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光學(xué)輪廓儀應(yīng)用:鋁合金反射鏡 NiP 鍍層的磁流變拋光技術(shù)研究

蘇州光子灣科學(xué)儀器有限公司 ? 2025-08-05 18:02 ? 次閱讀
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鋁合金反射鏡是大型太空望遠(yuǎn)鏡光學(xué)系統(tǒng)核心部件,表面質(zhì)量影響成像精度。NiP 鍍層經(jīng)單點(diǎn)金剛石車削后殘留螺旋狀刀痕,導(dǎo)致色散和重影,需進(jìn)一步拋光。磁流變拋光因高效、優(yōu)質(zhì)、低成本成為潛在方案。光子灣科技的光學(xué)輪廓儀等技術(shù)在精密檢測(cè)中作用顯著,本文結(jié)合其三維輪廓觀測(cè)技術(shù),研究鋁合金反射鏡NiP 鍍層的磁流變超精密拋光,為高精度光學(xué)元件制造提供支撐。



#Photonixbay.

研究背景

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磁流變拋光原理圖

超精密拋光技術(shù)現(xiàn)狀:主流技術(shù)有化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)、應(yīng)力盤拋光(SLP)、離子束拋光(IBF)、氣囊拋光(ABP)等,但各有局限:CMP 材料適應(yīng)性差且污染環(huán)境;SLP 對(duì)軟質(zhì)材料適用性有限;IBF 效率低且設(shè)備昂貴;ABP壓力控制難度大。

磁流變拋光與NiP 鍍層拋光研究現(xiàn)狀:磁流變拋光技術(shù)現(xiàn)有輪式、球頭式、集群式等形式,集群式更適用于平面工件高效拋光。NiP 鍍層拋光中,傳統(tǒng)技術(shù)難兼顧效率與精度,磁流變拋光雖已應(yīng)用,但需優(yōu)化工藝以去除周期性刀痕



#Photonixbay.

NiP 鍍層的基本性質(zhì)與表征方法


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經(jīng)SPDT后表面色散現(xiàn)象 (a)車削表面光鏡圖(b)反射鏡表面“彩虹斑圖

1.NiP 鍍層基本特性

實(shí)驗(yàn)所用NiP 鍍層為非晶結(jié)構(gòu),P 含量 6.2wt.%,厚度 32.4μm,顯微硬度 HV1.0 約 460,結(jié)構(gòu)致密均勻,適合超精密拋光。

2.SPDT 加工缺陷

SPDT 加工后殘留的螺旋狀刀痕類似反射光柵,會(huì)導(dǎo)致“彩虹斑” 現(xiàn)象,影響成像質(zhì)量,需通過(guò)拋光去除。

3.形貌表征與分析方法

采用光學(xué)輪廓儀和原子力顯微鏡表征表面形貌,光學(xué)輪廓儀垂直分辨率達(dá)0.1nm,AFMZ 軸分辨率達(dá) 0.03nm。引入功率譜密度(PSD)定量分析表面粗糙度與空間頻率分布,彌補(bǔ)傳統(tǒng)評(píng)價(jià)方法的不足。



#Photonixbay.

磁流變拋光液的制備與表征

1.組成與配方

選用去離子水為基載液,羰基鐵粉為磁性顆粒,100nm 氧化鈰為磨粒,添加六偏磷酸鈉(分散劑)、氣相二氧化硅(觸變劑)等,優(yōu)化配方以提升穩(wěn)定性和剪切性能。

2.性能指標(biāo)

制備的拋光液剪切應(yīng)力(500mT)達(dá)35.6kPa,42h 沉降率僅 17.5%,零場(chǎng)粘度低,滿足超精密拋光要求。



#Photonixbay.

