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臺階儀精準(zhǔn)測量薄膜工藝中的膜厚:制備薄膜理想臺階提高膜厚測量的準(zhǔn)確性

Flexfilm ? 2025-09-05 18:03 ? 次閱讀
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固態(tài)薄膜因獨(dú)特的物理化學(xué)性質(zhì)與功能在諸多領(lǐng)域受重視,其厚度作為關(guān)鍵工藝參數(shù),準(zhǔn)確測量對真空鍍膜工藝控制意義重大,臺階儀法因其能同時測量膜厚與表面粗糙度而被廣泛應(yīng)用于航空航天、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。費(fèi)曼儀器致力于為全球工業(yè)智造提供提供精準(zhǔn)測量解決方案,Flexfilm探針式臺階儀可以精確多種薄膜樣品的薄膜厚度。

臺階儀法需在薄膜表面制備臺階,通過測量臺階高度反推膜厚。然而,傳統(tǒng)方法在襯底邊緣制備臺階時,易受邊緣效應(yīng)、表面粗糙度和界面接觸等問題影響,導(dǎo)致臺階形貌不理想,測量誤差大。本研究通過設(shè)計新型掩膜板,在不同襯底上制備理想臺階,以提高膜厚測量的準(zhǔn)確性和重復(fù)性。

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制備理想臺階面臨的問題

flexfilm

邊緣效應(yīng)的影響

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(a)掩膜環(huán)示意(b)臺階邊緣形貌

傳統(tǒng)方法使用環(huán)形掩膜板在襯底邊緣制備臺階,但由于襯底邊緣存在內(nèi)應(yīng)力和幾何弧度,尤其是薄膜較薄時,邊緣效應(yīng)會顯著放大,導(dǎo)致臺階斜面過長、下表面模糊,無法準(zhǔn)確測量。

表面粗糙度的影響

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(a)拋光 Mo 襯底線粗糙度(b)拋光 Mo 襯底上鍍 Ti 膜制備的臺階

襯底粗糙度:如化學(xué)拋光Mo襯底表面存在凹坑,鍍膜后仍可見針狀線條,影響臺階清晰度。

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PLD 法制備薄膜的表面形貌及臺階形貌

薄膜粗糙度:不同鍍膜方式(如蒸發(fā)、濺射、PLD)影響薄膜致密性與表面平整度。PLD法制備的薄膜表面存在波浪狀突起,干擾臺階識別。

襯底與膜層界面影響

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底襯材料與膜層材料的熱膨脹系數(shù)

鍍膜后冷卻過程中,襯底與薄膜因熱膨脹系數(shù)差異產(chǎn)生切應(yīng)力,可能導(dǎo)致脫膜。Ti與Mo因熱膨脹系數(shù)接近且能形成金屬鍵,附著力較好;而Ti與Si在高溫下易發(fā)生反應(yīng)生成硅化物,影響界面質(zhì)量和薄膜形貌。

2

實(shí)驗方法

flexfilm

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新結(jié)構(gòu)掩膜板

為克服上述問題,本研究設(shè)計了一種新型掩膜板,其外緣為環(huán)形,中軸線位置增加一根3 mm寬的掩膜條。該設(shè)計可在薄膜中軸線處形成兩條平行臺階,避免邊緣效應(yīng)

實(shí)驗選用三種拋光襯底:單晶硅、石英和Mo,采用電子槍蒸鍍法沉積Ti膜(純度99.99%)。鍍膜條件:真空度2.8×10?? Pa,除氣溫度725 ℃,沉積溫度690 ℃,沉積速率80 nm/s。使用探針式臺階儀測量臺階高度和線粗糙度,掃描長度分別為0.5 mm和2 mm。

3

襯底與薄膜的粗糙度

flexfilm

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三種襯底的表面線粗糙度和線粗糙度圖

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襯底表面線粗糙度

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不同襯底鍍膜前后的線粗糙度

鍍膜前襯底線粗糙度測量結(jié)果(Ra均值):單晶硅:5.01 nm、Mo:5.20 nm、石英:9.06 nm

鍍膜后薄膜粗糙度變化:石英襯底上薄膜粗糙度增加較小;Mo和單晶硅襯底上薄膜粗糙度顯著增大;單晶硅襯底上薄膜粗糙度隨膜厚增加而增大。

4

臺階形貌與膜厚測量

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不同襯底上制備薄膜的臺階

使用新型掩膜板后,在三種襯底上均制備出坡度陡峭、上下表面清晰的臺階。其中:

Mo襯底臺階上下表面粗糙,但坡度陡峭,膜厚重復(fù)性最佳;

石英襯底臺階上下表面平整,坡度陡峭,最接近理想臺階;

單晶硅襯底下表面平整,上表面粗糙,可能與Ti–Si反應(yīng)有關(guān)。

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石英襯底上制備的理想臺階

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理想臺階膜厚的測定

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不同襯底鍍膜厚度

通過理想臺階上下表面作水平線,其縱坐標(biāo)差值即為膜厚。同一爐次樣品膜厚偏差小于3.5%,表明該方法具有良好的重復(fù)性和一致性。然而,當(dāng)膜厚增至10 μm時,石英和硅襯底出現(xiàn)脫膜現(xiàn)象,歸因于熱膨脹系數(shù)差異引起的剪切應(yīng)力。

本研究通過設(shè)計新型中軸線掩膜板,成功在石英襯底上制備出理想臺階,其上下表面平整、坡度陡峭,可用于準(zhǔn)確測量薄膜厚度。Mo襯底上制備的薄膜厚度重復(fù)性最佳,但表面粗糙;單晶硅襯底因界面反應(yīng)導(dǎo)致薄膜粗糙度較大。該研究為薄膜厚度表面粗糙度的準(zhǔn)確標(biāo)定提供了有效方法,為薄膜工藝中膜厚的精準(zhǔn)測量提供可靠方法。

Flexfilm探針式臺階儀

flexfilm

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在半導(dǎo)體、光伏、LED、MEMS器件、材料等領(lǐng)域,表面臺階高度、膜厚的準(zhǔn)確測量具有十分重要的價值,尤其是臺階高度是一個重要的參數(shù),對各種薄膜臺階參數(shù)的精確、快速測定和控制,是保證材料質(zhì)量、提高生產(chǎn)效率的重要手段。

  • 配備500W像素高分辨率彩色攝像機(jī)
  • 亞埃級分辨率,臺階高度重復(fù)性1nm
  • 360°旋轉(zhuǎn)θ平臺結(jié)合Z軸升降平臺
  • 超微力恒力傳感器保證無接觸損傷精準(zhǔn)測量

費(fèi)曼儀器作為國內(nèi)領(lǐng)先的薄膜厚度測量技術(shù)解決方案提供商,Flexfilm探針式臺階儀可以對薄膜表面臺階高度、膜厚進(jìn)行準(zhǔn)確測量,保證材料質(zhì)量、提高生產(chǎn)效率。

原文參考:《薄膜理想臺階的制備方法研究》

*特別聲明:本公眾號所發(fā)布的原創(chuàng)及轉(zhuǎn)載文章,僅用于學(xué)術(shù)分享和傳遞行業(yè)相關(guān)信息。未經(jīng)授權(quán),不得抄襲、篡改、引用、轉(zhuǎn)載等侵犯本公眾號相關(guān)權(quán)益的行為。內(nèi)容僅供參考,如涉及版權(quán)問題,敬請聯(lián)系,我們將在第一時間核實(shí)并處理。

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