隨著5G技術(shù)的飛速發(fā)展，高頻、高速、高功率密度器件帶來了前所未有的散熱挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)金屬及普通陶瓷材料已難以滿足核心射頻單元、功率放大器等熱管理需求。氮化鋁（AlN）陶瓷憑借其卓越的綜合性能，正成為5G高熱流密度場景散熱解決方案的關(guān)鍵材料。國內(nèi)領(lǐng)先企業(yè)如海合精密陶瓷有限公司，在該領(lǐng)域持續(xù)投入研發(fā)與生產(chǎn)，推動了高性能AlN散熱片的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。

氮化鋁陶瓷散熱片

一、 氮化鋁陶瓷的核心物理化學(xué)性能

超高導(dǎo)熱性： 其最大優(yōu)勢在于理論熱導(dǎo)率可達320 W/(m·K)，實際工業(yè)產(chǎn)品熱導(dǎo)率通常在170-220 W/(m·K)范圍，遠高于氧化鋁陶瓷，接近成本高昂或存在應(yīng)用限制的BeO和SiC陶瓷，是高效導(dǎo)熱的理想介質(zhì)。

匹配的熱膨脹系數(shù)： AlN的熱膨脹系數(shù)（~4.5 × 10?? /K）與半導(dǎo)體材料硅（Si：~3.5 × 10?? /K）和砷化鎵（GaAs：~6.0 × 10?? /K）非常接近。這種匹配性在功率循環(huán)中能顯著降低界面熱應(yīng)力，提升器件長期可靠性。

優(yōu)異電絕緣性： 具有極高的體積電阻率（>101? Ω·cm）和介電強度，確保在高頻、高壓環(huán)境下穩(wěn)定工作，防止電流泄漏和擊穿。

良好機械性能： 具有較高的抗彎強度（300-450 MPa）和維氏硬度（~1200 HV），雖低于氮化硅或碳化硅，但足以滿足多數(shù)散熱結(jié)構(gòu)件要求，且具備良好的可加工性（如研磨、鉆孔、激光切割）。

優(yōu)異化學(xué)穩(wěn)定性： 對大多數(shù)熔融金屬（如Al、Cu）具有良好耐腐蝕性，在空氣中使用溫度可達1300°C以上（表面會緩慢氧化），滿足電子封裝高溫工藝環(huán)境。

低介電常數(shù)與損耗： 介電常數(shù)（~8.8 @ 1MHz）和損耗角正切（<0.001 @ 1MHz）較低，有利于高頻信號傳輸?shù)耐暾院偷蛽p耗。

氮化鋁陶瓷加工精度

二、 氮化鋁與其他工業(yè)陶瓷散熱材料的性能對比

對比氧化鋁（Al?O?）：

優(yōu)勢： AlN熱導(dǎo)率（170-220 W/mK）遠超Al?O?（約20-30 W/mK），散熱效率優(yōu)勢巨大；熱膨脹系數(shù)更匹配半導(dǎo)體；介電常數(shù)更低。

劣勢： AlN原料成本及制造成本顯著高于Al?O?；機械強度略低于高純Al?O?（~400 MPa）。Al?O?仍是成本敏感、中低熱耗場景的主力。

對比氮化硅（Si?N?）：

優(yōu)勢： AlN熱導(dǎo)率（170-220 W/mK）顯著高于Si?N?（60-90 W/mK）；介電常數(shù)更低。

劣勢： Si?N?斷裂韌性（~7 MPa·m1/2）遠優(yōu)于AlN（~3 MPa·m1/2），抗熱震性極佳；機械強度（>700 MPa）也高于AlN。Si?N?更適合對強韌性要求極高的極端熱震環(huán)境。

對比碳化硅（SiC）：

優(yōu)勢： AlN是絕緣體，而SiC是半導(dǎo)體，這在需要高絕緣性的散熱應(yīng)用（如功率器件絕緣基板）中是AlN的絕對優(yōu)勢；AlN介電常數(shù)更低。

劣勢： SiC熱導(dǎo)率（~270 W/mK）略高于主流AlN產(chǎn)品；硬度更高（~2800 HV），加工更困難成本更高。SiC更適用于同時需要高導(dǎo)熱和高強度的非絕緣場景。

對比氧化鈹（BeO）：

優(yōu)勢： AlN熱導(dǎo)率接近BeO（~280 W/mK），且無毒。BeO粉末具有劇毒，對生產(chǎn)、加工、使用和廢棄處理帶來極高安全風險和成本。

