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新思科技x Multibeam推出業(yè)界首款可量產電子束光刻系統(tǒng) 無需掩膜

新思科技 ? 來源: 新思科技 ? 2024-05-22 18:41 ? 次閱讀
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基于掩膜的傳統(tǒng)光刻技術,其成本正呈指數級攀升。而無掩膜的電子束光刻技術提供了補充性選項,可以幫助芯片制造商更快地將產品推向市場。電子束光刻技術采用電子束在硅晶圓上生成圖案,無需等待掩膜制造過程,進而可以更快提升生產速度。此外,鑒于能夠在單個晶圓上進行圖案設計迭代,迭代的學習周期也得以縮短。

Multibeam Corporation(以下稱Multibeam)是電子束光刻領域的關鍵創(chuàng)新企業(yè)。其總部位于美國加州圣克拉拉,由硅谷工程協(xié)會名人堂成員David K. Lam博士創(chuàng)立。Multibeam首先開發(fā)出了適用于晶圓廠量產的電子束光刻技術。它不僅具有直刻能力,并且兼具高分辨率、高效率等特性。Multibeam的多列電子束光刻(MEBL)系統(tǒng)與新思科技CATS數據準備軟件相集成,為芯片設計及制造等流程開辟了一條更輕松、更快捷的道路。

Multibeam和新思科技對行業(yè)發(fā)展方向有著相似的愿景,我們可以攜起手來,共同加快創(chuàng)新周期。我們的光刻系統(tǒng)搭載了新思科技軟件,能夠助力芯片開發(fā)者和制造商加速生產更高性能的芯片,從而滿足當今計算密集型應用的需求。

Lam博士

董事長兼首席執(zhí)行官

Multibeam

無掩膜電子束光刻技術的適用場景

傳統(tǒng)光刻技術仍然是業(yè)內的標準工藝。在大批量生產芯片時,它能夠以精度較高且相對經濟的方式在晶圓上生成圖案。然而,根據所需掩膜板的制作復雜程度,生產周期可能會變得很長。而使用無掩膜電子束光刻技術時,只需將文件輸入機器,就能在晶圓上開始直刻的過程。

專用芯片和先進封裝是人工智能AI)和無線通信等高增長應用的重要推動力量。與目前可供制造商使用的其他光刻技術相比,高效率電子束光刻技術大大縮短了產品上市時間。Multibeam高效率電子束系統(tǒng)的另一項關鍵特性是可以快速生成多種設計迭代。

實現(xiàn)芯片的先進集成

Multibeam的無掩膜電子束系統(tǒng)基于多個微型電子束陣列,為半導體制造領域開辟了諸多從未有過的可能性。通過縮短學習周期,無掩膜電子束系統(tǒng)可以做到:

讓芯片開發(fā)者進行晶圓級實驗,定制晶圓上的各個芯片,探索新的想法

立即實施設計變更,無需等待新掩膜板的制造

實現(xiàn)設計反饋與驗證之間的快速迭代

在設計通過驗證后立即快速投產

此外,MEBL系統(tǒng)還通過先進的芯片集成加快系統(tǒng)級優(yōu)化。通過使用次世代中介層,芯片開發(fā)者將能夠在每個封裝中裝入更多芯片,同時還可提高芯片間帶寬并降低每比特傳輸功耗,這一切對于制造AI芯片都至關重要。

新思科技CATS軟件是實現(xiàn)先進集成的關鍵組件。Multibeam將CATS軟件集成到自身系統(tǒng)中,并憑借其在無掩膜和有掩膜芯片生產流程中的超強靈活性,實現(xiàn)了無縫集成??蓴U展的CATS軟件整體解決方案會將復雜的芯片設計數據轉換為機器可讀的指令,供電子束、激光和多光束掩膜寫入機使用。CATS軟件整體解決方案提供了多個數據準備模塊,可用于數據分割、數據驗證、掩膜規(guī)則檢查、掩膜糾錯、作業(yè)卡片組處理、層操作和數據大小調整。此外,為改進校正功能,它還集成了新思科技Proteus全芯片掩膜綜合智能制造解決方案,從而提高了分辨率以改進良率,并支持大容量、高吞吐量的數據傳輸。

新思科技的一大目標是讓芯片開發(fā)者能夠更輕松、更快捷地將產品推向市場,同時減少錯誤并縮短周期,而這也是我們技術的主要優(yōu)勢。此外,新思科技讓我們進一步完善了電子束專業(yè)知識,領略了全新思維方式,進而打造一個可在生產環(huán)境中良好運行的系統(tǒng)。

Ken MacWilliams博士

總裁

Multibeam

首款系統(tǒng)于今年春季上市

Multibeam于今年春季率先推出集成了新思科技技術的MEBL系統(tǒng)。Multibeam團隊正不斷開發(fā)并改進自己的技術,同時也非常期待與新思科技進一步加強協(xié)作。

芯片制造商采用我們的Multibeam系統(tǒng)后,能夠縮短周期、提高良率并提早解決問題,從而快速探索新的設計方案,實現(xiàn)產品差異化。與新思科技攜手合作,我們將幫助芯片開發(fā)者和芯片制造商更快速、更高效地將新想法變?yōu)楝F(xiàn)實。

Ken MacWilliams博士

總裁

Multibeam

我們很高興能與Multibeam合作,積極探尋新的契機,以幫助客戶推動光刻技術的進步。我們的產品組合包含了覆蓋流片操作各個階段的全套工具,例如Proteus、CATS、SmartMRC和S-Litho,能夠為Multibeam等合作伙伴創(chuàng)造獨特的附加價值,顯著提升其創(chuàng)新硬件工具的能力。

Kostas Adam博士

掩膜解決方案開發(fā)副總裁

新思科技

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原文標題:無需掩膜,更快創(chuàng)新!新思科技x Multibeam推出業(yè)界首款可量產電子束光刻系統(tǒng)

文章出處:【微信號:Synopsys_CN,微信公眾號:新思科技】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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