chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

技術(shù)迭代升級,直寫光刻技術(shù)前景可期

NSFb_gh_eb0fee5 ? 來源:集微網(wǎng) ? 作者:Lee ? 2021-03-18 17:12 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

集微網(wǎng)消息,近年來,在以物聯(lián)網(wǎng)、可穿戴設(shè)備、云計(jì)算、大數(shù)據(jù)、新能源、醫(yī)療電子和安防電子等為主的新興應(yīng)用領(lǐng)域強(qiáng)勁需求下,全球電子產(chǎn)品市場規(guī)模逐年擴(kuò)大,帶動了上游半導(dǎo)體行業(yè)的加速發(fā)展。

據(jù)SIA數(shù)據(jù)顯示,在疫情的干擾下,2020年全球半導(dǎo)體銷售額不減反增,達(dá)到4390億美元,較2019年增長6.5%。同期,我國集成電路銷售收入達(dá)到8848億元,平均增長率為20%,是同期全球產(chǎn)業(yè)增速的3倍。

值得注意的是,作為半導(dǎo)體芯片制造的基石,目前全球半導(dǎo)體設(shè)備市場主要由國外廠商主導(dǎo),行業(yè)呈現(xiàn)高度壟斷的競爭格局,以應(yīng)用材料、ASML為首的前五大半導(dǎo)體設(shè)備制造廠商,占據(jù)了全球半導(dǎo)體設(shè)備市場64.77%的市場份額。

而國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備的全球市場份額只有2%,設(shè)備自給率不超過10%,設(shè)備關(guān)鍵零部件的全球市場份額接近于0,這也意味著半導(dǎo)體設(shè)備的國產(chǎn)化有著巨大的提升空間。

當(dāng)前,國際經(jīng)貿(mào)關(guān)系日趨復(fù)雜,出于供應(yīng)鏈安全的考量,客戶對國產(chǎn)設(shè)備的采購意愿強(qiáng)烈,國產(chǎn)設(shè)備廠商已經(jīng)迎來絕佳的發(fā)展機(jī)遇。而即將登陸科創(chuàng)板的企業(yè)芯碁微裝,正是泛半導(dǎo)體光刻設(shè)備領(lǐng)域的代表廠商之一。

技術(shù)迭代升級,直寫光刻技術(shù)前景可期

光刻技術(shù)是人類迄今所能達(dá)到的尺寸最小、精度最高的加工技術(shù),能通過利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法,將設(shè)計(jì)好的微圖形結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到覆有感光材料的晶圓、玻璃基板、覆銅板等基材表面上,是半導(dǎo)體、顯示面板、PCB等產(chǎn)品制造過程中不可或缺的工藝流程之一。

在微納加工領(lǐng)域中,根據(jù)是否使用掩膜版,光刻技術(shù)主要分為直寫光刻與掩膜光刻。

從掩膜光刻技術(shù)和直寫光刻技術(shù)在泛半導(dǎo)體領(lǐng)域不同細(xì)分市場的應(yīng)用情況對比來看,掩膜光刻技術(shù)主要用于高精度IC前端制造;直寫光刻主要為高精度IC前端制造提供高精度的掩模板,以及少量多品種的IC制造。業(yè)內(nèi)人士指出,直寫光刻技術(shù)無需掩模板,在縮短制程、自動漲縮、多層對位、少量多品種生產(chǎn)、曲面曝光以及一片一碼的智能工廠建設(shè)方面有著明顯的優(yōu)勢。

值得注意的是,在板級封裝及高端PCB制造領(lǐng)域,直寫光刻已經(jīng)全面取代了傳統(tǒng)光刻;在高端顯示、先進(jìn)封裝以及第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域,直寫光刻已經(jīng)展現(xiàn)出取代掩模光刻的趨勢。我們相信經(jīng)過不斷的技術(shù)創(chuàng)新發(fā)展,直寫光刻將會部分甚至全面替代掩模光刻,扮演起微納加工領(lǐng)域的主角。

