三星積極向唯一EUV光刻機(jī)廠商ASML爭取訂單
三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
據(jù)報道，三星電子周二斥資430億韓元（約合2.5億）買入152萬股韓國FST公司的股票，成為其第三大股東，持股占比6.9%。
FST是一家生產(chǎn)掩模/光罩保護(hù)膜和冷卻器的廠商，保護(hù)膜簡單來說就是保障光罩不受灰塵影響，冷卻器則是控制半導(dǎo)體制造過程中的溫度。
FST正在研制EUV光罩保護(hù)膜，設(shè)計目標(biāo)是全尺寸，碳化硅基質(zhì)，30nm尺度，透光率90%。
目前，尚未有一家公司大規(guī)模量產(chǎn)EUV光罩保護(hù)膜FST成功后，將對產(chǎn)業(yè)以及自身收入有著積極影響。
責(zé)任編輯:pj
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
三星電子
+關(guān)注
關(guān)注
34文章
15891瀏覽量
182876 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
734瀏覽量
43343 -
EUV光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
129瀏覽量
15791
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
中國打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)！
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/黃山明）芯片，一直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠，還需要光刻
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機(jī)路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公
AI需求飆升！ASML新光刻機(jī)直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點(diǎn)問題？ 針對2nm、3nm芯片制造難題，光
ASML Q2新增訂單額55億！客戶對貿(mào)易戰(zhàn)前景不明，CEO看淡2026年增長
ASML第二季度實(shí)現(xiàn)銷售額77億歐元，毛利率為53.7%，凈利潤達(dá)23億歐元。第二季度的新增訂單金額為55億歐元，其中23億歐元為EUV光刻機(jī)訂單
ASML官宣：更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，日前，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一
發(fā)表于 06-29 06:39
?1827次閱讀
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機(jī)對電子束質(zhì)量的要求。
只有對聚焦電極改進(jìn)才是最佳選擇，以下介紹該進(jìn)后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達(dá)到縮束的目的，使電子束分布在一條直線
發(fā)表于 05-07 06:03
今日看點(diǎn)丨美國宣布：征收高達(dá)3403%關(guān)稅??；傳三星停產(chǎn)DDR4
改進(jìn)EUV光刻制造技術(shù)。與此同時，三星還獲得了High-NA EUV光刻設(shè)備技術(shù)的優(yōu)先權(quán)。 ? 據(jù)外媒報道，
發(fā)表于 04-22 11:06
?1466次閱讀
成都匯陽投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲，后市迎來機(jī)會
【2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機(jī)的需求持續(xù)增長，尤
EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者
? EUV光刻有多強(qiáng)？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)
ASML發(fā)布2024年財報，業(yè)績強(qiáng)勁增長
億歐元。這一季度的新增訂單金額為71億歐元，其中EUV光刻機(jī)訂單占據(jù)了30億歐元，顯示出市場對ASML
如何提高光刻機(jī)的NA值
本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置，每代光刻機(jī)的NA值會比上
光刻機(jī)的分類與原理
本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)介紹
? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高
日本首臺EUV光刻機(jī)就位
本月底完成。 Rapidus 計劃 2025 年春季使用最先進(jìn)的 2 納米工藝開發(fā)原型芯片，于 2027 年開始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。 EUV 機(jī)器結(jié)合了特殊光源、鏡頭和其他技術(shù)，可形成超精細(xì)電路圖案。該系統(tǒng)體積小，不易受到振動和其他干擾。 ASML 是全球
工商網(wǎng)監(jiān)
評論