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8吋SiC外延設備首次亮相 已經(jīng)完成首輪工藝驗證

行家說三代半 ? 來源:行家說三代半 ? 2023-07-24 10:29 ? 次閱讀
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6月29日,中國電科48所宣布,他們自主研制的8吋SiC外延設備首次亮相,并且已經(jīng)完成首輪工藝驗證。

在SEMICON China 2023上海展上,中國電科集團攜集成電路、第三代半導體、半導體顯示、光伏及熱工等領域設備和工藝整體解決方案重裝亮相,全面展示了最新實踐和成果。

展會期間,48所重磅發(fā)布了最新研制的8英寸碳化硅外延設備。該設備將進一步推進SiC電力電子器件制造降本增效,牽引SiC行業(yè)向低成本、規(guī)?;较虬l(fā)展。

48所黨委書記王平介紹,“當前主流的SiC單晶與外延生長還處于6吋階段,擴大尺寸成為產(chǎn)業(yè)鏈降本增效的主要路徑。48所聚焦第三代半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的迫切需求和瓶頸問題,搶灘布局,奮力開展8吋SiC外延設備關鍵技術突破及工藝研發(fā),目前該設備已完成首輪工藝驗證,為48所駛?cè)隨iC產(chǎn)業(yè)‘快車道’打下了堅實基礎?!?/p>

經(jīng)過一年的技術攻關,48所研發(fā)團隊在6吋SiC外延設備基礎上,進一步優(yōu)化水平進氣裝置設計、熱壁式反應室構型等設計,克服了大尺寸外延生長反應源沿程損耗突出、溫流場分布不均等問題,滿足了大尺寸、高質(zhì)量外延生長需求,實現(xiàn)了外延裝備從6吋到8吋的技術迭代。

目前,48所自研的8吋SiC外延設備核心技術指標取得了關鍵性突破,8英寸生長厚度均勻性<1.5%,摻雜濃度均勻性<4%,表面致命缺陷<0.4個/cm2,這些技術指標的突破,標志著48所已成功掌握8吋SiC外延設備相關技術。

48所表示,作為我國半導體裝備領域的“國家隊”,他們將始終致力于半導體微細加工設備的技術研究,堅持在創(chuàng)新實踐中奮進領跑,加速推進產(chǎn)品迭代升級和產(chǎn)業(yè)化應用,為實現(xiàn)我國半導體裝備領域關鍵核心技術自立自強作出積極貢獻。

編輯:黃飛

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:關鍵性突破!這款8吋SiC設備完成首輪驗證

文章出處:【微信號:SiC_GaN,微信公眾號:行家說三代半】歡迎添加關注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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