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“四兩撥千斤”,寬禁帶技術(shù)如何顛覆性創(chuàng)新

意法半導(dǎo)體中國 ? 來源:未知 ? 2023-12-07 10:45 ? 次閱讀
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半導(dǎo)體行業(yè),新的材料技術(shù)有“四兩撥千斤”的魔力,輕輕松松帶來顛覆性變革。具有先天性能優(yōu)勢的寬禁帶半導(dǎo)體材料脫穎而出。


在整個能源轉(zhuǎn)換鏈中,寬禁帶半導(dǎo)體的節(jié)能潛力可為實(shí)現(xiàn)長期的全球節(jié)能目標(biāo)作出貢獻(xiàn)。寬禁帶技術(shù)將推動電力電子器件提高效率、提高密度、縮小尺寸、減輕重量、降低總成本,因此將在數(shù)據(jù)中心、智能樓宇、個人電子設(shè)備等應(yīng)用場景中為能效提升作出貢獻(xiàn)。


寬禁帶材料讓應(yīng)用性能炸裂,怎么做到的?


寬禁帶材料的優(yōu)勢主要體現(xiàn)在:

?與傳統(tǒng)的硅基半導(dǎo)體材料相比,寬禁帶產(chǎn)品具有更寬更高的禁帶寬度、電場強(qiáng)度,更高的擊穿電壓。

?寬禁帶材料的電子飽和遷移速率與傳統(tǒng)的硅基半導(dǎo)體材料相比快3倍,所以寬禁帶半導(dǎo)體器件具有更高的開關(guān)頻率。像ST的碳化硅,具有百k級以上的開關(guān)頻率,而氮化鎵具有更高的開關(guān)頻率,開關(guān)頻率達(dá)到1MHz以上。

?更好的熱傳導(dǎo)性使寬禁帶功率器件具有更好的熱性能,可減少系統(tǒng)對熱冷卻的要求,大大降低散熱設(shè)備的尺寸,以及系統(tǒng)成本。寬禁帶的材料熔點(diǎn)非常高,使功率器件有更高的結(jié)溫。



碳化硅SiC和氮化鎵GaN寬禁帶功率器件的研發(fā)是未來工業(yè)自動化能效和性能提升的關(guān)鍵。意法半導(dǎo)體在這些領(lǐng)域持續(xù)技術(shù)創(chuàng)新,為工業(yè)設(shè)備提供更長的使用壽命、更高的運(yùn)行效率和更低的能耗,從而推動工業(yè)自動化向更綠色、更智能的方向發(fā)展。


意法半導(dǎo)體碳化硅產(chǎn)品及技術(shù)規(guī)劃


ST提供采用不同技術(shù)的STPOWER SiC MOSFET產(chǎn)品,電壓范圍從650V到1700V。這些器件可以將能量損失降低50%,提高開關(guān)頻率,縮減產(chǎn)品尺寸,降低重量以及整體擁有成本。



ST碳化硅MOSFET的優(yōu)勢主要體現(xiàn)在:

?在很高結(jié)溫下可以實(shí)現(xiàn)較低的能量損耗和Ron,適用于更高的開關(guān)頻率以及更小更輕的電源系統(tǒng)。

?熱性能出色,由于材料熔點(diǎn)非常高,工作溫度可達(dá)200度,降低了系統(tǒng)的冷卻要求,延長使用壽命。

?易于驅(qū)動,完全兼容市場現(xiàn)有的所有標(biāo)準(zhǔn)柵極驅(qū)動器。

?非常快速和堅(jiān)固的本征體二極管,有利于實(shí)現(xiàn)更緊湊的逆變器


ST目前量產(chǎn)的是第三代SiC MOSFET,以1,200V為例,第一代、第二代、第三代產(chǎn)品的Ron x Area在成倍降低,其優(yōu)勢主要是:

?更小的Ron x Area上代表整體輸出功率有所提高,電源模塊在相同的尺寸可以實(shí)現(xiàn)更高的功率。

?Ron x QG減小,可以擁有更高的開關(guān)頻率,更低的開關(guān)損耗。


ST SiC MOSFET產(chǎn)品組合包括650V、700V、1,200V和1,700V系列。第三代產(chǎn)品主要集中在650V、750V和1,200V。1,700V大批量用在太陽能輔助電源上。2,000V以上的碳化硅MOSFET也在開發(fā)中。