立足高端光刻裝備領(lǐng)域,直面國外企業(yè)競爭

由于我國直寫光刻技術(shù)發(fā)展起步較晚,且直寫光刻設(shè)備生產(chǎn)工藝復(fù)雜、技術(shù)門檻高,泛半導(dǎo)體領(lǐng)域主要被瑞典Mycronic、德國Heidelberg等國際廠商壟斷,PCB領(lǐng)域也被Orbotech、ORC為代表的國外企業(yè)占據(jù)主要市場份額,目前芯片、顯示面板等生產(chǎn)企業(yè)仍需依賴從國外進(jìn)口光刻設(shè)備。

出于對市場需求的敏銳性,以及自身的技術(shù)儲備與積累,芯碁微裝自2015年成立以來,就專注于直寫光刻技術(shù)領(lǐng)域,并不斷引領(lǐng)和開拓該項(xiàng)技術(shù)的應(yīng)用場景。

2016年4月,芯碁微裝開發(fā)了半導(dǎo)體直寫光刻設(shè)備MLL-C900產(chǎn)品,成功實(shí)現(xiàn)了直寫光刻技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,并在隨后幾年逐步開發(fā)了應(yīng)用于IC掩膜版制版的LDW-X6產(chǎn)品、國產(chǎn)應(yīng)用于OLED顯示面板的直寫光刻自動線系統(tǒng)LDW-D1產(chǎn)品以及晶元級封裝WLP產(chǎn)品,成功與維信諾、中電科、佛智芯、沃格光電、矽邁微電子等業(yè)內(nèi)知名企業(yè)達(dá)成合作,實(shí)現(xiàn)了泛半導(dǎo)體領(lǐng)域的國產(chǎn)替代,成為了國內(nèi)泛半導(dǎo)體領(lǐng)域唯一一家能與國外對標(biāo)的光刻設(shè)備企業(yè)。

此外,芯碁微裝憑借自身在泛半導(dǎo)體直寫光刻設(shè)備方面的技術(shù)積累,成功抓住了直接成像設(shè)備逐步替代傳統(tǒng)曝光設(shè)備的發(fā)展機(jī)遇,順利進(jìn)入市場需求空間更加龐大的PCB制造領(lǐng)域,成功開發(fā)了TRIPOD、ACURA、RTR、UVDI、MAS等一系列PCB直接成像設(shè)備,在最小線寬、對位精度、產(chǎn)能等核心性能指標(biāo)方面同國外廠商展開市場競爭。芯碁微裝憑借穩(wěn)定的技術(shù)、優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品性能、性價(jià)比高及本土服務(wù)等優(yōu)勢,全面覆蓋了下游PCB各細(xì)分產(chǎn)品市場,設(shè)備功能從線路層曝光擴(kuò)展至阻焊層曝光。

在高端PCB領(lǐng)域的IC載板、類載板及HDI板等高精度細(xì)線寬方面,芯碁微裝直寫光刻設(shè)備也處于國際領(lǐng)先水平,直接對標(biāo)國外進(jìn)口設(shè)備。

從招股書來看,2017年至2019年,芯碁微裝PCB直接成像設(shè)備的銷售收入分別為1823.41萬元、5247.11萬元、19242.85萬元,年復(fù)合增長率高達(dá)224.86%。

致力于成為國產(chǎn)光刻機(jī)世界品牌

在市場上大獲成功對于芯碁微裝來說,只是其成長路上的一小步,芯碁微裝的發(fā)展?jié)摿σ矊㈦S著直寫光刻技術(shù)的發(fā)展以及自身能力的提升,逐步釋放出來。

作為新一代光刻技術(shù),直寫光刻技術(shù)的延展性非常好,可以向半導(dǎo)體晶圓制造、掩膜加工、OLED顯示、Mini/MIcroLED顯示應(yīng)用等領(lǐng)域發(fā)展,具有高性價(jià)比,應(yīng)用前景十分廣闊。

為進(jìn)一步開拓新的應(yīng)用場景,芯碁微裝本次募集資金在扣除發(fā)行相關(guān)費(fèi)用后擬用于高端PCB激光直接成像(LDI)設(shè)備升級迭代項(xiàng)目、晶圓級封裝(WLP)直寫光刻設(shè)備產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目、平板顯示(FPD)光刻設(shè)備研發(fā)項(xiàng)目和微納制造技術(shù)研發(fā)中心建設(shè)項(xiàng)目。

