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數據中心互連技術演變:光進銅退的完整路徑

Hobby觀察 ? 來源:電子發(fā)燒友網 ? 作者:梁浩斌 ? 2025-10-02 02:32 ? 次閱讀
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電子發(fā)燒友網報道(文/梁浩斌)隨著AI應用對算力需求的爆發(fā)增長,數據中心互連的要求提高,光模塊逐漸從800G邁向1.6T之后,CPO技術也開始受到行業(yè)重視。而英偉達、博通等廠商近幾年不斷強調CPO的重要性,也使得CPO已經在業(yè)界成為了一個共識:數據中心互連技術的未來,需要CPO技術的支撐。

CPO即共封裝光學,是將光學收發(fā)器直接與交換芯片/計算芯片集成在同一封裝中的一種技術。傳統(tǒng)的可插拔光學模塊雖然在較低數據速率下仍有應用空間,但隨著數據中心內部流量以近30%的復合年增長率激增,在信號完整性、功率效率和帶寬密度方面面臨挑戰(zhàn)。CPO通過最小化電氣鏈路長度,在早期實現(xiàn)中將功耗降低30-50%,并支持每秒超過800G和1.6T的高數據速率。

在數據中心互連技術的演變中,從傳統(tǒng)銅線到光纖,再到CPO,尤其是CPO技術中還存在多個發(fā)展階段。下文就將通過六個部分,來回顧和展望數據中心互連技術的演變。

DAC電纜(銅質直接連接電纜)

在最早的數據中心內部互連中,數據傳輸是通過銅纜進行的,在這個階段的架構是以交換芯片(Switch)通過OSFP/QSFP-DD連接器連接到DAC電纜為主,支持112G LR速率。主要特點在于依賴純電氣連接,適用于短距離數據傳輸,比如數據中心內部的機架間連接。優(yōu)點包括成本低廉、部署簡單,且無需光學轉換設備,功耗也較低。然而,缺點也非常顯著,包括銅線信號衰減嚴重,傳輸距離有限(通常僅幾米),功耗較高,無法滿足高密度和高速度的應用需求。這一階段代表了早期數據中心的低帶寬解決方案,隨著數據爆炸增長,已逐漸被光學技術取代。

可插拔光模塊

進入光通信時代,最廣泛應用的也是現(xiàn)階段常見的可插拔光模塊。交換芯片通過OSFP/QSFP-DD/COBO連接器連接到TRX(光收發(fā)器)模塊,再延伸到光纖,支持112G VSR(極短距離)/C2M(芯片到模塊)接口。

這種模式中,光模塊支持熱插拔,維護和升級都較為方便,優(yōu)點就在于靈活性高,標準化的光模塊易于替換升級,可以擴展傳輸距離并提升帶寬。而缺點是交換芯片到板邊緣的電氣鏈路仍然較長,導致導致信號損失和功耗增加,同時TRX采用Retimer和均衡器實現(xiàn)信號處理,功耗也較高。目前主流的數據中心內,中距離連接普遍采用光模塊,但隨著AI算力的需求不斷增長,未來將逐漸難以應對AI負載的需求。

當然,目前針對成本和800G解決方案的需求,也演變出LPO(線性可插拔光學)和LRO(線性接收光學)兩種技術路徑。

LPO是一種低功耗的可插拔光學模塊技術,它通過直接驅動光學組件,而非依賴傳統(tǒng)的DSP進行信號重定時和補償。在傳統(tǒng)光學模塊中,DSP負責處理信號失真、時鐘恢復和均衡,但這會消耗大量功率,尤其對于800G及以上速率的光模塊中。LPO則將DSP功能移到主機側,比如交換機ASIC上,從而簡化模塊設計,實現(xiàn)更低的功耗、更低成本和更低延遲。

而為了進一步降低功耗,在LPO的基礎上也演變出LRO技術。LRO同樣是省去DSP,相比LPO更加強調接收端的信號線性化,結合硅光技術實現(xiàn)高集成度,相比LPO的功耗更低,并在未來可以與CPO結合提升系統(tǒng)的整體效率。

板載光模塊(OBO)

