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AI時(shí)代,光芯片關(guān)鍵技術(shù)與產(chǎn)業(yè)鏈深度解析

Carol Li ? 來源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:李彎彎 ? 2025-10-07 06:45 ? 次閱讀
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電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/李彎彎)人工智能技術(shù)的迅速發(fā)展,全球數(shù)據(jù)流量每年呈爆發(fā)式增長。傳統(tǒng)電芯片在算力與能耗的矛盾中逐漸觸及物理極限,而光芯片憑借其超低傳輸損耗、超寬帶寬和超低延遲的特性,成為突破算力瓶頸的關(guān)鍵技術(shù)。據(jù)預(yù)測,2027年全球光芯片市場規(guī)模有望達(dá)到56億美元,年復(fù)合增長率16%。從800G到1.6T光模塊的量產(chǎn),再到硅光子技術(shù)與光電共封裝(CPO)的突破,光芯片正重塑全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局。

技術(shù)演進(jìn):光電融合的必然之路

集成電路與集成光子的平行發(fā)展在2010年后迎來轉(zhuǎn)折點(diǎn)。隨著摩爾定律失效,光電融合成為延續(xù)技術(shù)進(jìn)步的必然選擇。英特爾是最早研究硅光的巨頭廠商之一,其研究硅光子技術(shù)已經(jīng)超過30年。從2016年推出硅光子平臺后,英特爾已出貨超過800萬個(gè)光子集成電路(PIC)和超過320萬個(gè)集成片上激光器,這些產(chǎn)品被很多大型云服務(wù)提供商采用。

英特爾的硅光技術(shù),是用CMOS制造工藝,把激光器、調(diào)制器、探測器光學(xué)器件與電路集成在同一塊硅基片上,實(shí)現(xiàn)電子與光學(xué)結(jié)合。

中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所研究員歐欣領(lǐng)銜的團(tuán)隊(duì)2024年開發(fā)出鉭酸鋰異質(zhì)集成晶圓,并成功用其制作高性能光子芯片。歐欣介紹,不同于電子芯片以電流為信息載體,光子芯片以光波為信息載體,能實(shí)現(xiàn)低功耗、高帶寬、低時(shí)延的效果。不過,現(xiàn)階段的光子芯片受限于材料和技術(shù),面臨效率較低、功能單一、成本較高等挑戰(zhàn)。

類似于電子芯片將電路刻在硅晶圓上,團(tuán)隊(duì)將光子芯片的光波導(dǎo)刻在鉭酸鋰異質(zhì)集成晶圓上。該集成晶圓是由“硅-二氧化硅-鉭酸鋰”組成的“三明治”結(jié)構(gòu),其關(guān)鍵在于最上層薄約600納米的高質(zhì)量單晶鉭酸鋰薄膜及該薄膜與二氧化硅形成的界面質(zhì)量。

光芯片與電芯片的本質(zhì)差異體現(xiàn)在信息載體、能耗與應(yīng)用場景等幾個(gè)方面。光子以101?Hz頻率傳輸,支持Tbps級速率且能耗低至0.1pJ/bit;而電子受限于109Hz頻率,速率與能耗均處于劣勢。這種差異決定了光芯片在長距離通信AI計(jì)算等場景的不可替代性,而電芯片則在通用計(jì)算、控制邏輯等領(lǐng)域持續(xù)發(fā)揮價(jià)值。

技術(shù)代際的躍遷清晰可見:第一代分立器件(2000-2015)以DFB激光器、PIN探測器為主,應(yīng)用于40G以下速率場景;第二代光電混合集成(2016-2022)通過硅光技術(shù)實(shí)現(xiàn)100G-400G模塊商用;第三代單片光電融合(2023-2030)則借助CPO技術(shù)將光引擎與ASIC芯片共封裝,功耗降低50%以上。

關(guān)鍵技術(shù)突破:多路徑競速的創(chuàng)新格局

芯片制造技術(shù)呈現(xiàn)多元化發(fā)展。EML芯片通過電吸收層實(shí)現(xiàn)高速調(diào)制,源杰科技2025年推出的100GEML芯片良率突破85%。硅光技術(shù)是將傳統(tǒng)微電子芯片與光子學(xué)融合的技術(shù),也就是把電子元件和光學(xué)元件“擠”在同一片芯片上。相比傳統(tǒng)微電子芯片,硅光芯片傳輸速率更高、功耗更低,是5G/6G、AI算力網(wǎng)絡(luò)、量子信息等領(lǐng)域的底層技術(shù),還可以繞開對EUV光刻機(jī)的依賴,實(shí)現(xiàn)芯片領(lǐng)域“換道超車”。薄膜鈮酸鋰是高性能玻璃狀材料,它能將數(shù)據(jù)傳輸速度顯著提升至1.6至3.2Tb/s,同時(shí)大幅降耗,為數(shù)據(jù)中心帶來前所未有的效率提升,兼具環(huán)境友好性。

先進(jìn)封裝技術(shù)革命中,CPO與LPO成為焦點(diǎn)。傳統(tǒng)光模塊獨(dú)立于交換芯片,信號需通過PCB長距離傳輸,損耗大、功耗高。 而CPO將光引擎與芯片(如GPU、ASIC)集成在同一基板,電信號傳輸距離從厘米級壓縮至毫米級。這一變革使功耗直降50%-70%,英偉達(dá)1.6T光模塊功耗從30W驟降至9W,博通CPO交換機(jī)單通道功耗僅5.5W/800G。傳統(tǒng)光模塊依賴DSP芯片進(jìn)行信號處理,功耗通常在25W以上,而LPO方案通過移除DSP芯片,功耗降低至10W左右。例如,新易盛的1.6T DR8硅光模塊采用LPO技術(shù)后,功耗降至10W,較傳統(tǒng)DSP模塊降低68%。

