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Poly-SE選擇性多晶硅鈍化觸點在n-TOPCon電池中的應(yīng)用

美能光伏 ? 2025-02-06 13:59 ? 次閱讀
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Poly-SEs技術(shù)通過在電池的正面和背面形成具有選擇性的多晶硅層,有效降低了電池的寄生吸收接觸電阻,同時提供了優(yōu)異的電流收集能力。在n型TOPCon太陽能電池中,Poly-SEs的應(yīng)用尤為重要,因為它們能夠在保持低復(fù)合電流密度(J0)和低接觸電阻(ρc)的同時,實現(xiàn)對光生載流子的高效收集,這對于提高電池的整體性能至關(guān)重要。美能在線Poly膜厚測試儀對于控制和優(yōu)化Poly-SEs結(jié)構(gòu)中的多晶硅層厚度至關(guān)重要,因為Poly層的厚度直接影響電池的電學(xué)性能和效率。Poly-SEs的n-TOPCon電池制備


采用 182mm×182mm n 型直拉硅(Cz-Si)晶片,經(jīng)堿液(KOH)制絨、氫氟酸(HF)清洗、硼(B)選擇性發(fā)射極形成、背面拋光、SiO?和本征非晶硅(a-Si)層沉積、退火、磷硅玻璃(PSG)去除、鈍化、金屬化等工藝制備 n-TOPCon 電池。8ba439e4-e44f-11ef-9434-92fbcf53809c.png

具有選擇性多晶硅基鈍化觸點的 n-TOPCon 太陽能電池

電池結(jié)構(gòu):展示了n-TOPCon太陽能電池的橫截面視圖,包括前表面、n型硅基底、SiOx層、n+多晶硅層以及金屬化接觸。

選擇性多晶硅鈍化接觸(Poly-SEs):圖中詳細描繪了Poly-SEs的結(jié)構(gòu),包括n++多晶硅層(重摻雜區(qū)域)和n+多晶硅層(輕摻雜區(qū)域)。這種結(jié)構(gòu)有助于減少寄生吸收和接觸電阻,同時提供更好的電流收集。多晶硅鈍化接觸工藝參數(shù)的影響


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不同工藝條件下SiOx/n+-poly-Si層的ECV剖面圖

鈍化性能:ECV剖面的形狀提供了關(guān)于SiOx層鈍化質(zhì)量的信息。一個理想的鈍化接觸應(yīng)該具有淺的摻雜剖面和低的表面摻雜濃度,以實現(xiàn)有效的電子傳輸和低的載流子復(fù)合。

工藝優(yōu)化:通過分析這些ECV剖面,研究人員可以確定最佳的toxidation和tpressure條件,以實現(xiàn)最佳的電池性能。

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不同工藝參數(shù)下SiOx/n+-poly-si層的Jo值

Jo與SiOx層質(zhì)量的關(guān)系:圖中的數(shù)據(jù)揭示了Jo與SiOx層質(zhì)量之間的相關(guān)性。較高的Jo值可能指示較差的鈍化效果,而較低的Jo值可能與較好的鈍化效果相關(guān)。

工藝參數(shù)優(yōu)化:通過分析Jo的變化,可以確定最佳的toxidation和tpressure條件,以實現(xiàn)最佳的電池性能。這些參數(shù)的優(yōu)化有助于實現(xiàn)更低的載流子復(fù)合,從而提高電池的效率。

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不同工藝參數(shù)下SiOx/n+-poly-Si層的接觸電阻變化

ρ?與SiOx層質(zhì)量的關(guān)系:較高的ρ?值可能指示較差的鈍化效果和較高的載流子復(fù)合,而較低的ρ?值可能與較好的鈍化效果相關(guān)。

工藝參數(shù)優(yōu)化:通過分析ρ?的變化,可以確定最佳的toxidation和tpressure條件,以實現(xiàn)最佳的電池性能。這些參數(shù)的優(yōu)化有助于實現(xiàn)更低的接觸電阻,從而提高電池的填充因子(FF)和效率。磷摻雜多晶硅層工藝參數(shù)影響


