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美國(guó)將光刻技術(shù)納入出口限制清單

傳感器技術(shù) ? 來(lái)源:EET電子工程專輯 ? 作者:EET電子工程專輯 ? 2020-11-12 14:41 ? 次閱讀
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日前,美國(guó)商務(wù)部工業(yè)安全局(BIS)在其官方網(wǎng)站發(fā)文表示,將六項(xiàng)新興技術(shù)添加到《出口管理?xiàng)l例》(EAR)的商務(wù)管部管制清單(CCL)中。美國(guó)商務(wù)部在官網(wǎng)發(fā)文表示,此舉是為了支持關(guān)鍵及新興技術(shù)這一國(guó)家戰(zhàn)略。

目前受到出口管制的新興技術(shù)總數(shù)已經(jīng)達(dá)到了 37 項(xiàng)。

商務(wù)部長(zhǎng)威爾伯·羅斯(Wilbur Ross)宣稱:“關(guān)鍵技術(shù)和新興技術(shù)國(guó)家戰(zhàn)略是保護(hù)美國(guó)國(guó)家安全,確保美國(guó)在軍事、情報(bào)和經(jīng)濟(jì)事務(wù)中保持技術(shù)領(lǐng)先地位的重要戰(zhàn)略部署?!薄懊绹?guó)商務(wù)部已經(jīng)對(duì) 30 多種新興技術(shù)的出口實(shí)施了管控,我們將繼續(xù)評(píng)估和確定未來(lái)還有哪些技術(shù)需要管控?!?/p>

徹底封鎖芯片先進(jìn)制造工藝

最新的商業(yè)管制是依據(jù) 2019 年 12 月全體大會(huì)上達(dá)成的協(xié)議——《常規(guī)軍備和兩用物品及技術(shù)出口管制瓦森納協(xié)議》實(shí)施的。制定和實(shí)施對(duì)新興技術(shù)的多邊控制符合《2018 年出口控制改革法案》(ECRA)的要求,這樣能夠確定哪些新興和基礎(chǔ)性技術(shù)對(duì)美國(guó)國(guó)家安全起到至關(guān)重要的作用。

本次新上榜商業(yè)管制清單的六項(xiàng)新興技術(shù)為:

混合增材制造/計(jì)算機(jī)數(shù)控工具;

特定的計(jì)算光刻軟件;

用于為5nm生產(chǎn)精加工晶圓的某些技術(shù);

有限的數(shù)字取證分析工具;

用于監(jiān)測(cè)電信服務(wù)通信的某些軟件

亞軌道航天器

美國(guó)實(shí)施出口管制的六大技術(shù),都與芯片制造中最重要的設(shè)備光刻機(jī)息息相關(guān),尤其是當(dāng)下5nm芯片已成為高端芯片時(shí)代的主流產(chǎn)品,EUV光刻機(jī)的重要性可想而知。

“用于制造極紫外線掩模的計(jì)算光刻技術(shù)軟件”涵蓋EUV光刻所需的特定軟件,包括與三維(3D)效應(yīng)、掩模陰影效應(yīng)、光照方向效應(yīng)、遠(yuǎn)距離眩光效應(yīng)、鄰近效應(yīng)、抗蝕劑中的隨機(jī)性效應(yīng)以及源掩模優(yōu)化有關(guān)的軟件,這類軟件是在晶圓上做出經(jīng)過(guò)優(yōu)化的光刻膠圖案必需的軟件;

而“用于為 5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)”旨在應(yīng)用于面向5nm生產(chǎn)的晶圓,包括對(duì)直徑300 mm的硅晶圓進(jìn)行切片、打磨和拋光以達(dá)到某些標(biāo)準(zhǔn)所需要的技術(shù),以及盡量減小平坦度(或SFQR)和表面缺陷的技術(shù)以及局部光散射體(LLS)。以上兩類技術(shù)都受到國(guó)家安全和反恐管制的約束。

目前全世界唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的企業(yè)只有荷蘭ASML公司,而ASML最大的兩大股東資本國(guó)際集團(tuán)(MSCI)和貝萊德集團(tuán)(BlackRock, Inc.)都是美國(guó)公司,其用于打造EUV光刻機(jī)的高精技術(shù)也有不少為美國(guó)所持有。

美國(guó)商務(wù)部此舉相當(dāng)于直接封鎖了高端芯片的制造技術(shù),針對(duì)的是誰(shuí)不用多說(shuō)。從目前來(lái)看,中國(guó)作為美國(guó)芯片產(chǎn)品最大的采購(gòu)國(guó)之一,受出口管制影響是巨大的。

這是 BIS 自 2018 年通過(guò) ECRA 法令以來(lái)實(shí)施的第四套新興技術(shù)管控措施。BIS 在此之前曾公布了三份聯(lián)邦文件通知,對(duì)航空航天、生物技術(shù)、化學(xué)、電子、加密、地理空間圖像和海洋領(lǐng)域的 31 項(xiàng)新興技術(shù)實(shí)施了管制,其中大多數(shù)是在多邊支持下實(shí)施的。其中包括因化學(xué) / 生物和反恐理由而受管制的 24 種化學(xué)武器前體,以及:

