隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。

據(jù)報(bào)道，SK海力士與ASML公司簽訂了一個(gè)超級大單，未來5年內(nèi)將斥資4.8萬億韓元，約合43.4億美元購買EUV光刻機(jī)。

SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱，這筆交易是為了實(shí)現(xiàn)下一代工藝芯片量產(chǎn)的目標(biāo)。

ASML及SK海力士都沒有透露這么多資金到底購買了多少臺(tái)EUV光刻機(jī)，不過從之前均價(jià)1億歐元的數(shù)據(jù)來看，SK海力士這次購買的EUV光刻機(jī)大約是40臺(tái)。

如果扣除配套的服務(wù)費(fèi)用，那么總數(shù)量也有可能在30-35臺(tái)左右，依然不可小覷，畢竟ASML的EUV光刻機(jī)去年的銷量也不過31臺(tái)。

從各方面的數(shù)據(jù)來看，SK海力士未來幾年中也會(huì)是ASML的EUV大客戶。

此外，SK海力士是全球第二大內(nèi)存芯片廠商，這次購買的EUV光刻機(jī)主要也是用于新一代內(nèi)存顆粒，此前消息稱SK海力士今年下半年在利川廠區(qū)M16采用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)第四代（1a nm）DRAM產(chǎn)品。

對內(nèi)存來說，它跟CPU邏輯工藝一樣面臨著需要微縮的問題，EUV光刻機(jī)可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本，并提高性能。

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