6月4-6日，中國（深圳）國際半導體展覽會將在深圳國際會展中心舉行。廣明源（展位號：14G22）將攜172nm等紫外線系列光源、設備與模組亮相，重點展示172nm準分子光在晶圓光清洗、半導體基材表面活化及超純水TOC降解等工藝環(huán)節(jié)的應用解決方案。

誠邀行業(yè)伙伴蒞臨交流，共探172nm等紫外光在半導體制造領域的創(chuàng)新應用，攜手開啟合作新篇章。

觀展指南

2025中國（深圳）國際半導體展覽會

時間：2025年6月4-6日

地點：深圳國際會展中心14號館

展位號：14G22

172nm準分子光創(chuàng)新應用

助力半導體制造業(yè)高質效升級

1晶圓/掩膜版光清洗

功能：高效去除各類微觀有機污染物，實現(xiàn)超凈表面。

優(yōu)勢：無化學殘留、低溫無損傷、原子級潔凈度。

應用：晶圓、光罩、掩膜版、顯示屏、PET、PCB 等的表面有機污染物清潔、封裝前預處理、光刻膠去除。

應用效果

172nm清潔納米壓印模具，提高潔凈度。

2晶圓鍵合改性

功能：可快速精準調(diào)節(jié)表面親水性以及粘附性能。

優(yōu)勢：無熱效應、快速處理、無化學殘留。

應用：薄膜沉積前處理、MEMS封裝、3D封裝、晶圓鍵合、倒裝芯片鍵合、引線鍵合等高精度芯片制造。

應用效果

照射后，親水性提高，接觸角明顯變小。

3超純水TOC降解

功能：高效降解超純水中的總有機碳（TOC），潔凈度可達ppb級。

優(yōu)勢：無化學添加、在線降解、高效穩(wěn)定。

應用：半導體晶圓制程、顯示面板生產(chǎn)的超純水系統(tǒng)。

技術原理

172nm紫外光可促使水體生成自由基，

把有機物快速氧化為CO?和H?O。

誠邀蒞臨，探討行業(yè)新機遇

深耕光科技應用研發(fā)與制造20多年，廣明源專注于172nm準分子光源在半導體制造工藝中的創(chuàng)新應用，持續(xù)為行業(yè)提供高效、可靠、高性價比的技術解決方案。

依托專業(yè)的流水線設備設計與定制能力，公司能夠根據(jù)客戶需求，提供半導體等高端制造制程所需的核心光源部件、模組及設備，覆蓋從實驗驗證到大規(guī)模量產(chǎn)的全流程解決方案，滿足不同階段的生產(chǎn)需求。同時，依托自主172nm光源技術，助力產(chǎn)業(yè)鏈補鏈強鏈，提升國產(chǎn)化替代能力，保障供應鏈安全與產(chǎn)業(yè)體系穩(wěn)定。

本次展會，我們期待與您面對面交流，探討172nm準分子光在半導體制造領域不同工藝環(huán)節(jié)中的技術細節(jié)與應用經(jīng)驗，分享行業(yè)洞見，助力半導體制造技術持續(xù)優(yōu)化升級。