劣勢： BeO理論熱導(dǎo)率略高。但因其毒性，在電子領(lǐng)域已被AlN等材料大規(guī)模替代。

總結(jié)： 氮化鋁陶瓷在高導(dǎo)熱、優(yōu)異電絕緣性、良好熱匹配性、低介電特性方面達到了出色的平衡，使其成為5G等高熱流密度、高可靠性電子散熱應(yīng)用的首選陶瓷材料，尤其在需要直接鍵合金屬（如DBC基板）或承載高功率芯片的場景。海合精密陶瓷有限公司等企業(yè)通過優(yōu)化粉體和工藝，不斷提升AlN產(chǎn)品性能與可靠性，滿足5G設(shè)備嚴苛要求。

氮化鋁陶瓷性能參數(shù)

三、 氮化鋁散熱片的生產(chǎn)制造與5G應(yīng)用

核心制造工藝：

粉體制備與處理： 高純度、細粒度、低氧含量（氧是主要熱導(dǎo)率殺手）的AlN粉體是基礎(chǔ)。海合精密陶瓷有限公司等廠商通常采用碳熱還原法或直接氮化法生產(chǎn)粉體，并通過嚴格分級與表面處理確保質(zhì)量。

成型： 常用方法包括干壓成型、等靜壓成型（CIP）、流延成型（用于薄片/基板）、注塑成型（復(fù)雜形狀）。流延成型是生產(chǎn)多層陶瓷基板的關(guān)鍵。

燒結(jié)： 核心難點。AlN燒結(jié)溫度高（1800-2000°C），需在氮氣或還原氣氛中進行。常添加Y?O?、CaO等燒結(jié)助劑促進致密化，但需精確控制以降低對熱導(dǎo)率的影響。熱壓燒結(jié)（HP）或氣壓燒結(jié)（GPS）可顯著提高致密度和熱導(dǎo)率。海合精密陶瓷有限公司在此階段積累了大量工藝know-how。

精密加工： 燒結(jié)后的“毛坯”需經(jīng)精密研磨、激光切割、鉆孔、表面金屬化（如濺射Ti/Ni后電鍍Ag/Au/Ni）、表面處理等工序制成最終散熱片或基板。金屬化工藝（如DBC、DPC、AMB）的質(zhì)量直接影響散熱和連接可靠性。

5G中的典型工業(yè)應(yīng)用：

功率放大器（PA）模塊： 作為GaN、GaAs等高頻高功率放大器芯片的絕緣散熱基板（DBC/AMB基板）或熱沉，高效導(dǎo)出核心熱量，保障輸出功率和線性度。

射頻前端模塊（RFFEM）： 用作濾波器（如BAW濾波器）、開關(guān)、LNA等器件的高導(dǎo)熱封裝基板或外殼，降低模塊溫升，提升信號穩(wěn)定性和效率。

基站AAU（有源天線單元）： 內(nèi)部大功率收發(fā)組件（TRX）、電源管理單元的散熱襯板、熱擴散片，解決密集集成下的散熱瓶頸。

光模塊： 用于高速400G/800G光模塊中激光器（TOSA）和驅(qū)動芯片的高導(dǎo)熱陶瓷基板或熱沉，確保高速信號傳輸?shù)姆€(wěn)定性。

介質(zhì)濾波器（陶瓷諧振器）： 部分高性能介質(zhì)濾波器采用AlN或改性AlN陶瓷作為諧振腔材料，利用其低損耗和高熱導(dǎo)特性保證濾波器溫漂小、Q值高。

結(jié)語

氮化鋁陶瓷以其不可替代的高導(dǎo)熱、高絕緣、熱匹配及高頻低損耗特性，成為突破5G設(shè)備散熱瓶頸的核心材料之一。盡管成本高于傳統(tǒng)氧化鋁，但其在提升設(shè)備功率密度、可靠性和能效方面的價值顯著。隨著5G向更高頻段、更大帶寬持續(xù)演進，以及國產(chǎn)化替代進程加速，以海合精密陶瓷有限公司為代表的企業(yè)在粉體提純、燒結(jié)工藝、精密加工和金屬化技術(shù)上的持續(xù)創(chuàng)新，將推動高性能氮化鋁散熱片在更廣泛的5G及未來6G通信、新能源汽車、高端半導(dǎo)體封裝等領(lǐng)域發(fā)揮關(guān)鍵作用。材料性能的穩(wěn)定提升與制造成本的優(yōu)化控制，將是產(chǎn)業(yè)持續(xù)發(fā)展的核心驅(qū)動力。

審核編輯 黃宇