安森美（onsemi）憑借其業(yè)界領先的Si和SiC技術，從變電站的高壓交流/直流轉換，到處理器級的精準電壓調節(jié)，為下一代AI數據中心提供了從3kW到25-30kW HVDC的供電全環(huán)節(jié)高能效、高密度電源解決方案。特別是近期，安森美攜手英偉達，共推下一代AI數據中心加速向800V直流供電方案轉型，這種技術能力的廣度和深度使安森美成為少數能以可擴展、可實際落地的設計滿足現代AI基礎設施嚴苛供電需求的公司之一。

在2025 PCIM Asia 展會期間，安森美 SiC JFET產品市場經理Brandon Becker接受大半導體產業(yè)網、與非網、Bodos功率系統(tǒng)多家媒體采訪，講述了安森美在AI數據中心領域的產品布局和發(fā)展情況。

從核心器件到系統(tǒng)方案，覆蓋AI供電全鏈路

安森美此次展出的產品線極具針對性，直指高功率、高效率的應用場景。其展品包括：12kW高功率PSU、3kW LLC、3kW圖騰柱PSU、40W輔助電源等等。

其中，明星產品——12kW AI電源模塊：這款在全球技術背景下開發(fā)，并已在海外PCIM展上亮相的模塊，此次正式登陸亞洲。它不僅具備高功率密度，還能實現AI電源97.5%以上的超高效率。

這套從AC-DC到DC-DC的端到端解決方案，確保了數據中心供電鏈的每一個環(huán)節(jié)都能協同工作，最終實現系統(tǒng)整體效率的最大化。

Brandon指出，在AI領域，效率不僅僅是技術指標，更是直接的經濟賬。他為我們算了一筆令人印象深刻的賬：“如果幫客戶節(jié)省0.33%的功耗，大約相當于3W。一個機架每年可節(jié)省約550美元電費。而AI數據中心通常以3000臺起算，這意味著每年可節(jié)省高達165萬美元的電費?！?/p>

這筆巨額節(jié)省直觀地揭示了為何“效率”成為AI基礎設施最核心的訴求。安森美著力打造的端到端解決方案，其終極目標正是通過系統(tǒng)級的協同優(yōu)化，將總擁有成本和運營成本降至最低。這一切都歸根于讓整個系統(tǒng)協調一致，最終為每一個數據中心實現每年上百萬美元的成本節(jié)約。

垂直整合+超30年碳化硅專長

要實現如此卓越的性能，離不開深厚的技術積累和強大的制造能力。Brandon表示，安森美的碳化硅技術團隊，其專業(yè)知識積累均超過30年。無論是SiC MOSFET技術，還是SiC JFET技術。他說：“技術并不在于某幾件設備，而是這么多年以來在技術上的經驗積累?！?/p>

安森美對全垂直供應鏈有著精準把控，面對碳化硅制造中“長晶”和“氧化層工藝”的挑戰(zhàn)，安森美已深耕5-8年，并從一開始就以嚴苛的車規(guī)需求為標準。公司實現了從粉料、晶圓到芯片的全程內部制造和測試，通過海量的在線測試和自動化設備，將不良率大幅下降至1PPM（百萬分之一）以下。這種垂直整合模式確保了從晶體生長到最終成品每一個環(huán)節(jié)的質量可控與優(yōu)異。

創(chuàng)新引擎為下一代布局賦能

Brandon介紹說，為應對不同應用場景的痛點，安森美推出了多項創(chuàng)新技術：

碳化硅Combo技術：在MOSFET主導的市場中，Combo技術解決了高壓高功率應用中的電路保護難題。其熱性能曲線優(yōu)于一般碳化硅MOSFET，能更好地應對電流和溫度的劇烈變化，同時實現了業(yè)內領先的每平方厘米平均電阻。

JFET與MOSFET的協同設計：在最新的650V參考設計中，安森美同時采用了碳化硅MOSFET和JFET。在PFC等硬開關電路中，MOSFET表現更佳；而在LLC等軟開關的DC-DC電路中，JFET因其更低的開關損耗而更為適合。兩者協同工作，共同實現了系統(tǒng)能效和功率密度的最大化。

下一代技術路線圖：安森美的研發(fā)從未止步，正從平面的M3 MOSFET技術，向2026年即將發(fā)布的溝槽式M4 MOSFET技術演進。在JFET方面，已進入溝槽產品階段，實現了每平方厘米0.7毫歐的極低電阻。同時，公司也在探索將氮化鎵與碳化硅技術結合，以創(chuàng)造更多可能性。

應對800V轉型，安森美SiC器件成關鍵推手

英偉達在今年5月就宣布了一項關鍵決策：自2027年起率先推動機架電源從54V直流向800V高壓直流（HVDC）轉變，以支撐單機架功率超1MW的下一代AI數據中心。

800V供電架構的變革會給上游供應鏈產生較大的影響，將直接推動功率器件向高壓化與高頻化方向升級。以集中整流環(huán)節(jié)為例，尤其是關鍵的固態(tài)變壓器（SST）中，需要使用耐壓等級達2300V至6500V甚至更高的SiC MOSFET。與傳統(tǒng)的硅基IGBT相比，SiC器件在高壓高頻工況下的開關損耗可降低一個數量級，是整個供電鏈路實現端到端效率提升約5%的目標的重要基礎。

“AI電源對效率要求極高，要在高功率條件下實現97.5%以上的效率，功率半導體器件尤為關鍵。以英偉達NVL72的Power Rack為例，單個機架節(jié)省0.33%的損耗（約3W）看似微不足道，僅能省下約550美元電費。但在AI數據中心以3000臺起算的規(guī)模下，這筆微小的節(jié)省將聚合為每年高達165萬美元的巨額電費削減。這正是效率優(yōu)化在數據中心應用中至關重要的原因：微小的百分比提升，通過規(guī)?；糯?，將帶來極具意義的運營成本降低?！?安森美 SiC JFET產品市場經理Brandon Becker如是說。

同時，Brandon Becker指出，從現有的400V系統(tǒng)（普遍采用650V/750V器件）升級至800V系統(tǒng)，其關鍵瓶頸在于高壓器件——如1200V SiC MOSFET與JFET的成熟度。目前市場上能提供此類器件的供應商寥寥，而安森美憑借在車規(guī)級800V電池系統(tǒng)中積累的經驗，已具備快速響應AI服務器市場的能力。