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推拉力測試機(jī)詳解:硅基WLP封裝焊球剪切與拉脫測試全流程

科準(zhǔn)測控 ? 來源:科準(zhǔn)測控 ? 作者:科準(zhǔn)測控 ? 2025-08-04 14:33 ? 次閱讀
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隨著半導(dǎo)體封裝技術(shù)向微型化、高密度方向發(fā)展,晶圓級封裝(Wafer Level Packaging, WLP)已成為先進(jìn)封裝技術(shù)的重要代表。硅基WLP封裝因其優(yōu)異的電氣性能、小型化優(yōu)勢和高可靠性,在移動(dòng)設(shè)備、物聯(lián)網(wǎng)人工智能等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。然而,在復(fù)雜的使用環(huán)境和嚴(yán)苛的可靠性要求下,WLP封裝界面容易出現(xiàn)開裂、分層等失效問題,嚴(yán)重影響產(chǎn)品可靠性。
image.png

科準(zhǔn)測控團(tuán)隊(duì)針對這一技術(shù)挑戰(zhàn),采用Alpha W260推拉力測試機(jī)開展系統(tǒng)性失效分析研究。本文將從測試原理、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、儀器特點(diǎn)和操作流程等方面,全面介紹硅基WLP封裝的機(jī)械可靠性評估方法,為封裝工藝優(yōu)化和質(zhì)量控制提供科學(xué)依據(jù),助力半導(dǎo)體封裝行業(yè)提升產(chǎn)品良率和可靠性水平。

一、測試原理

硅基WLP封裝失效分析的核心在于評估其內(nèi)部互連結(jié)構(gòu)的機(jī)械強(qiáng)度,主要包括焊球剪切力和焊點(diǎn)拉脫力兩個(gè)關(guān)鍵指標(biāo):

1、剪切測試原理

通過精密控制的剪切工具對焊球施加平行于基板方向的力

測量焊球與基板或芯片間界面剝離所需的峰值力

記錄力-位移曲線,分析失效模式和強(qiáng)度特征

2、拉脫測試原理

使用專用夾具垂直拉伸焊球或凸塊

測量界面分離時(shí)的最大拉力

分析斷裂面位置判斷失效機(jī)理(界面斷裂或內(nèi)聚斷裂)

3、失效模式判別:

界面失效:發(fā)生在金屬與鈍化層或UBM層界面

內(nèi)聚失效:發(fā)生在焊料內(nèi)部或IMC層內(nèi)部

混合失效:多種失效模式同時(shí)存在

二、測試標(biāo)準(zhǔn)

硅基WLP封裝推拉力測試遵循以下主要國際標(biāo)準(zhǔn):

1、JESD22-B117A

焊球剪切測試標(biāo)準(zhǔn)方法

規(guī)定測試速度、工具幾何尺寸等關(guān)鍵參數(shù)

定義剪切高度一般為焊球高度的25%

2、JESD22-B109

焊球拉脫測試標(biāo)準(zhǔn)

規(guī)范夾具設(shè)計(jì)、粘接方法和測試條件

3、MIL-STD-883 Method 2019.7

微電子器件鍵合強(qiáng)度測試方法

包含剪切和拉脫兩種測試程序

4、IPC/JEDEC-9704

晶圓級封裝可靠性表征標(biāo)準(zhǔn)

特別針對WLP封裝的機(jī)械可靠性評估

三、測試儀器

1、Alpha W260推拉力測試機(jī)
image.png

Alpha W260推拉力測試機(jī)是專為微電子封裝可靠性測試設(shè)計(jì)的高精度設(shè)備,特別適合紅外探測器芯片的測試需求:

1、設(shè)備特點(diǎn)

高精度:全量程采用自主研發(fā)的高精度數(shù)據(jù)采集系統(tǒng),確保測試數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。

功能性:支持多種測試模式,如晶片推力測試、金球推力測試、金線拉力測試以及剪切力測試等。

操作便捷:配備專用軟件,操作簡單,支持多種數(shù)據(jù)輸出格式,能夠完美匹配工廠的SPC網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)。

