,《中華人民共和國出口管制法》已由第十三屆全國人民代表大會常務委員會第二十二次會議于2020年10月17日通過,并從2020年12月1日起施行,中國管制法實行引發(fā)了外國媒體的密切關注。在管制法中,中國除了將核材料等納入管制范圍內,其他一些維護中國國家安全等貨物也納入其中。

該法規(guī)定,任何國家或者地區(qū)濫用出口管制措施危害中國國家安全和利益的,中國可以根據實際情況對該國家或者地區(qū)對等采取措施。

出口管制是指對特定物項的出口采取禁止或者限制性措施,以對該物項的使用主體或者用途進行控制。實施出口管制,是國際通行的履行防擴散等國際義務的做法。當下,出口管制正成為維護國家安全和利益的重要手段。

出口管制法包括總則,管制政策、管制清單和管制措施,監(jiān)督管理,法律責任,附則五章,共49條。

該法明確了出口管制范圍,確保管制物項、管制主體和行為全覆蓋,規(guī)定:從中國境內向境外轉移管制物項,以及中國公民、法人和非法人組織向外國組織和個人提供管制物項,均受本法約束。

據報道,美國近年來將注意力放在提高國家地位以及打壓其他國家發(fā)展上,國內制造業(yè)發(fā)展落后,國產開機械等已經無法滿足美國制作武器以及其他大型設備的需求,不得已,美國只能通過向其他國家進口機械。而中國是美國主要機械進口國,因為中國機械質量等能夠滿足美國要求。雖然其他國家也有出口機械等,但由于國內制造加工技術并不先進,所以所出口機械無法讓美國滿意。

如今中國出臺管制法案,對一些機械器材進行限制出口,美國將無法從中國進口所需機械,這使美國政府官員暴跳如雷,他們表示,中方這一做法將直接影響到美國武器制作,美國會面臨斷供危機。

責任編輯:lq

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原文標題:中國發(fā)布“出口管制法”后,美國將光刻技術納入出口限制清單

文章出處:【微信號:WW_CGQJS,微信公眾號:傳感器技術】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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