《巴倫》報導(dǎo)，芯片設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾ASML的表現(xiàn)可能要比大多數(shù)人想像的要好，瑞士信貸分析師Farhan Ahmad即認為，艾司摩爾的產(chǎn)品是芯片制造商臺積電與競爭對手三星電子爭奪霸主地位的關(guān)鍵要素，估計可以在鷸蚌相爭中，漁翁得利。

Ahmad特別指出，“最近對EUV工具（極紫外光刻Extreme UV，EUV)的謠言眾多。我們的調(diào)查表明，EUV的前景并不是減弱，而是增強。ASML 2019年EUV產(chǎn)量訂單有望全滿”。

他指出，臺積電“在4月2日向ASML和Lasertec下了大約10億美元的訂單”，認為“很可能在第1季度財報上顯示為6至8種工具的訂單量”。

Ahmad表示：“三星繼續(xù)在EUV上砸重本。最近的資料顯示，除了7納米外，三星可能會在10納米級DRAM的部份制造上采用EUV進行。因三星計劃用EUV制造低風(fēng)險DRAM，DRAM的產(chǎn)品產(chǎn)出有望早于7納米出爐，這也是為了擴大7納米生產(chǎn)全面使用EUV的計劃之一”。

三星正行銷其設(shè)計靈活性、更短的周期時間、及更小的模具，作為7納米制程的獨特優(yōu)勢。三星也正在建設(shè)一個由DRAM和Logic共享的38臺EUV工具的EUV專用工廠”。

Ahmad認為臺積電“可能需要加快5納米的腳步，以確保與三星的競爭力”。5納米技術(shù)將是ASML在臺積電的EUV真正發(fā)光的時期。

Ahmad繼續(xù)認為：“中國***有報導(dǎo)稱臺積電客戶對7納米的興趣不高。這是可以理解的，因為7納米不能提供與EUV單一圖案化相關(guān)的設(shè)計靈活性，而其EUV制程只被用于裁焊VIA孔（無需改變設(shè)計）。同時，7納米本預(yù)計為在廣泛使用EUV制程的5納米（真正的7納米）節(jié)點前的試車前奏。我們一直堅持認為7納米的采用可能僅限于少數(shù)幾層芯片上，并且僅限于一部分容量而已。我們預(yù)計臺積電將在2019年初開始生產(chǎn)7納米產(chǎn)品，并準備在2020年量產(chǎn)5納米。為了滿足產(chǎn)能需求，臺積電需要在2019年開始安裝相關(guān)工具機臺。我們認為ASML最近的工具訂單是來自于臺積電，也表示臺積電正在努力加強其5納米計劃”。