370a58ec-87c3-11eb-8b86-12bb97331649.png

目前,無論高端PCB、晶圓級封裝、OLED面板都是市場需求正在快速爆發(fā)的領(lǐng)域,且國內(nèi)廠商正在進(jìn)行新一輪擴(kuò)產(chǎn),設(shè)備需求有望持續(xù)增長。

憑借穩(wěn)定的技術(shù)、優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品性能、性價(jià)比高及本土服務(wù)等優(yōu)勢,芯碁微裝作為在直寫光刻設(shè)備領(lǐng)域率先取得突破的國產(chǎn)企業(yè)之一,將充分受益于技術(shù)迭代升級、國產(chǎn)替代進(jìn)程加速以及下游應(yīng)用市場拉動。

關(guān)于未來發(fā)展戰(zhàn)略,芯碁微裝始終秉承“成為國產(chǎn)光刻機(jī)世界品牌”的奮斗目標(biāo),在“依托自有核心技術(shù),加大研發(fā)力度,開拓新型應(yīng)用領(lǐng)域”及“整合行業(yè)資源,打造高端裝備產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈”的戰(zhàn)略發(fā)展方向下,專注于微納直接成像設(shè)備及直寫光刻設(shè)備領(lǐng)域,圍繞自身技術(shù)優(yōu)勢,結(jié)合行業(yè)發(fā)展趨勢,持續(xù)進(jìn)行產(chǎn)品研發(fā)創(chuàng)新,提升企業(yè)管理水平,不斷培養(yǎng)專業(yè)化人才,不斷進(jìn)行產(chǎn)品的改進(jìn)和升級,滿足境內(nèi)外客戶對高性能直接成像設(shè)備及直寫光刻設(shè)備的需求,積極融入全球化的競爭格局,力爭成為微納直寫光刻領(lǐng)域的國際領(lǐng)先企業(yè),為股東和社會創(chuàng)造價(jià)值。
編輯:lyn

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 直寫光刻
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    3

    瀏覽量

    6454
  • 半導(dǎo)體設(shè)備

    關(guān)注

    4

    文章

    414

    瀏覽量

    16524

原文標(biāo)題:國產(chǎn)化浪潮下,芯碁微裝立志成為光刻機(jī)世界品牌

文章出處:【微信號:gh_eb0fee55925b,微信公眾號:半導(dǎo)體投資聯(lián)盟】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    【「AI芯片:科技探索與AGI愿景」閱讀體驗(yàn)】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)

    %。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。 2、晶背供電技術(shù) 3、EUV光刻機(jī)與其他競爭技術(shù) 光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)
    發(fā)表于 09-15 14:50

    【「AI芯片:科技探索與AGI愿景」閱讀體驗(yàn)】+可期之變:從AI硬件到AI濕件

    生物化學(xué)計(jì)算機(jī),它通過離子、分子間的相互作用來進(jìn)行復(fù)雜的并行計(jì)算。因而未來可期前景是AI硬件將走向AI濕件。 根據(jù)研究,估算出大腦的功率是20W,在進(jìn)行智力活動時(shí),其功率會增大到25~50W。在大腦進(jìn)化
    發(fā)表于 09-06 19:12

    套刻精度已達(dá)2μm,芯碁微裝直寫光刻設(shè)備獲頭部封測企業(yè)訂單

    采購訂單,產(chǎn)品主要應(yīng)用于 SoW、CIS、類CoWoS-L 等大尺寸芯片封裝方向。 ? 芯碁微裝指出,隨著人工智能、高性能計(jì)算等應(yīng)用的爆發(fā)式增長,市場對大尺寸、高集成度的中道芯片需求激增。芯碁微裝憑借其在直寫光刻領(lǐng)域深厚的技術(shù)
    的頭像 發(fā)表于 08-25 08:38 ?1.1w次閱讀
    套刻精度已達(dá)2μm,芯碁微裝<b class='flag-5'>直寫</b><b class='flag-5'>光刻</b>設(shè)備獲頭部封測企業(yè)訂單