作為過渡階段,OBO將光學模塊移到電路板上。結構上,交換芯片通過COBO連接器連接到TRX,再經被動連接器到光纖,仍使用112G VSR/C2M接口。

特點在于縮短了電氣鏈路,提高了集成度。優(yōu)點包括減少板邊緣連接,提升密度和效率;被動連接器簡化了光纖管理。缺點是模塊仍獨立于Switch,熱管理和功耗優(yōu)化有限,無法實現(xiàn)更深層的集成。這一階段適合需要更高密度的系統(tǒng),但尚未達到CPO的完整潛力。

2.5D共封裝光學

CPO技術的真正起點是2.5D CPO,這個階段的互連速率可以高達25Tb/s甚至50Tb/s,遠超傳統(tǒng)可插拔模塊。2.5D CPO中交換芯片ASIC直接與光學引擎封裝在同一基板上,核心結構基于硅中介層,將多個芯片并排放置,通過銅柱微凸點實現(xiàn)電氣連接,以支持高密度互連。相比3D堆疊,2.5D的側向布局簡化了制造工藝,但仍可以提供比2D封裝更高的集成度。

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來源:APNIC Blog

2.5D CPO特點在于引入模塊化芯片組設計,將Switch分解為可定制組件,進一步集成光學引擎。通過縮短電氣鏈路長度,減少信號損失和功率消耗。博通和英偉達的報告顯示,與傳統(tǒng)光模塊相比,2.5D CPO功率效率可提升3.5倍以上,每bit功耗降至<5 pJ/bit。

而缺點是芯片組集成增加了設計復雜度,中介層對準和鍵合要求高,需要先進封裝技術。這一階段針對未來超大規(guī)模數據中心,支持Tb/s級AI訓練應用,英偉達、博通已經有部分交換機產品應用了這項技術。

2.5D Chiplet CPO

2.5D Chiplet CPO是2.5D CPO的高級變體,將chiplet設計融入到2.5D封裝框架內,實現(xiàn)光學和電子組件的模塊化集成。其核心同樣是基于硅中介層,通過RDL和TVS連接多個Chiplet,支持高密度互連。其中,交換芯片被分解成多個小的Chiplet,比如將計算、I/O、內存等模塊分解,與PIC并排放置。

而光學組件包括激光器、調制器、探測器等與Chiplet異構集成,這種設計可以獨立優(yōu)化每一個模塊,便于升級和定制。在制造層面上,Chiplet間的對準和互連要求高,可能增加制造難度??傮w來看,2.5D Chiplet CPO是CPO邁向3D封裝的過渡階段。

3D CPO

通過3D封裝,CPO技術達到了最先進的階段。通過垂直堆疊光學和電子組件,實現(xiàn)更高的集成度和性能優(yōu)化,并解決了2.5D CPO的面積限制和信號延遲問題,能夠支持超過100Tb/s的帶寬。
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來源:Alphawave semi
3D CPO的核心結構基于垂直堆疊和TSV技術,將光學和電子層疊加,實現(xiàn)無縫集成。硅光子芯片作為基底層,集成激光器、波導、光學切換和路由功能。上層堆疊電子集成電路如ASIC和PIC,通過TSV和微凸點實現(xiàn)層間互連,實現(xiàn)更短的跡線,減少信號損失。

計算芯片如ASIC,被多個硅光子IC收發(fā)器芯片組包圍,垂直堆疊在中介層上。光學引擎包括調制器、探測器和光纖陣列單元FAU,直接與電子層耦合。激光源則置于基底層,光信號通過波導垂直傳輸到上層。外部光纖通過FAU連接,支持高密度接口如USR/XSR。

相比2.5D的側向布局,3D堆疊減少了占用面積,實現(xiàn)更緊湊的設計。但與此同時,其面臨的制造和熱管理難度也非常大,制造中層間對準和TSV要求高,良率較低,成本較高;垂直堆疊增加熱密度,需要有更好的散熱方案。

總體來說,3DCPO通過垂直堆疊實現(xiàn)光學與電子的深度融合,提供超高性能、低功耗的解決方案。它在結構上強調層疊集成,在特點上突出密度和效率,是未來的CPO技術趨勢之一。

寫在最后:

從銅線DAC到3D CPO的六個發(fā)展階段背后,是數據中心互連需求不斷提高的需求,高速互連逐步從電氣依賴轉向光學主導,并在光學階段進一步出現(xiàn)多種技術路徑的演變。未來,隨著制造技術的成熟,光學技術將推動數據中心向更高算力、更高效的方向發(fā)展。

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