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韓國(guó)公司研發(fā)出先進(jìn)的石墨烯EUV薄膜

深圳市賽姆烯金科技有限公司 ? 來(lái)源:愛集微 ? 作者:愛集微 ? 2022-12-16 10:29 ? 次閱讀
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據(jù)韓媒BusinessKorea報(bào)道,一家小型韓國(guó)公司開發(fā)了一種石墨烯EUV薄膜,有望顯著提高荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司ASML的極紫外(EUV)光刻設(shè)備的良率。

11月14日,半導(dǎo)體和顯示材料開發(fā)商石墨烯實(shí)驗(yàn)室宣布,公司已經(jīng)開發(fā)出用石墨烯制造小于5納米的EUV薄膜的技術(shù),并準(zhǔn)備批量生產(chǎn)新的EUV薄膜。

光罩薄膜(Pellicle)是用于保護(hù)EUV工藝中使用的掩模的一種關(guān)鍵制品,它對(duì)于5納米或以下的超微制造工藝至關(guān)重要,這也是一種需要定期更換的消耗品。據(jù)介紹,該EUV薄膜可保護(hù)光掩模表面免受空氣中分子或污染物的影響,由于EUV設(shè)備的光源波長(zhǎng)較短,因此EUV薄膜需要變薄以增加透光率。

硅以前已被用于制造EUV薄膜,石墨烯實(shí)驗(yàn)室CEO Kwon Yong-deok表示,石墨烯比硅更薄、更透明,石墨烯制的EUV薄膜將作為使用EUV光刻設(shè)備良率的助推器。

報(bào)道指出,全球EUV薄膜市場(chǎng)預(yù)計(jì)將在2024年達(dá)到1萬(wàn)億韓元?!?a href="http://www.brongaenegriffin.com/tags/三星/" target="_blank">三星電子,臺(tái)積電和英特爾是石墨烯實(shí)驗(yàn)室的潛在客戶?!盞won表示。

審核編輯 :李倩

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原文標(biāo)題:韓國(guó)公司研發(fā)出先進(jìn)的石墨烯EUV薄膜

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