    今日看點(diǎn)丨芯碁微裝直寫光刻設(shè)備批量導(dǎo)入國內(nèi)多家封測龍頭;英特爾首個(gè)機(jī)架級 AI 芯片樣品曝光

    SoW、CIS、類CoWoS-L 等大尺寸芯片封裝方向。 ? 隨著人工智能、高性能計(jì)算等應(yīng)用的爆發(fā)式增長,市場對大尺寸、高集成度的中道芯片需求激增。芯碁微裝憑借其在直寫光刻領(lǐng)域深厚的技術(shù)積累,精準(zhǔn)把握市場趨勢,推出的設(shè)備解決方
    發(fā)表于 08-21 10:33 ?1510次閱讀

    澤攸科技 | 電子束光刻(EBL)技術(shù)介紹

    電子束光刻(EBL)是一種無需掩模的直接寫入式光刻技術(shù),其工作原理是通過聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進(jìn)行納米級圖案直寫。
    的頭像 發(fā)表于 08-14 10:07 ?2162次閱讀
    澤攸科技 | 電子束<b class='flag-5'>光刻</b>(EBL)<b class='flag-5'>技術(shù)</b>介紹

    光刻工藝中的顯影技術(shù)

    一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù),通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化,再經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設(shè)計(jì)在掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上,是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微
    的頭像 發(fā)表于 06-09 15:51 ?1889次閱讀

    詳談X射線光刻技術(shù)

    隨著極紫外光刻(EUV)技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn),X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢,在特定領(lǐng)域正形成差異化競爭格局。
    的頭像 發(fā)表于 05-09 10:08 ?1261次閱讀
    詳談X射線<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b>

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而
    發(fā)表于 05-07 06:03

    一文詳解電子束光刻技術(shù)

    本文系統(tǒng)梳理了直寫式、多電子束與投影式EBL的關(guān)鍵技術(shù)路徑,涵蓋掃描策略、束流整形、鄰近效應(yīng)校正與系統(tǒng)集成等方面,并探討其在精度、效率與成本間的技術(shù)矛盾與未來發(fā)展方向。
    的頭像 發(fā)表于 04-30 11:00 ?3588次閱讀
    一文詳解電子束<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b>

    最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測

    ——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜,再到測試封裝,一目了然。 全書共分20章,根據(jù)應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的主要技術(shù)分類來安排章節(jié),包括與半導(dǎo)體制造相關(guān)的基礎(chǔ)技術(shù)信息;總體流程圖
    發(fā)表于 04-15 13:52

    EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機(jī)器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸? EUV
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?1935次閱讀
    EUV<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b>面臨新挑戰(zhàn)者

    納米壓印技術(shù):開創(chuàng)下一代光刻的新篇章

    光刻技術(shù)對芯片制造至關(guān)重要,但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制,摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸,下一代光刻(NGL)技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。本文將介紹納米壓印
    的頭像 發(fā)表于 02-13 10:03 ?3397次閱讀
    納米壓印<b class='flag-5'>技術(shù)</b>:開創(chuàng)下一代<b class='flag-5'>光刻</b>的新篇章

    納米壓印光刻技術(shù)旨在與極紫外光刻(EUV)競爭

    來源:John Boyd IEEE電氣電子工程師學(xué)會 9月,佳能交付了一種技術(shù)的首個(gè)商業(yè)版本,該技術(shù)有朝一日可能顛覆最先進(jìn)硅芯片的制造方式。這種技術(shù)被稱為納米壓印光刻
    的頭像 發(fā)表于 01-09 11:31 ?1147次閱讀

    光刻掩膜技術(shù)介紹

    ?? 光刻掩膜簡介 ?? ? 光刻掩膜(Photomask)又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等,通常簡稱“mask”,是半導(dǎo)體制造過程中用于圖案轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具,對于光刻工藝的重要性不弱于
    的頭像 發(fā)表于 01-02 13:46 ?4677次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻</b>掩膜<b class='flag-5'>技術(shù)</b>介紹