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芯源微:公司前道涂膠顯影機(jī)等技術(shù)問題已攻克

我快閉嘴 ? 來源:愛集微 ? 作者:James ? 2021-01-08 09:43 ? 次閱讀
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芯源微發(fā)布期接受機(jī)構(gòu)調(diào)研的活動記錄表,芯源微表示,公司前道涂膠顯影機(jī)與國際***聯(lián)機(jī)的技術(shù)問題已經(jīng)攻克并通過驗(yàn)證,可以與包括ASML、佳能等國際品牌以及國內(nèi)的上海微電子(SMEE)的***聯(lián)機(jī)應(yīng)用。

天眼查信息顯示,芯源微成立于2002年,是由中科院沈陽自動化研究所創(chuàng)建的國家高新技術(shù)企業(yè),專業(yè)從事半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù),致力于為客戶提供半導(dǎo)體裝備與工藝整體解決方案。

在談及芯源微前道涂膠顯影機(jī)Track與國際***聯(lián)機(jī)是否還有技術(shù)壁壘時(shí),芯源微稱,公司前道涂膠顯影機(jī)與國際***聯(lián)機(jī)的技術(shù)問題已經(jīng)攻克并通過驗(yàn)證,可以與包括ASML、佳能等國際品牌以及國內(nèi)的上 海微電子(SMEE)的***聯(lián)機(jī)應(yīng)用。

芯源微表示,涂膠顯影機(jī)的在Iline、KrF、向ArF等技術(shù)升級的過程中,主要技術(shù)難點(diǎn)在于涂膠顯影機(jī)結(jié)構(gòu)復(fù)雜,運(yùn)行部件多。研發(fā)升級在技術(shù)上有很大的跨度,主要體現(xiàn)在顆粒污染物的控制方面,例如烘烤精 度、多腔體的一致性及均勻性、不同光刻膠的涂膠顯影工藝精 細(xì)化控制,以及設(shè)備整體顆粒污染物控制等。

據(jù)悉,芯源微目前訂單比較飽滿,排產(chǎn)工時(shí)較往年有大幅增加。芯源微指出,公司現(xiàn)有的廠區(qū)已經(jīng)是滿負(fù)荷運(yùn)轉(zhuǎn),同時(shí)新廠房也在建設(shè)當(dāng)中,按照計(jì)劃將于2021年4季度投入使用,屆時(shí)對公司產(chǎn)能提升會起到 非常大的作用。

關(guān)于進(jìn)口零部件的采購,芯源微相關(guān)人士表示,芯源微目前不存在卡脖子的情況。雖然由于國內(nèi)國際市場需求旺盛導(dǎo)致了采購周期加長,但是芯源微根據(jù)訂單情況已經(jīng)提前采取應(yīng)對措施,進(jìn)行了充足的備庫,能保證客戶訂單的正常生產(chǎn)、排產(chǎn)及交付。
責(zé)任編輯:tzh

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