材料科學(xué)的突破為技術(shù)升級提供支撐。中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所研究員歐欣團(tuán)隊(duì)在鉭酸鋰異質(zhì)集成晶圓及高性能光子芯片制備領(lǐng)域取得突破性進(jìn)展。歐欣團(tuán)隊(duì)采用基于“萬能離子刀”的異質(zhì)集成技術(shù),通過氫離子注入結(jié)合晶圓鍵合的方法,制備了高質(zhì)量硅基鉭酸鋰單晶薄膜異質(zhì)晶圓。進(jìn)一步,合作團(tuán)隊(duì)開發(fā)了超低損耗鉭酸鋰光子器件微納加工方法,使對應(yīng)器件的光學(xué)損耗降低至5.6 dB m-1,這低于其他團(tuán)隊(duì)報(bào)道的晶圓級鈮酸鋰波導(dǎo)的最低損耗值。

該研究結(jié)合晶圓級流片工藝,探討了鉭酸鋰材料內(nèi)低雙折射對于模式交叉的有效抑制,并驗(yàn)證了可以應(yīng)用于整個(gè)通信波段的鉭酸鋰光子微腔諧振器。鉭酸鋰光子芯片展現(xiàn)出與鈮酸鋰薄膜相當(dāng)?shù)碾姽庹{(diào)制效率;同時(shí),基于鉭酸鋰光子芯片,該研究首次在X切型電光平臺中產(chǎn)生了孤子光學(xué)頻率梳,結(jié)合電光可調(diào)諧性質(zhì),有望在激光雷達(dá)和精密測量等方面實(shí)現(xiàn)應(yīng)用。當(dāng)前,該研究已攻關(guān)8英寸晶圓制備技術(shù),為更大規(guī)模的國產(chǎn)光電集成芯片和移動終端射頻濾波器芯片的發(fā)展奠定了材料基礎(chǔ)。

產(chǎn)業(yè)鏈解析:從材料到系統(tǒng)的生態(tài)重構(gòu)

光芯片企業(yè)通常采用lll-V族化合物磷化銦(InP)和砷化家(GaAs)作為芯片的襯底材料,相關(guān)材料具有高頻、高低溫性能好、噪聲小、抗輻射能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),符合高頻通信的特點(diǎn),因而在光通信芯片領(lǐng)域得到重要應(yīng)用。

其中,磷化銦(InP)襯底用于制作FP、DFB、EML邊發(fā)射激光器芯片和PIN、APD探測器芯片,主要應(yīng)用于電信、數(shù)據(jù)中心等中長距離傳輸;砷化(GaAs)襯底用于制作VCSEL面發(fā)射激光器芯片,主要應(yīng)用于數(shù)據(jù)中心短距離傳輸、3D感測等領(lǐng)域。

磷化銦(InP)和砷化鎵(GaAs)襯底材料,全球90%以上產(chǎn)能由日本住友、美國AXT等壟斷,國內(nèi)三安光電、云南鍺業(yè)等逐步突破。

從分類和功能來看,光芯片可分為有源光芯片和無源光芯片。有源光芯片負(fù)責(zé)光電信號轉(zhuǎn)換,包括激光器芯片和探測器芯片;無源光芯片則包括光開關(guān)芯片、光分束器芯片等。

國內(nèi)外主要的光芯片研發(fā)和制造企業(yè)有Coherent(II-VI)、Lumentum、Broadcom、Intel、OSRAM、源杰科技、光迅科技、長光華芯、福建中科光芯、光本位科技、廈門優(yōu)迅等。

中游制造方面,IDM模式與Foundry模式并行發(fā)展。如,光迅科技實(shí)現(xiàn)從襯底到模塊的全鏈條覆蓋。中科光芯的8英寸光芯片代工線支持EML、VCSEL等多品類制造。

下游模塊與應(yīng)用市場,中國廠商已占據(jù)全球光模塊市場重要地位,主要企業(yè)有中際旭創(chuàng)、新易盛、光迅科技、華工科技等。中際旭創(chuàng)占據(jù)全球800G模塊40%市場份額,2025年800G光模塊上半年出貨量超400萬只。新易盛是AWS供應(yīng)鏈核心供應(yīng)商,同時(shí)為Meta、微軟提供800G LPO模塊,2026年規(guī)劃產(chǎn)能450萬只,重點(diǎn)布局硅光+CPO技術(shù)。

寫在最后

技術(shù)趨勢層面,2026年后3.2T光模塊與CPO技術(shù)將進(jìn)入商用階段,光芯片算力密度預(yù)計(jì)提升10倍。薄膜鈮酸鋰、量子點(diǎn)激光器等新材料將推動成本進(jìn)一步下探。產(chǎn)業(yè)格局上,中國廠商在25G以上高速芯片市場份額從2020年的5%提升至2025年的35%,國產(chǎn)化替代進(jìn)入深水區(qū)。

戰(zhàn)略價(jià)值方面,光芯片不僅是AI算力的基礎(chǔ)設(shè)施,更是6G通信、量子計(jì)算、生物傳感等前沿領(lǐng)域的核心支撐?!丁笆奈濉毙畔⑼ㄐ判袠I(yè)發(fā)展規(guī)劃》明確提出,到2030年建成全球領(lǐng)先的光芯片產(chǎn)業(yè)集群。在這場光電融合的革命中,技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)生態(tài)的共振正在改寫半導(dǎo)體行業(yè)的底層邏輯。從實(shí)驗(yàn)室到數(shù)據(jù)中心,從通信基站到自動駕駛,光芯片正以“隱形冠軍”的姿態(tài),托舉起一個(gè)萬物智聯(lián)的新時(shí)代。

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