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中國(guó)有望解決光刻機(jī)“卡脖子”難題

我快閉嘴 ? 來(lái)源:創(chuàng)投時(shí)報(bào) ? 作者:諦林 ? 2021-03-02 15:09 ? 次閱讀
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放眼全球光刻機(jī)制造領(lǐng)域,荷蘭ASML是當(dāng)之無(wú)愧的第一巨頭。ASML一臺(tái)EUV光刻機(jī)賣(mài)價(jià)十多億,可即便如此臺(tái)積電和三星依舊會(huì)搶著購(gòu)買(mǎi)。

不僅在市場(chǎng)份額上遠(yuǎn)超競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手,ASML對(duì)自己的技術(shù)優(yōu)勢(shì)也相當(dāng)自信。ASML曾揚(yáng)言,即便把EUV光刻機(jī)的圖紙公開(kāi),也沒(méi)有一家企業(yè)能夠自己制造出來(lái)。

這并非ASML吹噓,因?yàn)槭聦?shí)的確如此。EUV光刻機(jī)集成了多個(gè)領(lǐng)域的尖端技術(shù),而且零部件來(lái)源于各行業(yè)的頂級(jí)供應(yīng)商,組裝難度之大可想而知。

正因如此,昔日巨頭佳能、尼康等才一直甘居其后;中國(guó)的光刻機(jī)制造龍頭企業(yè)上海微電子,也僅僅是攻克了28nm的光刻機(jī)。

但這并不意味著,我國(guó)會(huì)情愿讓核心技術(shù)繼續(xù)掌握在外企手中。

故而,在2020年下半年,中科院曾公開(kāi)宣布,要集結(jié)全院之力攻克光刻機(jī)制造難題,幫助中國(guó)企業(yè)擺脫卡脖子的命運(yùn)。

時(shí)至今日,中科院雖然沒(méi)有傳出相關(guān)好消息,但清華大學(xué)卻公布了最新的研究成果。據(jù)了解,這項(xiàng)成果有望解決光刻機(jī)難題,讓國(guó)產(chǎn)芯片未來(lái)可期。

2月25日,清華大學(xué)工物系教授唐傳祥研究組的,一篇有關(guān)新型粒子加速器光源“穩(wěn)態(tài)微聚束”的研究論文,被發(fā)表在國(guó)際權(quán)威雜志《Nature》上。

同時(shí),清華大學(xué)官網(wǎng)也公開(kāi)了這個(gè)好消息。

筆者了解到,這關(guān)系到一項(xiàng)全新的光刻機(jī)光源技術(shù)。

眾所周知,目前全球掌握極紫外光源解決方案的只有美國(guó)和德國(guó)兩家,而ASML采用的正是美國(guó)的解決方案。

但無(wú)論是美國(guó)還是德國(guó)的極紫外光源解決方案,都存在著穩(wěn)定性和壽命兩大問(wèn)題。這是由于方案需要不斷激發(fā)滴落的錫滴,而錫又具有揮發(fā)性。故而光源功率的提升難度相對(duì)較大。

反觀清華大學(xué)與合作團(tuán)隊(duì)研究的方案,則是利用可控電子束來(lái)輻射極紫外光的方式,取代靠激發(fā)起來(lái)發(fā)光。

相比美國(guó)的方案,清華大學(xué)的研究成功在理論上具備更高的穩(wěn)定性,也更容易提升光源功率。

如果這個(gè)解決方案能夠最終落地并實(shí)現(xiàn)商用,那么國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)或許真的可以彎道超車(chē),不再受美國(guó)的限制。

不過(guò),這個(gè)實(shí)現(xiàn)的過(guò)程中,可謂是千難萬(wàn)險(xiǎn)。筆者相信,一旦國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)自研,未來(lái)國(guó)產(chǎn)芯片將有無(wú)限的可能。但在此之前,我國(guó)相關(guān)產(chǎn)業(yè)面臨的挑戰(zhàn)依舊嚴(yán)峻。
責(zé)任編輯:tzh

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