chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

掩膜版的技術(shù)迭代

蘇州汶顥 ? 來(lái)源:jf_04320819 ? 作者:jf_04320819 ? 2024-09-10 14:00 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

掩膜版產(chǎn)品誕生至今約70多年,是電子制造行業(yè)中使用的生產(chǎn)制具。由于掩膜版技術(shù)演變較慢,下游運(yùn)用廣泛且不同行業(yè)對(duì)掩膜版的性能、成本等要求不同,不同代別的產(chǎn)品存續(xù)交疊期長(zhǎng),如第二代菲林掩膜版誕生于二十世紀(jì)60年代初,至今仍在PCBFPC、TN/STN等行業(yè)使用。
1)手繪菲林
掩模板發(fā)明于20世紀(jì)50年代,早期的掩模板是純手工繪制,將人們用最普通的坐標(biāo)圖紙,蓋上一層紅色的膜。至于為啥是紅色,最主要的原因是紅膜遮光性比較強(qiáng)。
做好了一層紅膜后,其實(shí)這也是過(guò)渡方案,在進(jìn)行芯片生產(chǎn)前,還需要微縮相機(jī)把整個(gè)掩模板的尺寸進(jìn)行縮小,有時(shí)還需進(jìn)行多次微縮。

wKgaombf4C6AIZvdAAOefamqAkc322.png

2)計(jì)算機(jī)輔助
20世紀(jì)70年代,工程師們開始在計(jì)算機(jī)上作圖,通過(guò)在計(jì)算機(jī)上實(shí)現(xiàn)二維坐標(biāo)軸的建立,但是因?yàn)楫?dāng)時(shí)的屏幕不大,鼠標(biāo)也不像現(xiàn)在這么成熟,當(dāng)時(shí)仍有部分工程師還在使用坐標(biāo)紙畫圖。

3)電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化
20世紀(jì)90年代,針對(duì)越來(lái)越多的晶體管數(shù)量,一條一條線去勾勒芯片架構(gòu)的時(shí)代已經(jīng)過(guò)去,取而代之的是EDA軟件,EDA軟件是指用計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)來(lái)實(shí)現(xiàn)集成電路芯片的功能設(shè)計(jì)、綜合、驗(yàn)證、物理設(shè)計(jì)(包括布局、布線、版圖、設(shè)計(jì)規(guī)則檢查等)等流程的設(shè)計(jì)方式。至此,人們終于不需要再用紙和筆來(lái)設(shè)計(jì)芯片了?,F(xiàn)在的芯片設(shè)計(jì)過(guò)程,從芯片的功能設(shè)計(jì),到電路結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),再到芯片版圖的物理實(shí)現(xiàn),全部借助于EDA軟件來(lái)完成,其中還包括復(fù)雜而精確的設(shè)計(jì)檢查、模擬仿真等,可以保證容納了上百億只晶體管的芯片設(shè)計(jì)萬(wàn)無(wú)一失。

wKgZombf4FKARzXpAALgGjHSjIU210.png

掩膜版產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)主要是其在轉(zhuǎn)移電路圖形過(guò)程中的精確性和可靠性,第五代掩膜版產(chǎn)品擁有較高的光學(xué)透過(guò)率、較低的熱膨脹系數(shù)、良好的平整性和耐磨性以及能夠?qū)崿F(xiàn)較高的精度被廣泛運(yùn)用于各個(gè)行業(yè)。
未來(lái)潛在的風(fēng)險(xiǎn)是無(wú)掩膜技術(shù)的大規(guī)模使用,無(wú)掩膜技術(shù)因僅能滿足精度要求相對(duì)較低的行業(yè)(如PCB板)中圖形轉(zhuǎn)移的需求,且其生產(chǎn)效率低下,而無(wú)法滿足對(duì)圖形轉(zhuǎn)移精度要求高以及對(duì)生產(chǎn)效率有要求的行業(yè)運(yùn)用,因此不存在被快速迭代的風(fēng)險(xiǎn)。

wKgZombf4FqALWw9AAEhxbSVxRI579.png

頭部的第三方掩膜版廠具備精密制程的量產(chǎn)能力,如Photronics、DNP的技術(shù)節(jié)點(diǎn)已達(dá)5nm,Toppan的技術(shù)節(jié)點(diǎn)達(dá)14nm;而包括臺(tái)灣在內(nèi)的國(guó)內(nèi)廠商主要產(chǎn)能還在65nm以上。
技術(shù)難點(diǎn)
光掩模版的技術(shù)難點(diǎn)主要在于光刻環(huán)節(jié)中,對(duì)制程的要求、對(duì)位置精度的控制、對(duì)曝光的控制、與光刻機(jī)設(shè)備的匹配等問題。

wKgaombf4GGAT187AALXcoHKN4E131.pngwKgaombf4GSAEV6KAAOmJWSw_6c790.png


免責(zé)聲明:文章來(lái)源汶顥www.whchip.com以傳播知識(shí)、有益學(xué)習(xí)和研究為宗旨。轉(zhuǎn)載僅供參考學(xué)習(xí)及傳遞有用信息,版權(quán)歸原作者所有,如侵犯權(quán)益,請(qǐng)聯(lián)系刪除。

審核編輯 黃宇

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    460

    文章

    52520

    瀏覽量

    441168
  • eda
    eda
    +關(guān)注

    關(guān)注

    71

    文章

    2930

    瀏覽量

    178031
  • 掩膜
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    28

    瀏覽量

    11867
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    投資筆記:半導(dǎo)體版的投資邏輯分析(含平板顯示)(13634字)