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制備三組SiOx/a-Si層樣品

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三組樣品SiO/a-si層的平均iVoc

退火和磷摻雜影響:研究 SiO?/a-Si 層在不同處理后的 iVoc 值,發(fā)現(xiàn)退火或磷摻雜可釋放氫原子鈍化缺陷,但高溫下多晶硅退火樣品 iVoc 值下降大,磷摻雜樣品變化小,選擇 n?- 多晶硅層用于當前高溫工藝。工藝參數(shù)對P摻雜多晶硅層的影響


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n+-poly-Si層在不同工藝參數(shù)下的ECV剖面

工藝溫度主導(dǎo)影響:工藝溫度(T_dep 和 T_drive-in)對 n?- 多晶硅層摻雜劑分布的影響比 POCl?載氣流量(G_POCl?)更為顯著,G_POCl?敏感性較低。

T_dep 與表面濃度關(guān)系:沉積溫度(T_dep)升高會使更多摻雜劑擴散進入多晶硅層,從而顯著影響多晶硅層表面濃度。

T_drive-in 與鈍化性能關(guān)系:驅(qū)入溫度(T_drive-in)主要影響多晶硅層 “膝形” 曲線尾部,過高的 T_drive-in(如 905°C)會破壞 SiO?層質(zhì)量,導(dǎo)致磷擴散進入 SiO?層,降低鈍化性能,影響電池性能。8c920a48-e44f-11ef-9434-92fbcf53809c.png

不同工藝參數(shù)下n+-poly-Si層的Jo值變化

驅(qū)動溫度影響最大:在三種工藝參數(shù)中,驅(qū)入溫度(T_drive-in)對Jo值影響最大,其次是 POCl?載氣流量(G_POCl?),沉積溫度(T_dep)影響相對較小。

化學(xué)鈍化主導(dǎo)影響:T_drive-in對Jo的影響主要與高溫下磷擴散進入硅引起的SiO?層化學(xué)鈍化有關(guān),同時摻雜濃度引起的場效應(yīng)鈍化也對Jo有影響,這表明在優(yōu)化 n-TOPCon 太陽能電池工藝時,以實現(xiàn)良好的鈍化效果,降低Jo值,提高電池性能。

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不同工藝參數(shù)下n+-poly-Si層的接觸電阻變化

在三種工藝參數(shù)中,沉積溫度(T_dep)對 ρ?的影響最大,其次是驅(qū)入溫度(T_drive-in),POCl?載氣流量(G_POCl?)影響相對最?。?strong>ρ?的變化與總摻雜水平密切相關(guān)。

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不同POCl?-N2載氣流量下的光學(xué)反射率

有無多晶硅層對比:蝕刻表面無 n?- 多晶硅層時,反射率曲線在約400nm處僅有一個峰值,反射率達到 45%;而有n?- 多晶硅層的樣品在450nm和550nm處有兩個峰值,且在450-800nm波長范圍內(nèi)R值小于蝕刻表面。

G_POCl?影響:當 G_POCl?從2400 sccm降低到1200 sccm時,反射率增加,這意味著較低的 G_POCl?會導(dǎo)致更高的反射率。選擇性多晶硅鈍化接觸研究


8d01289c-e44f-11ef-9434-92fbcf53809c.png不同條件下的ECV剖面、方塊電阻、Jo、ρ?以及近紅外寄生吸收電流損失密度

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制備不同厚度 n?- 多晶硅層,分析其性能,發(fā)現(xiàn)厚度減小,片電阻增加,ρ?減小,J??每納米增加約 0.0093mA/cm2,30nm 厚的多晶硅層 J?值高,可能是界面處漿料尖峰導(dǎo)致。模擬計算不同結(jié)構(gòu)電池參數(shù),制備 Poly-SE 太陽能電池(n??/n?層厚度為 50/110nm)和普通電池(BKM,110nm),Poly-SE 電池 J??更高,效率增益 0.12%,Voc 變化可忽略,F(xiàn)F 無優(yōu)勢,與模擬結(jié)果基本一致,差異源于電池制造工藝影響。