2、多功能測試能力

支持拉力/剪切/推力測試

模塊化設(shè)計(jì)靈活配置

3、智能化操作

自動(dòng)數(shù)據(jù)采集

SPC統(tǒng)計(jì)分析

一鍵報(bào)告生成

4、安全可靠設(shè)計(jì)

獨(dú)立安全限位

自動(dòng)模組識別

防誤撞保護(hù)

5、夾具系統(tǒng)

多種規(guī)格的剪切工具(適用于不同尺寸焊球)
image.png

鉤型拉力夾具
image.png

定制化夾具解決方案
image.png

2、KZ-68SC-05XY萬能材料試驗(yàn)機(jī)

搭配定制夾具,進(jìn)行焊球垂直拉拔測試
image.png

四、測試流程

  1. 樣品準(zhǔn)備階段

樣品固定:使用真空吸附或?qū)S脢A具將樣品固定在測試平臺

光學(xué)對位:通過顯微鏡觀察系統(tǒng)定位待測焊球

高度測量:采用激光或光學(xué)方式測量焊球高度

  1. 剪切測試流程

設(shè)置剪切工具與基板間距(通常為焊球高度的25%)

設(shè)定測試速度(通常為100-500μm/s)

選擇剪切方向(通常平行于芯片邊緣)

執(zhí)行剪切測試,記錄峰值力和位移曲線

采集失效后圖像,分析斷裂面特征

  1. 拉脫測試流程
    image.png

(示意圖)

選擇合適的上拉夾具(鉤狀或粘接型)

定位夾具與焊球中心對準(zhǔn)

設(shè)定拉伸速度和最大行程

執(zhí)行拉脫測試,記錄最大拉力

檢查斷裂面,判斷失效位置

  1. 數(shù)據(jù)分析階段

統(tǒng)計(jì)處理測試數(shù)據(jù),計(jì)算平均值和標(biāo)準(zhǔn)差

分析力-位移曲線特征

分類統(tǒng)計(jì)失效模式比例

生成測試報(bào)告,包括:

原始測試數(shù)據(jù)

統(tǒng)計(jì)結(jié)果

典型失效圖片

工藝改進(jìn)建議

五、應(yīng)用案例

某300mm硅基WLP產(chǎn)品在可靠性測試中出現(xiàn)早期失效,采用Alpha W260進(jìn)行系統(tǒng)分析:

1、問題現(xiàn)象

溫度循環(huán)測試后部分器件功能失效

初步懷疑焊球界面可靠性問題

2、分析過程

選取正常和失效區(qū)域樣品各20個(gè)

進(jìn)行剪切力測試(參數(shù):剪切高度30μm,速度200μm/s)

結(jié)果顯示失效區(qū)域平均剪切力下降約35%

斷裂面分析顯示界面失效比例從15%增至65%

3、根本原因

UBM(Under Bump Metallization)層厚度不均

電鍍工藝波動(dòng)導(dǎo)致局部結(jié)合力不足

4、改進(jìn)措施

優(yōu)化UBM電鍍工藝參數(shù)

增加過程監(jiān)控點(diǎn)

改進(jìn)后測試顯示剪切力一致性提高40%

以上就是小編介紹的有關(guān)于硅基WLP封裝失效分析的相關(guān)內(nèi)容了,希望可以給大家?guī)韼椭H绻€對硅基WLP封裝失效分析方法、測試報(bào)告和測試項(xiàng)目,推拉力測試機(jī)怎么使用視頻和圖解,使用步驟及注意事項(xiàng)、作業(yè)指導(dǎo)書,原理、怎么校準(zhǔn)和使用方法視頻,推拉力測試儀操作規(guī)范、使用方法和測試視頻,焊接強(qiáng)度測試儀使用方法和鍵合拉力測試儀等問題感興趣,歡迎關(guān)注我們,也可以給我們私信和留言。【科準(zhǔn)測控】小編將持續(xù)為大家分享推拉力測試機(jī)在鋰電池電阻、晶圓、硅晶片、IC半導(dǎo)體、BGA元件焊點(diǎn)、ALMP封裝、微電子封裝、LED封裝、TO封裝等領(lǐng)域應(yīng)用中可能遇到的問題及解決方案。

審核編輯 黃宇

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