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硅基Mini LED顯示 晶能硅基垂直芯片方案的三大優(yōu)勢(shì)

LED顯示渠道 ? 來(lái)源:晶能光電 ? 作者:晶能光電 ? 2021-08-10 10:16 ? 次閱讀
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LED行業(yè)每十年左右迎來(lái)一輪大的技術(shù)和應(yīng)用升級(jí)。十年前以大尺寸背光、小間距顯示為代表的應(yīng)用升級(jí),驅(qū)動(dòng)了2010-2017年LED行業(yè)的繁榮。而結(jié)合目前芯片價(jià)格上漲、中國(guó)臺(tái)灣產(chǎn)業(yè)鏈營(yíng)收回暖等跡象,LED行業(yè)拐點(diǎn)正在來(lái)臨,下游需求向好疊加技術(shù)升級(jí)推動(dòng)行業(yè)景氣抬升,Mini/Micro LED將開(kāi)啟下一個(gè)十年。

LED日趨微型化,Mini & Micro LED應(yīng)運(yùn)而生, MiniLED背光產(chǎn)品對(duì)提升顯示質(zhì)量效果顯著, Mini LED背光商業(yè)化進(jìn)展迅速,有望成為液晶高端顯示器解決方案。專(zhuān)家預(yù)測(cè)Mini & Micro LED直顯可能是未來(lái)最優(yōu)的顯示技術(shù);高畫(huà)質(zhì)、低能耗特點(diǎn)使其在消費(fèi)電子市場(chǎng)優(yōu)勢(shì)盡顯。

2021年8月4日,深圳市照明與顯示工程行業(yè)協(xié)會(huì)、惠州仲愷高新區(qū)LED品牌發(fā)展促進(jìn)會(huì)、廣州國(guó)際照明展覽會(huì)在廣州國(guó)際照明展9.2號(hào)館E60聯(lián)合主辦主題為“LED顯示照明行業(yè)新十年”的Mini & Micro LED顯示照明發(fā)展高峰論壇

晶能芯片中心總監(jiān)楊小東出席Mini & Micro LED顯示照明發(fā)展高峰論壇并做《硅基LED Mini超高清顯示屏應(yīng)用趨勢(shì)》主題演講。

以下是報(bào)告主要內(nèi)容

晶能硅基垂直芯片方案有三大優(yōu)勢(shì):

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01

Mini LED顯示方案

晶能TFFC芯片P0.6—P0.3間距解決方案簡(jiǎn)介:

TFFC: 一般指經(jīng)過(guò)襯底剝離的薄膜LED芯片,做成倒裝結(jié)構(gòu),稱(chēng)為thin film flip chip,薄膜倒裝LED芯片或者去襯底倒裝LED芯片,簡(jiǎn)稱(chēng)TFFC。

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晶能P0.6—P0.3顯示方案TFFC 2*4mil芯片簡(jiǎn)介:

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VTF/TFFC 芯片實(shí)現(xiàn)P0.6—0.3技術(shù)方案介紹:

由于現(xiàn)有四元紅光去襯底后機(jī)械強(qiáng)度不夠,在極小芯片尺寸下進(jìn)行轉(zhuǎn)移的過(guò)程中容易碎裂,很難進(jìn)行后續(xù)的工藝生產(chǎn)。晶能將以下兩個(gè)技術(shù)路線(xiàn)為主要研發(fā)方向:

技術(shù)路線(xiàn)一:

RGB三色均采用InGaN TFFC ,LED外延、芯片制程統(tǒng)一。硅基InGaN紅光LED取得巨大突破,為該技術(shù)提供可能。

技術(shù)路線(xiàn)二:

TFFC芯片+量子點(diǎn)/KSF紅光(QD/KSF+藍(lán)光InGaNLED),采用印刷、噴涂、打印等技術(shù),在藍(lán)光LED表面放置QD或者KSF熒光粉得到紅色的LED。

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TFFC、FC與Micro芯片對(duì)比(實(shí)現(xiàn)P0.6以下間距顯示):

用Micro芯片技術(shù)的約70%去實(shí)現(xiàn)Mini顯示,降低了技術(shù)難度,同時(shí)可以讓4k、8k超高清顯示的LED芯片成本大幅度降低,大量量產(chǎn)有機(jī)會(huì)在2年內(nèi)實(shí)現(xiàn)。

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02

硅基Mini LED芯片進(jìn)展

晶能硅基Mini LED 產(chǎn)品量產(chǎn)規(guī)劃:

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4K、8K Mini超高清顯示大屏在5G技術(shù)的驅(qū)動(dòng)下勢(shì)不可擋,晶能硅基Mini LED芯片技術(shù)路線(xiàn)有機(jī)會(huì)提供一個(gè)超高性?xún)r(jià)比光源解決方案。

03

硅基MicroLED芯片展望

MicroLED預(yù)研:

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4fd01518-f7dc-11eb-9bcf-12bb97331649.png

世界范圍內(nèi)主流Micro的研究方向還是以硅襯底GaN LED去襯底技術(shù)路線(xiàn)為主,由于硅襯底GaN與硅半導(dǎo)體晶圓的物理兼容性,可以最大效能利用晶能現(xiàn)有資源,同時(shí)避開(kāi)巨量轉(zhuǎn)移問(wèn)題,公司優(yōu)先著力Micro LED微顯示研究,應(yīng)用AR/VR/HUD/HMD等方向。

硅基GaN與硅基CMOS驅(qū)動(dòng)電路進(jìn)行晶圓級(jí)邦定,去除硅襯底后在CMOS晶圓繼續(xù)GaN芯片工藝。

研發(fā)路線(xiàn):先單色,后全彩。

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晶能光電簡(jiǎn)介

晶能光電成立于2006年2月,是專(zhuān)注于大功率LED芯片、器件和第三代半導(dǎo)體GaN材料開(kāi)發(fā)與生產(chǎn)的高科技企業(yè)。 晶能光電在硅襯底GaN技術(shù)領(lǐng)域已耕耘近二十載,在全球率先實(shí)現(xiàn)硅襯底GaN技術(shù)在LED領(lǐng)域的產(chǎn)業(yè)化和市場(chǎng)應(yīng)用,開(kāi)創(chuàng)了全球第三條藍(lán)光LED技術(shù)路線(xiàn),在全球申請(qǐng)或擁有420多項(xiàng)專(zhuān)利,其中硅襯底GaN基藍(lán)光LED技術(shù)獲得2015年度國(guó)家技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)。同時(shí),公司憑借硅襯底GaN材料技術(shù)優(yōu)勢(shì),在硅襯底Micro LED和GaN HEMT的材料研究領(lǐng)域具有深厚積淀。 公司擁有國(guó)際化的技術(shù)團(tuán)隊(duì)和管理團(tuán)隊(duì),具備持續(xù)創(chuàng)新的、先進(jìn)的大規(guī)模生產(chǎn)制造和管理能力。公司將秉承創(chuàng)新和本分的基因,致力于為全球消費(fèi)者提供全方位的高端LED照明、微顯示和GaN器件的產(chǎn)品和解決方案。

編輯:hfy

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原文標(biāo)題:LED顯示照明行業(yè)新十年|硅基Mini LED顯示

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