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使用工藝和設(shè)計創(chuàng)建3D實體模型

泛林半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù) ? 來源:泛林半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù) ? 作者:泛林半導(dǎo)體設(shè)備技 ? 2022-12-01 14:42 ? 次閱讀
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什么是3D實體建模

你肯定聽說過“3D實體建?!薄_@個術(shù)語最早起源于驗證工程界,現(xiàn)在已經(jīng)變得幾乎無處不在。娛樂媒體、3D打印、甚至家裝設(shè)計等主流行業(yè)如今都開始用這個詞,這幾乎成了我們這個時代的象征之一。工程界對3D實體建模有一個集體的理解,這往往不同于該術(shù)語的主流用法。3D實體建模不僅僅是物體的虛擬呈現(xiàn),看起來很神奇并且可以使用3D打印機生產(chǎn)。對于大多數(shù)工程師來說,3D實體建模是有限元分析 (FEA, Finite Element Analysis) 的途徑。

有限元分析是對一個系統(tǒng)的數(shù)值分析,為了方便分析,該系統(tǒng)被分解成許多小的、基本的部件(有限元)。利用有限元,工程師可以通過將大系統(tǒng)轉(zhuǎn)化為多個小部件(或方程組)來理解一個大而復(fù)雜的系統(tǒng)。有限元分析軟件可以為每一個較小的部件生成相對簡單的方程,然后像拼圖一樣,通過重構(gòu)較小的部分求解出大系統(tǒng)的完整解決方案。

因為有限元分析從計算上來說比較“昂貴”,用于有限元分析的3D實體模型必須平衡好幾何保真度(對真實結(jié)構(gòu))的需求與仿真的難度和時間。為了進行精確且成本合理的有限元仿真,工程師需要仔細將他們的3D實體模型進行“網(wǎng)格化”。

如何為有限元分析的MEMS設(shè)計

建立3D實體模型

找一個軟件來生成實體模型很容易,也有能實現(xiàn)物體3D虛擬呈現(xiàn)的軟件。商業(yè)軟件供應(yīng)商提供的3D實體建模工具的設(shè)計考慮到了工程界人士的需求。設(shè)計師可以使用這些工具從草圖開始構(gòu)建3D幾何體,或從一組基本構(gòu)建塊(立方體、球體、棱柱體等)構(gòu)建完整模型。這些軟件包有非常豐富的庫,內(nèi)含可以加快創(chuàng)建及其復(fù)雜虛擬系統(tǒng)的實體建模特征。但是這些軟件包適合設(shè)計MEMS器件嗎?

MEMS器件不像大多數(shù)真實世界的結(jié)構(gòu)。MEMS器件在結(jié)構(gòu)的整體尺寸(毫米量級)和最小特征的尺寸(通常微米量級)之間存在巨大的深寬比差異。MEMS設(shè)計往往還包括很多幾何部件,這些部件用于模擬重復(fù)的幾何體,如刻蝕釋放孔或梳狀轉(zhuǎn)子和定子,即使使用最精密的3D實體建模軟件引擎重建MEMS設(shè)計都非常具有挑戰(zhàn)性。此外,MEMS的制造和IC芯片一樣,MEMS設(shè)計人員必須考慮到一些可能對于其他學(xué)科的工程師并不重要的復(fù)雜問題,例如光刻分辨率、沉積均勻度和非正交側(cè)壁刻蝕等。因此,理想的MEMS設(shè)計需要專門的3D建模和有限元分析工具。

從設(shè)計和工藝到3D實體模型

假設(shè)我們有了下一代MEMS傳感器的想法。為了高效地確定我們想法的可行性,我們需要創(chuàng)建一個3D實體模型,用FEA進行分析。我們應(yīng)該怎么做呢?使用與這種傳感器的構(gòu)建方式相匹配的方法自然會得到一個解決方案。

例如,我們想要建立一個商業(yè)MEMS慣性傳感器的3D實體模型(如圖1):

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圖1:ST微系統(tǒng)陀螺儀的俯視圖(來源:TechInsights)

MEMS常常在設(shè)計中被概念化,使用2D來代表3D結(jié)構(gòu)。圖1所示的MEMS器件的設(shè)計檔案示例如下方圖2所示。2D設(shè)計檔案(或設(shè)計幾何圖形)最終用于創(chuàng)建制造掩膜,在器件制造過程中將沉積的薄膜圖形化。構(gòu)建這個2D設(shè)計檔案需要大量的時間,理想情況下,我們希望利用這段時間來生成我們的3D實體模型。如果我們也有一個制造步驟列表,能從初始設(shè)計“構(gòu)建”MEMS器件,那么2D設(shè)計檔案就可以生成所需MEMS器件的3D模型。

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圖2:ST陀螺儀的設(shè)計圖(使用TechInsights teardown的反向工程)

和CMOS芯片一樣,MEMS的制造是基于晶圓的。在MEMS制造中不使用標準機械產(chǎn)品常見的鑄造、成形、壓制或其他制造工藝。MEMS制造涉及薄膜表面工藝和體微加工等工藝。這些工藝還包括在基板(如硅晶圓)上沉積材料所需的步驟和使用制造掩膜圖形化沉積的減成刻蝕步驟。工藝說明類似于配方,規(guī)定了適當?shù)某练e厚度、光刻掩膜、刻蝕深度和其他步驟。

比起使用標準的3D實體建模軟件費力地重新生成MEMS器件的2D呈現(xiàn),更有效的解決方案是簡單地使用2D設(shè)計幾何檔案和工藝配方直接創(chuàng)建我們的3D模型。這個解決方案不僅更快,而且消除了轉(zhuǎn)換中無意間出錯的可能性,確保我們的3D模型與實際掩膜數(shù)據(jù)的最高保真和匹配度。2D設(shè)計檔案和工藝說明的結(jié)合帶來了制造設(shè)施所產(chǎn)器件的3D虛擬呈現(xiàn)(圖3)。

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圖3:由設(shè)計和工藝說明實現(xiàn)的3D實體模型

這個3D實體模型是后續(xù)有限元分析的切入點,可以用來研究我們設(shè)計的可行性。

?

結(jié)語

?

有限元分析被廣泛認為是包括MEMS設(shè)計在內(nèi)的工程設(shè)計中必不可少的組成部分。為了進行高效準確的有限元仿真,首先需要創(chuàng)建合適的3D實體模型。目前有多種商用CAD軟件系統(tǒng)用于建立3D模型,這些3D模型可用于后續(xù)的有限元分析。然而,由于MEMS和半導(dǎo)體行業(yè)中所需的獨特幾何要求和制造技術(shù),將通用的實體建模軟件用于MEMS和半導(dǎo)體行業(yè)非常困難、低效、進而昂貴。工程師需要一種與MEMS和半導(dǎo)體行業(yè)使用的設(shè)計和制造方法一致的3D實體建模選項。CoventorMP就是這樣一款軟件,可以利用現(xiàn)有的2D設(shè)計檔案和制造工藝說明,創(chuàng)建適合有限元分析的3D實體模型。

審核編輯 :李倩

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原文標題:使用工藝和設(shè)計創(chuàng)建3D實體模型

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