    目錄一、什么是版:定義、分類二、版制造加工工藝:關(guān)鍵參數(shù)量測(cè)及檢測(cè)三、版產(chǎn)業(yè)鏈:產(chǎn)業(yè)
    的頭像 發(fā)表于 06-07 05:59 ?371次閱讀
    投資筆記:半導(dǎo)體<b class='flag-5'>掩</b><b class='flag-5'>膜</b>版的投資邏輯分析(含平板顯示)(13634字)

    鉻板和光刻的區(qū)別

    版作為微納加工技術(shù)中光刻工藝所使用的圖形母版,在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。隨著信息技術(shù)和智能制造的快速發(fā)展,特別是智能手機(jī)、平板電腦、車載電子等
    的頭像 發(fā)表于 02-19 16:33 ?571次閱讀

    版、模具與微流控芯片及其制作方法與用途

    版與光罩的區(qū)別與應(yīng)用 版和光罩是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的兩個(gè)重要概念,它們雖然都扮演著不可或缺的角色,但存在一些區(qū)別。
    的頭像 發(fā)表于 02-18 16:42 ?549次閱讀

    正性光刻對(duì)版有何要求

    正性光刻對(duì)版的要求主要包括以下幾個(gè)方面: 基板材料:版的基板材料需要具有良好的透光性、穩(wěn)定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料,因?yàn)樗哂休^低的熱膨脹系數(shù),能夠在溫度變化時(shí)保
    的頭像 發(fā)表于 02-17 11:42 ?453次閱讀

    光刻技術(shù)介紹

    ?? 光刻簡(jiǎn)介 ?? ? 光刻(Photomask)又稱光罩、光、光刻
    的頭像 發(fā)表于 01-02 13:46 ?2440次閱讀
    光刻<b class='flag-5'>掩</b>膜<b class='flag-5'>技術(shù)</b>介紹

    清洗EUV版面臨哪些挑戰(zhàn)

    本文簡(jiǎn)單介紹了極紫外光(EUV)版的相關(guān)知識(shí),包括其構(gòu)造與作用、清洗中的挑戰(zhàn)以及相關(guān)解決方案。
    的頭像 發(fā)表于 12-27 09:26 ?699次閱讀

    正性光刻對(duì)版的要求

    在正性光刻過(guò)程中,版(Photomask)作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具,其性能直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。以下是正性光刻對(duì)版的主要要求: 圖案準(zhǔn)確性 在正性光刻中,
    的頭像 發(fā)表于 12-20 14:34 ?679次閱讀

    微流控SU8版的制作方法

    微流控SU8版的制作是一個(gè)復(fù)雜的工藝過(guò)程,涉及到多個(gè)步驟。以下是詳細(xì)的制作流程: 1. 版設(shè)計(jì) 原理圖設(shè)計(jì):根據(jù)微流控芯片的設(shè)計(jì)要求,進(jìn)行原理圖設(shè)計(jì),分析元件需接線方向,設(shè)計(jì)需
    的頭像 發(fā)表于 11-20 16:07 ?784次閱讀

    光刻和光刻模具的關(guān)系

    光刻(也稱為光罩)和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用,但它們的功能和應(yīng)用有所不同。 光刻版 光刻
    的頭像 發(fā)表于 10-14 14:42 ?774次閱讀

    基版在光刻中的作用

    想必大家都有所了解,光刻機(jī)對(duì)芯片制造的重要性,而光版又稱光罩,光等; 光版是由制造商
    的頭像 發(fā)表于 10-09 14:24 ?1045次閱讀

    光刻版制作流程

    光刻版的制作是一個(gè)復(fù)雜且精密的過(guò)程,涉及到多個(gè)步驟和技術(shù)。以下是小編整理的光刻版制作流程: 1. 設(shè)計(jì)與準(zhǔn)備 在開始制作光刻
    的頭像 發(fā)表于 09-14 13:26 ?1535次閱讀

    版與光刻膠的功能和作用

    版與光刻膠在芯片制造過(guò)程中扮演著不可或缺的角色,它們的功能和作用各有側(cè)重,但共同促進(jìn)了芯片的精確制造。? 版?,也稱為光罩、光
    的頭像 發(fā)表于 09-06 14:09 ?1707次閱讀

    芯片光刻的保存方法

    光刻掩模是光的一種掩蔽模片,其作用有類似于照相的通過(guò)它,可以使它“底下“的光劑部分成光,難溶于有機(jī)藥品,一部分不感光,易溶于有機(jī)藥品,以而制得選擇擴(kuò)散所需的窗口和互速所需的圖案。 版有兩種:一種
    的頭像 發(fā)表于 09-04 14:55 ?692次閱讀

    半導(dǎo)體版制造工藝及流程

    半導(dǎo)體版制造工藝及流程 版(Photomask)又稱光罩,是液晶顯示器、半導(dǎo)體等制造過(guò)程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具。光
    的頭像 發(fā)表于 08-19 13:20 ?2901次閱讀
    半導(dǎo)體<b class='flag-5'>掩</b><b class='flag-5'>膜</b>版制造工藝及流程

    微流控光刻制作

    微流控光刻的制作過(guò)程涉及多個(gè)步驟,?包括設(shè)計(jì)、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等,?最終形成具有特定圖形結(jié)構(gòu)的版。? 首先,?設(shè)計(jì)階段是制作
    的頭像 發(fā)表于 08-08 14:56 ?656次閱讀