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n??- 多晶硅層樣品在不同處理階段的掩膜線

通過 3D 打印掩膜技術(shù)、拋光和 RCA 清洗等工藝步驟,能夠得到相對均勻且邊緣清晰的 n??- 多晶硅層掩膜線,這證明了這些工藝在制備選擇性多晶硅鈍化接觸(Poly-SE)太陽能電池中的可行性,為實現(xiàn)精確的選擇性摻雜提供了保障。電池性能


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BKM 和 Poly-SE 太陽能電池的 IV參數(shù)

Poly-SE 太陽能電池鈍化性能未顯著提高,iVoc 僅降低 1mV,壽命降低 17μs,與 BKM 相比,J??增加 0.28mA/cm2,Voc 略微降低 0.3mV,R?降低但 FF 無優(yōu)勢,最佳電池中 R?和 FF 略有增加,整體效率中值提高 0.12%失效分析


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Poly-SE和BKM電池的各項電流損失情況

失效分析:電流損失分析表明,Poly-SE 相對于 BKM 的主要優(yōu)勢是減少近紅外(NIR)寄生吸收損失,得益于背面拋光和 n?- 多晶硅層厚度薄;劣勢是抗反射涂層(ARC)反射率和前表面逃逸損失增加,與拋光過程損壞前表面紋理和增加反射率有關(guān),優(yōu)化鈍化工藝后,工業(yè)級 TOPCon 雙面電池效率可達 25.4%,Voc 為 721mV,J??為 42.2mA/cm2,F(xiàn)F 為 83.5%

隨著對選擇性多晶硅鈍化接觸(Poly-SE)在 n-TOPCon 雙面太陽能電池的深入研究,通過系統(tǒng)研究 SiO?層和磷擴散工藝參數(shù),優(yōu)化了多晶硅鈍化層質(zhì)量,成功提高了電池轉(zhuǎn)換效率。探索新的鈍化材料和工藝,以降低接觸電阻率,提高鈍化效果,為 n-TOPCon 太陽能電池的大規(guī)模應(yīng)用奠定更堅實基礎(chǔ),推動其在可再生能源領(lǐng)域發(fā)揮更大作用。美能在線Poly膜厚測試儀


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采用微納米薄膜光學(xué)測量技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)超廣測量范圍20nm-2000nm0.5nm超高重復(fù)性精度,可對樣品進行快速、自動的5點同步掃描。

  • Poly膜厚測試范圍20nm-2000nm

  • 快速、自動的5點同步掃描

  • 非接觸、無損測量,零碎片率

24小時自動且不停線校準,保證生產(chǎn)效率

美能Poly在線膜厚測試儀在n型TOPCon太陽能電池的生產(chǎn)過程中,為實現(xiàn)Poly-SEs技術(shù)提供了精確的薄膜厚度控制,確保了電池性能的優(yōu)化和提升。通過這種高精度的在線監(jiān)控和測試,美能光伏的設(shè)備助力光伏行業(yè)向更高效、更經(jīng)濟的太陽能電池制造邁進。

原文出處:High-efficiency n-TOPCon bifacial solar cells with selective poly-Si based passivating contacts

*特別聲明:「美能光伏」公眾號所發(fā)布的原創(chuàng)及轉(zhuǎn)載文章,僅用于學(xué)術(shù)分享和傳遞光伏行業(yè)相關(guān)信息。未經(jīng)授權(quán),不得抄襲、篡改、引用、轉(zhuǎn)載等侵犯本公眾號相關(guān)權(quán)益的行為。內(nèi)容僅供參考,若有侵權(quán),請及時聯(lián)系我司進行刪除。

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