臺(tái)積電2nm芯片用什么技術(shù) 臺(tái)積電2nm芯片在哪里建廠
在2022年北美技術(shù)論壇上，臺(tái)積電公布了未來(lái)工藝制程的路線和2NM的相關(guān)信息，那么臺(tái)積電的2nm芯片用什么技術(shù)呢？又在哪里建廠生產(chǎn)2nm芯片呢？
臺(tái)積電2nm芯片將廣泛使用EUV光刻技術(shù)，將使用基于納米片的柵極全方位場(chǎng)效應(yīng)的節(jié)點(diǎn)晶體管（GAAFET）。
臺(tái)積電稱，此項(xiàng)技術(shù)能夠讓設(shè)計(jì)人員在相同功耗的條件中，將性能提升10%至15%，在相同的速度中，功耗降低25%至30%，同時(shí)，與N3E節(jié)點(diǎn)相比，芯片密度增加了1.1倍以上。
據(jù)媒體報(bào)道，臺(tái)積電已經(jīng)啟動(dòng)了竹科寶山二期的2nm晶圓廠Fab20建廠計(jì)劃，未來(lái)將成為2nm芯片生產(chǎn)重鎮(zhèn)，有業(yè)內(nèi)人士透露，臺(tái)積電Fab20廠區(qū)將分為第一期到第四期、共建設(shè)4座12英寸晶圓廠，預(yù)計(jì)2024年下半年開(kāi)始風(fēng)險(xiǎn)性試產(chǎn)，2025年開(kāi)始量產(chǎn)。
審核編輯：chenchen
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