1、離散微波晶體管

2、操作軟件的連續(xù)性

3、Post-quantum 密碼學(xué)

4、用作水中聽(tīng)音器的水下傳感器

5、空中發(fā)射平臺(tái)

6、地理空間圖像軟件(單側(cè))

7、一次性生物栽培室

受新管制影響最大的幾個(gè)行業(yè)是航空航天、生物技術(shù)、化學(xué)、電子、加密、地理空間圖像和海洋行業(yè)。正如BIS所承諾的那樣,新興技術(shù)是加以嚴(yán)格定義的,幾乎都受到多邊管制的約束。

此外,根據(jù) ECRA 規(guī)定,商務(wù)部工業(yè)安全局已于 2020 年 8 月 27 日就基礎(chǔ)技術(shù)鑒定征求公眾意見(jiàn),公眾意見(jiàn)征詢期將持續(xù)到 2020 年 11 月 9 日,這也就意味著,未來(lái)或許還會(huì)有更多新興和關(guān)鍵技術(shù)被列入出口管制清單。

受管制新興技術(shù)具體解釋

如下所述,該規(guī)則將一個(gè)新的出口管制分類編號(hào)(ECCN)添加到CCL,并修訂了另外五個(gè)ECCN。

混合增材制造(AM)/計(jì)算機(jī)數(shù)控(CNC)工具受ECCN 2B001管制。該規(guī)則闡明,除車(chē)削、銑削或磨削能力外還擁有增材制造能力的機(jī)床適用于ECCN 2B001。因此,即使增材制造能力添加到設(shè)備中,歸類為ECCN 2B001的機(jī)床仍可能歸類為該ECCN。該規(guī)則不管制一般的增材制造設(shè)備。ECCN 2B001的產(chǎn)品受到國(guó)家安全、核不擴(kuò)散和反恐管制的約束。

為制造極紫外(EUV)掩模而設(shè)計(jì)的計(jì)算光刻軟件添加到ECCN 3D003:ECCN 3D003已擴(kuò)大范圍,涵蓋EUV光刻所需的特定軟件,包括與三維(3D)效應(yīng)、掩模陰影效應(yīng)、光照方向效應(yīng)、遠(yuǎn)距離眩光效應(yīng)、鄰近效應(yīng)、抗蝕劑中的隨機(jī)性效應(yīng)以及源掩模優(yōu)化有關(guān)的軟件。這類軟件是晶圓上做出經(jīng)過(guò)優(yōu)化的光刻膠圖案所需的,受到國(guó)家安全和反恐管制的約束。

用于為5nm生產(chǎn)精加工晶圓的技術(shù)受新的ECCN 3E004的管制:該規(guī)則為CCL添加了ECCN 3E004;ECCN 3E004管制用于生產(chǎn)高端集成電路基板的技術(shù),它們旨在應(yīng)用于面向5 nm生產(chǎn)的晶圓。受管制技術(shù)包括:對(duì)直徑300 mm的硅晶圓進(jìn)行切片、打磨和拋光以達(dá)到某些標(biāo)準(zhǔn)所需要的技術(shù),以及盡量減小平坦度(或SFQR)和表面缺陷的技術(shù)以及局部光散射體(LLS)。這些技術(shù)受到國(guó)家安全和反恐管制的約束。

可以規(guī)避計(jì)算機(jī)(或通信設(shè)備)方面的身份驗(yàn)證或授權(quán)控制措施,并提取原始數(shù)據(jù)的數(shù)字取證分析工具添加到ECCN 5A004中:BIS擴(kuò)大了ECCN 5A004的范圍,以管制可以迅速分析設(shè)備并恢復(fù)受保護(hù)信息的硬件,包括通過(guò)破解、操縱、利用及/或繞過(guò)制造商安裝在設(shè)備上的安全措施。這項(xiàng)新的ECCN即5A004.b并非旨在管制提取設(shè)備上不受保護(hù)的數(shù)據(jù)的產(chǎn)品、生產(chǎn)或測(cè)試設(shè)備、系統(tǒng)管理工具或用于零售用途(比如解鎖手機(jī))的工具。相應(yīng)的軟件管制已添加到5D002。這些產(chǎn)品受到國(guó)家安全和反恐管制的約束。

用于通過(guò)偵聽(tīng)接口來(lái)監(jiān)測(cè)和分析從電信服務(wù)提供商處獲得的通信和元數(shù)據(jù)的軟件添加到ECCN 5D001:BIS添加了ECCN 5D001.e,這涵蓋專門(mén)經(jīng)過(guò)設(shè)計(jì)或修改,供執(zhí)法部門(mén)用于分析從偵聽(tīng)接口獲取的通信內(nèi)容或元數(shù)據(jù)。該軟件必須提供以下兩種功能:1)基于硬選擇器,使用“偵聽(tīng)接口”對(duì)從通信服務(wù)提供商獲取的通信內(nèi)容或元數(shù)據(jù)執(zhí)行搜索;以及2)根據(jù)搜索通信內(nèi)容或元數(shù)據(jù)的結(jié)果,映射關(guān)系網(wǎng)絡(luò)或跟蹤針對(duì)性個(gè)人的活動(dòng)。這項(xiàng)新內(nèi)容并不管制網(wǎng)絡(luò)管理工具或銀行軟件。軟件受到國(guó)家安全和反恐管制的約束。

