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消息稱SK海力士測(cè)試東京電子低溫蝕刻設(shè)備

CHANBAEK ? 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-05-08 11:47 ? 次閱讀
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SK 海力士正在與東京電子(TEL)展開(kāi)緊密合作,通過(guò)發(fā)送測(cè)試晶圓來(lái)評(píng)估后者的低溫蝕刻設(shè)備。這一舉措旨在為未來(lái)的NAND閃存生產(chǎn)導(dǎo)入新技術(shù)。在當(dāng)前,增加堆疊層數(shù)已經(jīng)成為提高3D NAND閃存顆粒容量的主要方法。

不過(guò),隨著層數(shù)的增加,面臨的挑戰(zhàn)也愈發(fā)嚴(yán)峻。閃存顆粒內(nèi)部需要蝕刻出垂直通道以確保數(shù)據(jù)傳輸?shù)牧鲿?,但在層?shù)增高的過(guò)程中,深寬比的增大使得蝕刻的難度加大,且蝕刻速度也逐漸減慢。這種現(xiàn)象對(duì)生產(chǎn)效率產(chǎn)生了顯著影響。

SK 海力士和東京電子的這次合作,旨在通過(guò)測(cè)試TEL的低溫蝕刻設(shè)備,找到一種更為高效、精確的蝕刻方法,以應(yīng)對(duì)未來(lái)NAND閃存生產(chǎn)中的挑戰(zhàn),進(jìn)一步提升產(chǎn)品的性能和生產(chǎn)效率。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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