ST第三代 SiC MOSFET產(chǎn)品提供豐富的封裝可選,包括裸片、分立功率封裝(STPAK、H2PAK-7L、HiP247-4L和HU3PAK)和ACEPACK系列的功率模塊。這些封裝為設(shè)計(jì)者提供了創(chuàng)新功能,例如,專門設(shè)計(jì)的冷卻片可簡化芯片與電動汽車應(yīng)用的基板和散熱器的連接,這樣,設(shè)計(jì)人員可以根據(jù)應(yīng)用選擇專用芯片,例如,動力電機(jī)逆變器、車載充電機(jī) (OBC)、DC/DC變換器、電子空調(diào)壓縮機(jī),以及工業(yè)應(yīng)用,例如,太陽能逆變器、儲能系統(tǒng)、電機(jī)驅(qū)動裝置和電源。


對比傳統(tǒng)的IGBT模塊,目前碳化硅模塊成本還較高。隨著市場玩家增多,產(chǎn)能逐漸擴(kuò)大,其價(jià)格將會明顯下降,優(yōu)勢更加明顯,更高的開關(guān)頻率、更低的開關(guān)損耗,可減少外圍電路尺寸,并降低系統(tǒng)成本,使碳化硅模塊成為未來的發(fā)展方向。因此,碳化硅模塊也是ST的主要發(fā)力方向。



意法半導(dǎo)體功率氮化鎵產(chǎn)品技術(shù)規(guī)劃


GaN被視為是另一種即將迎來大規(guī)模商用機(jī)遇的第三代半導(dǎo)體器件。GaN主要應(yīng)用在射頻和功率器件兩個方面,而ST采取的策略是雙管齊下,同時布局功率轉(zhuǎn)換GaN和射頻功率GaN技術(shù)。它能與SiC技術(shù)互補(bǔ),滿足客戶對功率器件的需求。


ST的GaN產(chǎn)品主要應(yīng)用在更高效、更高功率密度下的開關(guān)電源上,細(xì)分市場包括服務(wù)器和通信電源、OBC和機(jī)電一體化平臺,以及能源生成、充電站和電力轉(zhuǎn)換。



2021年12月,意法半導(dǎo)體STPOWER產(chǎn)品組合推出了一個新系列——PowerGaN,并于近期宣布量產(chǎn)。ST POWER GaN晶體管提高了墻插電源適配器、充電器、照明系統(tǒng)、工業(yè)電源、可再生能源發(fā)電、汽車電氣化等應(yīng)用的性能。



GaN產(chǎn)品主要封裝形式包括PowerFLAT 5x6 HV,DirectGaN DSC PEP,PowerFLAT 8x8 DSC,LFPAK 12x12 TSC/BSC。


PowerFLAT 5x6 HV已有相應(yīng)產(chǎn)品量產(chǎn),并得到認(rèn)證


DirectGaN DSC PEP是雙面散熱,應(yīng)用具有開爾文源極,外形靈活。


PowerFLAT 8x8 DSC也是雙面散熱,封裝外形較小。也具有開爾文源,采用銅夾技術(shù),具有更小的寄生參數(shù)。


LFPAK 12x12 TSC/BSC也采用銅夾技術(shù),具有開爾文,可靠性更高,寄生參數(shù)更小,熱阻更低,該封裝以及相應(yīng)產(chǎn)品完全通過了所有認(rèn)證,符合AEC-Q101這樣的汽車等級要求。


ST最近發(fā)布了PowerFLAT5×6封裝形式的產(chǎn)品,后續(xù)還將推出PowerFLAT 8×8和LFPAK 12×12等封裝形式,以及DirectGAN DSC。


未來,GaN還有望實(shí)現(xiàn)新的功率轉(zhuǎn)換拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),進(jìn)一步提高能效,并降低功耗。意法半導(dǎo)體的GaN器件將加速功率轉(zhuǎn)換系統(tǒng)向GaN寬帶隙技術(shù)過渡。

END


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