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韓國(guó)將選派半導(dǎo)體人才赴荷蘭接受EUV曝光技術(shù)培訓(xùn)

微云疏影 ? 來(lái)源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-02-18 15:49 ? 次閱讀
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韓國(guó)領(lǐng)銜未來(lái)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的研究生們即將在荷蘭接受尖端半導(dǎo)體技能培訓(xùn)。韓國(guó)產(chǎn)業(yè)通商資源部宣布,自19日起至23日,將在荷蘭埃因霍溫理工大學(xué)舉行為期5天的“韓國(guó)-荷蘭先進(jìn)半導(dǎo)體學(xué)院”。

該學(xué)院由尹錫悅總統(tǒng)于去年12月對(duì)荷蘭進(jìn)行國(guó)事訪問(wèn)時(shí)提議創(chuàng)辦,旨在培養(yǎng)下一代半導(dǎo)體英才。精選的碩士及博士研究生,以及半導(dǎo)體行業(yè)科研人員將受邀前往荷蘭與韓兩國(guó)參與密集式實(shí)務(wù)培訓(xùn)課程。本次培訓(xùn)首次邀請(qǐng)了60位學(xué)員參與,分別來(lái)自韓國(guó)的50人與荷蘭的10人。

半導(dǎo)體學(xué)院預(yù)計(jì)在EUV曝光技術(shù)、超精細(xì)電路圖案制造等方面提供培訓(xùn),同時(shí)也將開(kāi)發(fā)原子層沉積技術(shù)并探討晶圓表面特性控制策略。此次培訓(xùn)特聘ASML及歐洲IMEC兩家公司的高級(jí)官員擔(dān)任。自首屆活動(dòng)起,兩國(guó)計(jì)劃在未來(lái)五年聯(lián)合培育500名半導(dǎo)體專才。

對(duì)于半導(dǎo)體差異性的問(wèn)題,產(chǎn)業(yè)通商資源部官員Lee Yong-pil指出,“優(yōu)秀人才決定技術(shù)差距”。他強(qiáng)調(diào),韓國(guó)政府承諾繼續(xù)每年舉辦半導(dǎo)體學(xué)院,積極推動(dòng)半導(dǎo)體技術(shù)研究,推進(jìn)尖端半導(dǎo)體的研發(fā)合作。

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