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MOCVD技術丨實現(xiàn)6英寸藍寶石基板GaN基LED關鍵突破

蘇州上器試驗設備有限公司 ? 2025-08-11 14:27 ? 次閱讀
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半導體照明與光電子領域,氮化鎵(GaN)基發(fā)光二極管LED憑借其卓越性能,長期占據(jù)研究焦點位置。它廣泛應用于照明、顯示、通信等諸多關鍵領域。在6英寸藍寶石基板上,基于六方氮化硼(h-BN)模板的GaN基LED的生長、制造及器件轉移工藝的成功研發(fā),有效解決了大尺寸基板上相關材料生長和器件制備過程中的分層、晶圓翹曲等關鍵問題。美能顯示作為專注顯示行業(yè)精密高效檢測設備研發(fā)的企業(yè),將持續(xù)關注核心材料的最新應用及動態(tài),拓展其在更多領域的應用,推動整個行業(yè)邁向新的發(fā)展階段。

范德華外延技術的發(fā)展與挑戰(zhàn)

Millennial Display

近十年,范德華外延(vdW)技術在III族氮化物領域發(fā)展迅速。其3D/2D生長模式借助弱范德華力,實現(xiàn)晶格與熱失配引起的應變彈性弛豫,有效減少位錯與缺陷生成,為緩沖層設計和器件制備提供了更大自由度,同時支持異質(zhì)結構的大面積機械分離與靈活轉移。

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基于范德華外延的GaN(氮化鎵)薄膜轉移工藝流程圖

作為理想二維襯底六方氮化硼(h-BN)憑借優(yōu)異的高溫穩(wěn)定性、與MOCVD等主流生長工藝的兼容性,以及在多種基板上的適配能力,成為III族氮化物異質(zhì)結構的核心載體。

然而,大規(guī)模生產(chǎn)中仍面臨關鍵挑戰(zhàn):大尺寸基板與h-BN層間的弱范德華結合力難以承受熱膨脹應力,導致生長或冷卻過程中易發(fā)生自發(fā)分層;當工藝擴展至6英寸晶圓時,高溫下基板翹曲會引發(fā)晶圓表面溫度不均,造成薄膜質(zhì)量波動、器件性能一致性下降,甚至導致InGaN/GaN多量子阱中銦含量不均,引發(fā)發(fā)射波長漂移。

目前,完整6英寸及更大尺寸晶圓上的h-BN生長及后續(xù)vdW外延工藝尚未有公開報道,相關技術突破需聚焦于生長條件優(yōu)化與設備改進。

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20nmh-BN在6英寸藍寶石基板上的生長及相關特性圖

6英寸藍寶石基板上的技術突破

Millennial Display

本研究中,科研團隊利用金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)技術,在6英寸藍寶石基板上成功實現(xiàn)了2Dh-BN的生長以及GaN基LED異質(zhì)結構的范德華外延。

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GaN基LED異質(zhì)結構在h-BN/6英寸藍寶石基板上的生長情況

2Dh-BN生長方面,生長的20nmh-BN層均勻透明、無分層現(xiàn)象。通過HR-XRD、SEM、AFM和拉曼光譜等表征手段分析,其晶體結構、形貌與2英寸基板上生長的h-BN相似,且可作為GaN基LED異質(zhì)結構的釋放層,為后續(xù)器件分離和轉移奠定基礎。

對于GaN基LED異質(zhì)結構生長,研究團隊針對分層問題,優(yōu)化生長腔3區(qū)加熱器控制溫度均勻性,降低升溫速率以減小不同層生長溫度變化斜率,在氣體切換時通過逐步注入混合氣體控制表面溫度,實現(xiàn)了無分層的高質(zhì)量異質(zhì)結構生長。據(jù)HR-XRD和PL光譜分析(圖d)表明,生長的LED異質(zhì)結構結晶質(zhì)量良好發(fā)射波長均勻,晶圓翹曲度降低。

器件性能與轉移技術

Millennial Display

基于生長的異質(zhì)結構制備的LED器件呈現(xiàn)出良好的整流特性,閾值電壓約4.5V,盡管受p-GaN和n-GaN層結晶質(zhì)量影響,正向電壓較高,但器件電致發(fā)光峰值波長為437nm,與之前的光致發(fā)光測量結果相符,且隨著注入電流增加,電致發(fā)光強度增強

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在h-BN/6英寸藍寶石基板上生長的GaN基LED

器件的加工過程及光學、電學特性圖

在器件轉移方面,研究團隊采用自剝離轉移工藝(SLOT),將LED異質(zhì)結構從6英寸藍寶石基板轉移到柔性銅載體上,制備出垂直LED結構。這種轉移技術拓展了LED器件在不同電子系統(tǒng)中的應用范圍。

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自剝離轉移工藝(SLOT)的不同步驟圖

研究意義與未來展望

Millennial Display

此次研究成功實現(xiàn)了6英寸藍寶石基板上基于h-BN模板的vdW外延和藍光LED器件的制造、剝離與轉移,為GaN基LED在h-BN/sapphire上的商業(yè)化生產(chǎn)提供了有力支持。研究中避免分層的方法有望應用于8英寸、10英寸、12英寸及更大尺寸的基板,適應藍寶石基板生產(chǎn)的規(guī)?;枨?。

美能顯示專注檢測顯示設備領域,持續(xù)深耕檢測技術,全力提升光學檢測、圖像識別處理等核心檢測技術水平,拓展業(yè)務覆蓋范疇。在活力充沛的GaN基LED顯示檢測市場中,將充分發(fā)揮檢測技術與設備優(yōu)勢,推動檢測技術創(chuàng)新應用,為半導體光電子產(chǎn)業(yè)的質(zhì)量把控與發(fā)展提供有力支撐,助力產(chǎn)業(yè)在檢測環(huán)節(jié)實現(xiàn)技術升級與高效發(fā)展。

原文出處:《Scaling up of Growth, Fabrication, and Device Transfer Process for GaN-based LEDs on H-BN Templates to 6-inch Sapphire Substrates》

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