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芯片制造工藝流程9個(gè)步驟

lhl545545 ? 來(lái)源:百度經(jīng)驗(yàn) 搜狐 儀器網(wǎng) ? 作者:百度經(jīng)驗(yàn) 搜狐 儀 ? 2021-12-15 11:01 ? 次閱讀
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芯片制造工藝流程主要9個(gè)步驟如下:

1.晶圓涂膜

2.晶圓光刻顯影

3.蝕刻

4.摻加雜質(zhì)

5.晶圓測(cè)試

6.封裝

7.測(cè)試

8.包裝

9.機(jī)械打磨

半導(dǎo)體芯片制作完整過(guò)程包括芯片設(shè)計(jì)、晶片制作、封裝制作、成本測(cè)試等幾個(gè)環(huán)節(jié),光刻顯影和蝕刻的過(guò)程使用了對(duì)紫外光敏感的化學(xué)物質(zhì),精密的芯片其制造過(guò)程異常的復(fù)雜,其中晶片制作過(guò)程尤為的復(fù)雜,因此同種芯片內(nèi)核可以有不同的封裝形式。

本文綜合整理自百度經(jīng)驗(yàn) 搜狐 儀器網(wǎng)
審核編輯:彭菁
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