duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是什么
目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是是什么呢？
duv光刻機和euv光刻機區(qū)別
1.基本上duv只能做到25nm，而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產(chǎn)。
2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，內部必須是真空操作。
以上就是duv光刻機和euv光刻機區(qū)別了，現(xiàn)在基本都是euv光刻機。
文章綜合php中文網(wǎng)、科創(chuàng)板日報、百度百科
編輯：何安
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