又一家光刻膠廠商博硯電子開啟上市輔導
8月25日，證監(jiān)會公布江蘇博硯電子科技股份有限公司首次公開發(fā)行股票并發(fā)布上市報道相關注冊報告。
據(jù)披露，，江蘇博硯電子科技股份有限公司（以下簡稱“博硯電子”）于2023年8月23日與國金證券簽訂了《江蘇博硯電子科技股份有限公司與國金證券股份有限公司關于首次公開發(fā)行股票并上市之輔導協(xié)議》合同，聘請國金證券為ipo和上市報道機構。國金證券作為博硯電子的首個上市輔助機構接受了委托。特此向中國證監(jiān)會監(jiān)管管理局申請補助注冊。
據(jù)資料顯示，江蘇博硯電子科技股份有限公司成立于2014年7月，是一家研究、開發(fā)、生產tft-lcd彩色濾色器用光刻膠的專業(yè)企業(yè)。公司的主要產品是光刻膠，光刻膠廣泛用于tft-lcd顯示器、印刷電路和集成電路以及印刷工程等。
公司持續(xù)技術創(chuàng)新戰(zhàn)略，憑借自身雄厚的科研實力，突破本土制造的長期技術瓶頸，已經成功開發(fā)出系列光刻膠產品。
聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
集成電路
+關注
關注
5441文章
12323瀏覽量
371201 -
ipo
+關注
關注
1文章
1258瀏覽量
34409 -
光刻膠
+關注
關注
10文章
345瀏覽量
31387
發(fā)布評論請先 登錄
相關推薦
熱點推薦
光刻膠剝離工藝
光刻膠剝離工藝是半導體制造和微納加工中的關鍵步驟，其核心目標是高效、精準地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結構。以下是該工藝的主要類型及實施要點：濕法剝離技術有機溶劑溶解法原理：使用丙酮、NMP
光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測方法
在芯片制造領域的光刻工藝中，光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié)，而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精度、高速度的特點，為光刻膠厚度監(jiān)測提供了可靠
從光固化到半導體材料：久日新材的光刻膠國產替代之路
當您尋找可靠的國產半導體材料供應商時，一家在光刻膠領域實現(xiàn)全產業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材（688199.SH）。這家光引發(fā)劑巨頭，正以令人矚目的速度在半導體核心材料國產化浪潮中嶄露頭角
國產光刻膠突圍，日企壟斷終松動
? 電子發(fā)燒友網綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材，尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷，國外企業(yè)對原料和配方高度保密，我國九成以上光刻膠依賴進口。不過近期，國產
行業(yè)案例|膜厚儀應用測量之光刻膠厚度測量
光刻膠，又稱光致抗蝕劑，是一種關鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下，溶解度會發(fā)生變化，主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。由于
針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在晶圓上芯片制造工藝中，光刻膠剝離是承上啟下的關鍵環(huán)節(jié)，其效果直接影響芯片性能與良率。同時，光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法，并探討白光
減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
? ? 引言 ? 在半導體制造領域，光刻膠剝離工藝是關鍵環(huán)節(jié)，但其可能對器件性能產生負面影響。同時，光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至關重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光
光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導體制造與微納加工領域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料，其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時，精準測量光刻圖形對把控工藝質量意義重大，白光干涉儀為此提供了
光刻膠的類型及特性
光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
光刻膠成為半導體產業(yè)的關鍵材料
光刻膠是半導體制造等領域的一種重要材料，在整個電子元器件加工產業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關鍵性能，增
光刻膠的主要技術參數(shù)
分辨率（resolution）。區(qū)別硅片表面相鄰圖形特征的能力。一般用關鍵尺寸（CD，Critical Dimension）來衡量分辨率。形成的關鍵尺寸越小，光刻膠的分辨率越好。
光刻膠清洗去除方法
光刻膠作為掩模進行干法刻蝕或是濕法腐蝕后，一般都是需要及時的去除清洗，而一些高溫或者其他操作往往會導致光刻膠碳化難以去除。
一文解讀光刻膠的原理、應用及市場前景展望
光刻技術是現(xiàn)代微電子和納米技術的研發(fā)中的關鍵一環(huán)，而光刻膠，又是光刻技術中的關鍵組成部分。隨著技術的發(fā)展，對微小、精密的結構的需求日益增強，
工商網監(jiān)
評論