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Atonarp Aston Impact 計量平臺開始向韓國半導(dǎo)體 FAB 批量出貨

21克888 ? 來源:廠商供稿 ? 作者:Atonarp ? 2022-04-06 18:25 ? 次閱讀
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北京,2022 年 4 月 6日 - Atonarp,半導(dǎo)體工藝控制原位實時高靈敏度計量領(lǐng)域的領(lǐng)頭企業(yè),在全球范圍內(nèi)正式發(fā)布并銷售其 Aston平臺。這是 Atonarp 公司全球發(fā)展進(jìn)程中的一座重要里程碑。


Aston 是一款緊湊型質(zhì)譜儀,可提供準(zhǔn)確、實時的工藝化學(xué)數(shù)據(jù),其分子濃度測量靈敏度可達(dá)十億分之一。這些數(shù)據(jù)能讓半導(dǎo)體制造 FAB 實現(xiàn)高效運行,從而提高產(chǎn)量和吞吐量,為 FAB 運營商帶來巨大的經(jīng)濟(jì)利益。

隨著這一消息的宣布,Atonarp 正向韓國和美國的領(lǐng)先半導(dǎo)體 FAB 和設(shè)備制造商交付了 Aston Impact。此外,Atonarp 還向客戶交付數(shù)十臺 Aston ,供客戶在其先進(jìn)工藝中進(jìn)行評估,以優(yōu)化其工藝和制造效率。

Atonarp 公司產(chǎn)品營銷副總裁 Martin Mason 說:“在分子水平上快速檢測、量化并提供可操作的工藝控制數(shù)據(jù)的能力,對于先進(jìn)半導(dǎo)體制造工藝來說意義重大。對于一個典型的 FAB 來說,即使吞吐量只增加百分之一,每年也能增加數(shù)千萬美元的產(chǎn)量。Aston 十分清楚其潛力,在這其中,速度和靈敏度對分子水平的工藝控制效率來說十分重要。”

計量是半導(dǎo)體制造的一個重要部分,在生產(chǎn)設(shè)備內(nèi)測量多種氣體的濃度,可以確保滿足工藝余量,同時盡量減少浪費。以前的解決方案依賴于光發(fā)射光譜測量和殘余氣體分析儀,但這些傳統(tǒng)方法已不能滿足當(dāng)今先進(jìn)存儲器和邏輯工藝所需的速度和靈敏度。相反,Aston 使用創(chuàng)新質(zhì)譜技術(shù),采用同類最佳傳感器,可提供快速的結(jié)果和出色的靈敏度,以及抵抗腐蝕性氣體和冷凝物所需的堅固性。

Aston 為先進(jìn)半導(dǎo)體應(yīng)用提供可操作數(shù)據(jù),如原子水平沉積 (ALD) 和 sub-fab 操作等。Aston 靈敏度低于十億分之平方根赫茲 (9ppb√Hz),比競爭對手的解決方案高十倍,且不影響收集數(shù)據(jù)的速度。

Atonarp 正積極開展合作,為半導(dǎo)體領(lǐng)域的新應(yīng)用以及需要實時、敏感氣體分析的應(yīng)用(如石油和天然氣以及凍干法工藝控制)開發(fā) Aston 平臺。

Aston 已取得多項認(rèn)證和資格,包括 EN55032(歐盟)、EN55035(歐盟)、FCC part 15(美國)、ICES-003(加拿大)、VCCI CISPR-32(日本)、BSMI(中國臺灣)、KC EMC(韓國)的 EMI/EMC 標(biāo)準(zhǔn)。憑借這些認(rèn)證,Aston 現(xiàn)已面向全球客戶批量發(fā)貨。

Atonarp 與韓國 ATI 公司合作,為該地區(qū)客戶提供蝕刻、CVD、空間 ALD 和 Sub-fab 應(yīng)用的綜合解決方案。

如您想了解關(guān)于 Atonarp Aston 系列產(chǎn)品的更多信息,請訪問: https://www.atonarp.com。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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