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中芯國際:美國新規(guī)對10nm及以下先進工藝研發(fā)有重大不利影響

璟琰乀 ? 來源:搜狐科技 ? 作者:梁昌均 ? 2020-12-21 09:26 ? 次閱讀
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中芯國際 12 月 20 日晚間發(fā)布說明公告稱,公司被列入 “實體清單”后,根據(jù)美國相關(guān)法律法規(guī)的規(guī)定,針對適用于美國《出口管制條例》的產(chǎn)品或技術(shù),供應(yīng)商須獲得美國商務(wù)部的出口許可才能向公司供應(yīng);對用于 10nm 及以下技術(shù)節(jié)點(包括極紫外光技術(shù))的產(chǎn)品或技術(shù),美國商務(wù)部會采取 “推定拒絕”(Presumption of Denial)的審批政策進行審核;同時公司為部分特殊客戶提供代工服務(wù)也可能受到一定限制。

在說明公告中,中芯國際表示,經(jīng)初步評估,該事項對公司短期內(nèi)運營及財務(wù)狀況無重大不利影響,對 10nm 及以下先進工藝的研發(fā)及產(chǎn)能建設(shè)有重大不利影響。公司將持續(xù)與美國政府相關(guān)部門進行溝通,并視情況采取一切可行措施,積極尋求解決方案,力爭將不利影響降到最低。

值得一提的是,有媒體報道稱,在中芯國際新任副董事長蔣尚義的幫助下,中芯國際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥(ASML)就 EUV 光刻設(shè)備進行談判。中芯國際一直難以從阿斯麥獲得 EUV 光刻設(shè)備,盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響,但仍存顧慮。

責任編輯:haq

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