電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過(guò)程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV
發(fā)表于 10-17 00:13
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,日前,ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司,啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開(kāi)發(fā)。這一
發(fā)表于 06-29 06:39
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出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機(jī)對(duì)電子束質(zhì)量的要求。
只有對(duì)聚焦電極改進(jìn)才是最佳選擇,以下介紹該進(jìn)后的電極工作原理。通過(guò)把電子束壓縮到中心線達(dá)到縮束的目的,使電子束分布在一條直線
發(fā)表于 05-07 06:03
改進(jìn)EUV光刻制造技術(shù)。與此同時(shí),三星還獲得了High-NA EUV光刻設(shè)備技術(shù)的優(yōu)先權(quán)。 ? 據(jù)外媒報(bào)道,
發(fā)表于 04-22 11:06
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? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來(lái)看,沒(méi)有EUV光刻,業(yè)界就無(wú)法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)
發(fā)表于 02-18 09:31
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光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
發(fā)表于 02-06 09:38
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本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上
發(fā)表于 01-20 09:44
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本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
發(fā)表于 01-16 09:29
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? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過(guò)程,但精度要求極高
發(fā)表于 01-07 10:02
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本月底完成。 Rapidus 計(jì)劃 2025 年春季使用最先進(jìn)的 2 納米工藝開(kāi)發(fā)原型芯片,于 2027 年開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。 EUV 機(jī)器結(jié)合了特殊光源、鏡頭和其他技術(shù),可形成超精細(xì)電路圖案。該系統(tǒng)體積小,不易受到振動(dòng)和其他干擾。 ASML 是全球
發(fā)表于 12-20 13:48
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,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過(guò)程對(duì)精度要求極高,光刻機(jī)通過(guò)一系列復(fù)雜的技術(shù)手段,將光束透射過(guò)畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖
發(fā)表于 11-24 09:16
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在2024年投資者會(huì)議上,光刻機(jī)巨頭拋出重磅利好;緊接著ASML股價(jià)開(kāi)始大幅拉升;一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯麥在會(huì)議上宣布,預(yù)計(jì)2030年的銷售額將在440億歐元至600億歐元之間
發(fā)表于 11-15 19:48
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1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī),加快開(kāi)發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報(bào)道,三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款High NA
發(fā)表于 10-31 10:56
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在當(dāng)?shù)貢r(shí)間周二,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥公布了一份不及預(yù)期的第三季度業(yè)績(jī)報(bào)告;訂單量環(huán)比下降53%,?業(yè)績(jī)爆雷第一時(shí)間反應(yīng)到
發(fā)表于 10-16 16:49
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1. 隨著日本將首次引入EUV 光刻機(jī),ASML 當(dāng)?shù)貑T工計(jì)劃增至600 人 ? 隨著日本準(zhǔn)備進(jìn)口其首批極紫外(EUV)光刻機(jī),作為
發(fā)表于 07-24 10:51
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評(píng)論