磁流變拋光試驗(yàn)設(shè)備設(shè)計(jì)與搭建

1.設(shè)備組成

設(shè)備包括拋光盤、工件軸、勵(lì)磁裝置等,拋光盤轉(zhuǎn)速0~100rpm,工件軸轉(zhuǎn)速 0~800rpm,可加工尺寸 < 100mm。

2.勵(lì)磁裝置優(yōu)化

設(shè)計(jì)三種勵(lì)磁裝置,通過(guò)磁場(chǎng)仿真和去除率對(duì)比,確定海爾貝克陣列磁鐵(HB35)性能最優(yōu),其 4mm 高度處最大磁通密度達(dá) 475mT,材料去除率達(dá) 55.86nm/min,為圓柱形磁鐵的 2.68 倍。



#Photonixbay.

拋光工藝優(yōu)化與表面質(zhì)量評(píng)價(jià)

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光學(xué)輪廓儀表征試驗(yàn)拋光后的三維形貌圖

正交試驗(yàn):以磨粒體積分?jǐn)?shù)等為因素,發(fā)現(xiàn)加工間隙對(duì)去除率影響最顯著,拋光盤轉(zhuǎn)速對(duì)表面粗糙度影響最顯著,最優(yōu)工藝實(shí)現(xiàn)表面粗糙度Sa=0.544nm。

表面質(zhì)量改善:拋光后,光學(xué)輪廓儀測(cè)得表面粗糙度Sq 從 3.776nm 降至 0.433nm(降88.5%),AFM 測(cè)得 Sq 從 5.338nm 降至 0.961nm(降 82%),螺旋狀刀痕完全去除。

PSD 分析:拋光后0.0012~12.7μm?1 頻段內(nèi)表面全誤差顯著改善,尤其空間頻率 < 1μm?1 誤差去除效果突出。

綜上,制備高性能磁流變拋光液、搭建試驗(yàn)設(shè)備及優(yōu)化工藝后實(shí)現(xiàn)NiP 鍍層超光滑表面(Sq<1nm),有效去除周期性刀痕,提升反射率。光子灣科技的光學(xué)輪廓儀可為本研究表面質(zhì)量評(píng)價(jià)提供關(guān)鍵支撐,其三維成像技術(shù)在光學(xué)制造領(lǐng)域的深度應(yīng)用,將持續(xù)推動(dòng)超精密加工技術(shù)的發(fā)展與創(chuàng)新。



#Photonixbay.

光子灣光學(xué)輪廓儀



光子灣光學(xué)輪廓儀是一款用于對(duì)各種精密器件及材料表面,可應(yīng)對(duì)多樣化測(cè)量場(chǎng)景,能夠快速高效完成亞微米級(jí)形貌和表面粗糙度的精準(zhǔn)測(cè)量任務(wù),提供值得信賴的高質(zhì)量數(shù)據(jù)。

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超寬視野范圍,高精細(xì)彩色圖像觀察

提供粗糙度、幾何輪廓、結(jié)構(gòu)、頻率、功能等五大分析技術(shù)

采用針孔共聚焦光學(xué)系統(tǒng),高穩(wěn)定性結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

提供調(diào)整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能

光子灣光學(xué)輪廓儀以原位觀察與三維成像能力,為鋁合金反射鏡NiP 鍍層的磁流變超精密拋光的研究提供表征技術(shù)支撐,助力從表面粗糙度與性能分析的精準(zhǔn)把控,成為推動(dòng)高端制造領(lǐng)域質(zhì)量升級(jí)的重要光學(xué)測(cè)量工具。

#光學(xué)輪廓儀#三維成像 #3d顯微鏡 #表面粗糙度 #三維輪廓

感謝您本次的閱讀光子灣將持續(xù)為您奉上更多優(yōu)質(zhì)內(nèi)容,與您共同進(jìn)步。

原文參考:《鋁合金反射鏡NiP 鍍層的磁流變超精密拋光技術(shù)研究》

*特別聲明:本公眾號(hào)所發(fā)布的原創(chuàng)及轉(zhuǎn)載文章,僅用于學(xué)術(shù)分享和傳遞行業(yè)相關(guān)信息。未經(jīng)授權(quán),不得抄襲、篡改、引用、轉(zhuǎn)載等侵犯本公眾號(hào)相關(guān)權(quán)益的行為。內(nèi)容僅供參考,如涉及版權(quán)問題,敬請(qǐng)聯(lián)系,我們將在第一時(shí)間核實(shí)并處理。

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