chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

euv光刻機用途是什么

璟琰乀 ? 來源:懂視網、csdn、百度百科 ? 作者:懂視網、csdn、百度 ? 2022-07-10 16:34 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

光刻機是當前半導體芯片產業(yè)的核心設備,其技術含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢?下面我們就一起來看看吧。

光刻設備涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先進技術。 是半導體行業(yè)技術含量最高的設備。

光刻機在芯片制作中扮演著很重要的角色。在加工芯片的時候,光刻機會通過光源能量、形狀控制手段,讓光束透射過畫著線路圖的掩膜,能夠把線路圖縮小然后映射在硅片上,最后用化學方法顯影,就有了硅片上的電路圖。

所以euv光刻機是一種非常復雜的機械,現在全球最厲害的光刻機生產商是ASML,是荷蘭的一家生產商,他們的光刻機是最受歡迎的。

本文綜合自懂視網、csdn、百度百科

編輯:何安

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 光刻機
    +關注

    關注

    31

    文章

    1167

    瀏覽量

    48200
  • EUV
    EUV
    +關注

    關注

    8

    文章

    609

    瀏覽量

    87248
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    光刻機巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產的關鍵,但目前EUV
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?3406次閱讀

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關,電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關于光刻機概念大漲,后市迎來機會

    【2025年光刻機市場的規(guī)模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一,其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長,尤其是在先
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?635次閱讀

    EUV光刻技術面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?1025次閱讀
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技術面臨新挑戰(zhàn)者

    什么是光刻機的套刻精度

    在芯片制造的復雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說,它就像建造摩天大樓
    的頭像 發(fā)表于 02-17 14:09 ?2296次閱讀
    什么是<b class='flag-5'>光刻機</b>的套刻精度

    光刻機用納米位移系統(tǒng)設計

    光刻機用納米位移系統(tǒng)設計
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?499次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>用納米位移系統(tǒng)設計

    如何提高光刻機的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?1372次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機</b>的NA值

    光刻機的分類與原理

    本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?2560次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的分類與原理

    組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

    納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機的心臟,負責提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源,但隨著技術的進步,目前多采用深紫外(DUV)或極紫外(
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?2253次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機</b>的各個分系統(tǒng)介紹

    日本首臺EUV光刻機就位

    據日經亞洲 12 月 19 日報道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設備的半導體公司,已經開始在北海道芯片制造廠內安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進行安裝,設備安裝預計在
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?920次閱讀
    日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機</b>就位

    用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造:光刻技術的演進 過去半個多世紀,摩爾定律一直推動著半導體技術的發(fā)展,但當光刻機的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?2474次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術介紹

    光刻機的工作原理和分類

    ? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據著至關重要的地位,被譽為芯片制
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?5877次閱讀

    一文看懂光刻機的結構及雙工件臺技術

    光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術難度最大的設備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發(fā)展歷程、結構組成、關鍵性能參數以及雙工件臺技術展開介紹。 一、光刻機發(fā)展歷程 光刻機的發(fā)展歷程
    的頭像 發(fā)表于 11-22 09:09 ?4628次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻機</b>的結構及雙工件臺技術

    今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進High NA EUV光刻機

    1. 三星將于2025 年初引進High NA EUV 光刻機,加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據報道,三星電子正準備在2025年初引入其首款High NA EUV(極紫外)光刻機設備,這標
    發(fā)表于 10-31 10:56 ?1047次閱讀

    日本大學研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術

    近日,日本沖繩科學技術大學院大學(OIST)發(fā)布了一項重大研究報告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV光刻技術。這一創(chuàng)新技術超越了當前半導體制造業(yè)的標準界限,其設計的光刻設備能夠采用更小巧的
    的頭像 發(fā)表于 08-03 12:45 ?1636次閱讀