亞軌道飛行器添加到ECCN 9A004.h:BIS已將亞軌道飛行器添加到了以前應(yīng)用于CCL第9類中的太空發(fā)射器和“航天器”的管制。亞軌道飛行器旨在在平流層上方運(yùn)行,不完成軌道就降落在地球上。因此,它并不符合“航天器”的定義,“航天器”僅限于衛(wèi)星和太空探測(cè)器。飛行器受到國(guó)家安全、區(qū)域穩(wěn)定和反恐管制的約束。

中國(guó)出臺(tái)出口管制法

中國(guó)方面,《中華人民共和國(guó)出口管制法》已由第十三屆全國(guó)人民代表大會(huì)常務(wù)委員會(huì)第二十二次會(huì)議于2020年10月17日通過(guò),并從2020年12月1日起施行,中國(guó)管制法實(shí)行引發(fā)了外國(guó)媒體的密切關(guān)注。在管制法中,中國(guó)除了將核材料等納入管制范圍內(nèi),其他一些維護(hù)中國(guó)國(guó)家安全等貨物也納入其中。

該法規(guī)定,任何國(guó)家或者地區(qū)濫用出口管制措施危害中國(guó)國(guó)家安全和利益的,中國(guó)可以根據(jù)實(shí)際情況對(duì)該國(guó)家或者地區(qū)對(duì)等采取措施。

出口管制是指對(duì)特定物項(xiàng)的出口采取禁止或者限制性措施,以對(duì)該物項(xiàng)的使用主體或者用途進(jìn)行控制。實(shí)施出口管制,是國(guó)際通行的履行防擴(kuò)散等國(guó)際義務(wù)的做法。當(dāng)下,出口管制正成為維護(hù)國(guó)家安全和利益的重要手段。

出口管制法包括總則,管制政策、管制清單和管制措施,監(jiān)督管理,法律責(zé)任,附則五章,共49條。

該法明確了出口管制范圍,確保管制物項(xiàng)、管制主體和行為全覆蓋,規(guī)定:從中國(guó)境內(nèi)向境外轉(zhuǎn)移管制物項(xiàng),以及中國(guó)公民、法人和非法人組織向外國(guó)組織和個(gè)人提供管制物項(xiàng),均受本法約束。

據(jù)報(bào)道,美國(guó)近年來(lái)將注意力放在提高國(guó)家地位以及打壓其他國(guó)家發(fā)展上,國(guó)內(nèi)制造業(yè)發(fā)展落后,國(guó)產(chǎn)開(kāi)機(jī)械等已經(jīng)無(wú)法滿足美國(guó)制作武器以及其他大型設(shè)備的需求,不得已,美國(guó)只能通過(guò)向其他國(guó)家進(jìn)口機(jī)械。而中國(guó)是美國(guó)主要機(jī)械進(jìn)口國(guó),因?yàn)橹袊?guó)機(jī)械質(zhì)量等能夠滿足美國(guó)要求。雖然其他國(guó)家也有出口機(jī)械等,但由于國(guó)內(nèi)制造加工技術(shù)并不先進(jìn),所以所出口機(jī)械無(wú)法讓美國(guó)滿意。

如今中國(guó)出臺(tái)管制法案,對(duì)一些機(jī)械器材進(jìn)行限制出口,美國(guó)將無(wú)法從中國(guó)進(jìn)口所需機(jī)械,這使美國(guó)政府官員暴跳如雷,他們表示,中方這一做法將直接影響到美國(guó)武器制作,美國(guó)會(huì)面臨斷供危機(jī)。

責(zé)任編輯:lq

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原文標(biāo)題:中國(guó)發(fā)布“出口管制法”后,美國(guó)將光刻技術(shù)納入出口限制清單

文章出處:【微信號(hào):WW_CGQJS,微信公眾號(hào):傳感器技術(shù)】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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    膠。 掩膜版對(duì)下游行業(yè)生產(chǎn)線的作用主要體現(xiàn)為,利用掩膜版上已設(shè)計(jì)好的圖案,通過(guò)透光與非透光的方式進(jìn)行圖像(電路圖形)復(fù)制,電路圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片上的光刻膠層。隨后,經(jīng)過(guò)蝕刻、摻雜等步驟,在硅片上形成所需的電路結(jié)構(gòu),從而實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。
    的頭像 發(fā)表于 01-02 13:46 ?4617次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻</b>掩膜<b class='flag-5'>技術(shù)</b>介紹

    美國(guó)中微公司移出制裁清單

    公司和IDG Capital從CMC清單中剔除。 據(jù)了解,2024年1月31日(美國(guó)東部時(shí)間),美國(guó)國(guó)防部根據(jù)《2021財(cái)年國(guó)防授權(quán)法案》第1260H條,中微公司列入CMC
    的頭像 發(fā)表于 12-18 16:05 ?1214次閱讀